微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 4..M *U  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 E! GH$%:;  
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目录 o]M1$)>b+  
译者序 c> 0R_  
前言 ,n3e8qd  
第1章面浮雕衍射光学元件 x/dyb.  
1.1制造方法 ^).  
1.2周期和波长比 Qg]+&8!*  
1.3光栅形状 p?2^JJpUb  
1.4深度优化 =6'Fm$R  
1.5错位失对准 8I[=iU7]l  
1.6边缘圆形化 PH$C."Vv  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 )uu(I5St  
1.8表面纹理结构 es^@C9qt  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 cq0-Dd9^&  
1.10太阳电池的表面纹理结构 4;*
jE (  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 V+5av Z}  
1.12成形金属基准层的制造工艺 q ;"/i*+3  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 .
XT]\'vW  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 UvR.?js(O  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 ezb*tN!  
致谢 3Fw7q"  
参考文献 N*+L'bO  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 \`;1[m  
2.1概述和回顾 Tq?7-_MLC$  
2.2基本的刻蚀处理技术 Z4oD6k5oc  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 -}u1ZEND  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 rf+Z0C0WYi  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 hg2Ywzfm-  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 ik#ti=.  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 :nOI|\rC  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 n^|SN9_r  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 U@9v(TfV  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 21O@yNpS$  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 )#8}xAjV  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 DwGRv:&HH  
致谢 U+R9bn   
参考文献 $zM \Jd  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 8<Pi}RH  
3.1概述 Rl&nR$#  
3.2相位掩模技术 pgQ^w0BQV  
3.3光学元件的设计和制造 .k$Yleg  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 g:Q:cSg<  
3.3.2相位掩模的设计 +%H=+fJ2}  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 uFA}w:Fm  
3.4轴对称元件的设计和制造 9k\M<jA  
3.5结论 +|Izjx]
ZV  
参考文献 Tm$8\c4V:*  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 n-g#nEc:  
4.1概述 +p[O|[z  
4.2电子束光刻术 W[R`],x`  
4.2.1电子束光刻术发展史 wrc1N?[bn  
4.2.2电子束光刻系统 Fi/`3A@68  
4.2.3电子束光刻技术 &@FufpPw/  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 P%ThW9^vnj  
4.3.1回顾 Y9I|s{~  
4.3.2硅 KrR`A(=WL  
4.3.3砷化镓 I@5$<SN  
4.3.4熔凝石英 1]9l SE!E7  
4.4光学器件加工实例 :|8!w  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ;66{S'*[  
4.4.2熔凝石英微偏振器 *pDS%,$xe  
4.4.3砷化镓双折射波片 ~^'WHuzPy  
4.5结论 X#Ob^E%J  
致谢 ii&ckg>]z  
参考文献 IwBO#HR
~)  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 f:t j   
5.1概述 cY Qm8TR<  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 M)U)Sc zHO  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 J\>/J%  
5.3.1纳米压印组件和工艺 @-Y,9mM  
5.3.2纳米压印设备 re,}}'  
5.4商业化器件的应用 9R">l5u  
5.4.1通信用近红外偏振器 =v0w\( ?N  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 D^a(|L3;  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） q&}+O  
5.4.4高亮度发光二极管 _8ks`O#}  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 >3*a&_cI=k  
5.4.6多层集成光学元件 wz{c;v\J^  
5.4.7分子电子学存储器 |tU wlc>  
5.4.8光学和磁数据存储 f]mVM(XZN  
5.5结论 cj^hwtx   
致谢 k)[c!\a[i  
参考文献 Gx4{ 9  
第6章平面光子晶体的设计和制造 dWu;F^  
6.1概述 ktRGl>J  
6.2光子晶体学基础知识 =p7id5"  
6.2.1晶体学术语 )||CU]"b?  
6.2.2晶格类型 J qmL|
S)  
6.2.3计算方法 4CtWEq  
6.3原型平面光子晶体 |lk:(~DM  
6.3.1电子束光刻工艺 pe>?m^gz[  
6.3.2普通硅刻蚀技术 7F_N{avr  
6.3.3时间复用刻蚀 ?G<?:/CU  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 m.\JO  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 lauq(aD_C  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 Ck>]+rl  
6.4.2负折射 ;.rY`<|  
6.5未来应用前景 ]>ndFE6kl  
参考文献 :."6g)T  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 HIt9W]koO  
7.1对称性、拓扑性和PBG nywC]T  
7.2金属光子晶体 ]rNxvFN*j  
7.3金属结构的可加工性 d{7)_Sbky  
7.4三维光子晶体的制造 UI'fzlB  
7.5胶体模板法 vP+qwvpGr  
7.6微光刻工艺 $dWYu"2CD  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 (i?9/8I  
7.8膜层应力 FD~ UF;VQ  
7.9对准 1~},}S]id  
7.10表面粗糙度
)D)4=LJ  
7.11侧壁轮廓 aR'~=t&;z1  
7.12释放刻蚀 `I4E': ZG  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 bE@Eiac  
7.14结论 'NCx<0*  
致谢 ]=]MJ3_7  
参考文献