微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 _@0>yMZ^  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 Jq)!)={  
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Q}ho Y  
目录 weC$\st:D  
译者序 :M(%sv</  
前言 }./_
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第1章面浮雕衍射光学元件 Dt\F]\6sd  
1.1制造方法 I0oM\~#  
1.2周期和波长比 FQSepUl  
1.3光栅形状 Kr`Cr5v  
1.4深度优化 B@dA?w.x  
1.5错位失对准 cMxTv4|wui  
1.6边缘圆形化 *b9=&:pU(  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 R+IT)2  
1.8表面纹理结构 8E1swH5z
 
1.9熔凝石英表面的纹理结构 5'gV_U  
1.10太阳电池的表面纹理结构 h_L-M}{OG  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 1Iu^
+  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ;,n{6`  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 i[A$K~f  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ^yiRrcOo  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀
hb7H- Z2  
致谢 & D4'hL3  
参考文献 %c)^8k;I  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 HjUs}#</  
2.1概述和回顾 pA9^-:\*  
2.2基本的刻蚀处理技术 PO5/j  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 1I^[_ /_\y  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 [5^"U+`{x  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 /qA\|'~  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 k2muHKBlk  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 FS30RP3 `/  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 _c?&G`  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 ]cLO-A  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 u-0-~TwD  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 4M'y9(  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 OF*m9  
致谢 DE:FWD<}  
参考文献 PX}YDC zP$  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 0dA'f0Uy\X  
3.1概述 8W Mhe=[  
3.2相位掩模技术 rI)op1K  
3.3光学元件的设计和制造 }6MHIr=o  
3.3.1光致抗蚀剂的性质  RSXYz8{  
3.3.2相位掩模的设计 jHq.W95+P  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ju`x   
3.4轴对称元件的设计和制造 a,IE;5kG  
3.5结论 .~qu,q7k~  
参考文献 6VpT*,2d~  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 [f,; +Ze  
4.1概述 8R}CvzI  
4.2电子束光刻术 ,cD(s(6+  
4.2.1电子束光刻术发展史 E$dPu  
4.2.2电子束光刻系统 l -us j%\  
4.2.3电子束光刻技术 =B_v
QJF2  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 `)$'1,]u  
4.3.1回顾 p=_K P9  
4.3.2硅 2bwf(  
4.3.3砷化镓 zts%oIgV  
4.3.4熔凝石英 <z+5+h|^  
4.4光学器件加工实例 < TJzp  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 F1%-IBe  
4.4.2熔凝石英微偏振器 :4|ubu  
4.4.3砷化镓双折射波片 Mq;m+{B  
4.5结论 zLdi  
致谢 Hy~kHBIL  
参考文献 ;LM`B^Q]s  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 v:kTZB  
5.1概述 qV2aa9p+  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 /iFtW#K+  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 WVlyR\.  
5.3.1纳米压印组件和工艺 uQgv ;jsPz  
5.3.2纳米压印设备 H$Om{r1j  
5.4商业化器件的应用 |%.V{vgP7  
5.4.1通信用近红外偏振器 ,;9byb  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 ~ {OBRC  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） wd&Tf R4!  
5.4.4高亮度发光二极管 jy#'oadS?  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 s 8O"U%  
5.4.6多层集成光学元件 @*'$QD,  
5.4.7分子电子学存储器 H;5FsKIF  
5.4.8光学和磁数据存储 ^y"5pfSR  
5.5结论 ,tBb$T)7<  
致谢 k!-(Qfz  
参考文献 luAmq+  
第6章平面光子晶体的设计和制造 f/Cf2 K  
6.1概述
z4 4(  
6.2光子晶体学基础知识 |E)-9JSRy  
6.2.1晶体学术语 ]/>(C76  
6.2.2晶格类型 `{BY {  
6.2.3计算方法 kpFt  
6.3原型平面光子晶体 }: v&Nc  
6.3.1电子束光刻工艺 Q@zD'G>  
6.3.2普通硅刻蚀技术 z.EpRJn  
6.3.3时间复用刻蚀 ]
Q-*xho  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 X}Heaqn  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 'o41)p  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 iOk^RDG+  
6.4.2负折射 eiE36+'>b  
6.5未来应用前景 z&x ^Dl  
参考文献 RQ}0f5~t  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 (Q~ p"Ch  
7.1对称性、拓扑性和PBG I6!~(ND7  
7.2金属光子晶体 (/6~*<ZGT  
7.3金属结构的可加工性 }U-h^x'  
7.4三维光子晶体的制造 ~wtl\-cY  
7.5胶体模板法 Se*o{V3s$  
7.6微光刻工艺 701ei;  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 
M:&g5y&  
7.8膜层应力 i> }P V  
7.9对准 `a*_b9  
7.10表面粗糙度 op!8\rM<e  
7.11侧壁轮廓 B
.)!zv\{  
7.12释放刻蚀 4#jW}4C{  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 x93t.5E6  
7.14结论 Z]U"i1lA  
致谢 IpX.ube  
参考文献