微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 Q_S fFsY  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 @M-bE=  
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目录 ;a|A1DmZ  
译者序 ;X>KP,/r$  
前言 : f
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第1章面浮雕衍射光学元件 J_tJj8  
1.1制造方法 H$ v4N8D8I  
1.2周期和波长比 !&X}?NK  
1.3光栅形状 F!U+IztZ  
1.4深度优化 *E>YLkg]  
1.5错位失对准 _-^@Jx[
 
1.6边缘圆形化 8Og9P1jVh  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 6sntwT"?  
1.8表面纹理结构 ;2$^=:8  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 WZZD  
1.10太阳电池的表面纹理结构 b]Jh0B~Y  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 nt4>9;  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ){/y-ixH  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 {3?g8e]zr  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 6w54+n  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 N$.''D?7D  
致谢 edm&,ph]  
参考文献 X|b~,X%N  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 2'++G[z  
2.1概述和回顾 _A(J^;?  
2.2基本的刻蚀处理技术 FQ[::*-  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 -7lJ   
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 4Hu.o7  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 #fwG~Q(  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 (2S,0MHk  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 2o,%O91p  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 y- g5`@  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 7Y_S%B:F  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 4ed( DSN  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 <K)^MLgN  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 9nB:=`T9  
致谢 1w35H9\g  
参考文献 ,cS|fG  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 e-Eoe_k  
3.1概述 [ %r :V"  
3.2相位掩模技术 idV4hMF9  
3.3光学元件的设计和制造 Pocm.  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 jn]{|QZ  
3.3.2相位掩模的设计 K2!KMhvQ  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 >RR
b8=[J  
3.4轴对称元件的设计和制造 h!$W^Tm2g  
3.5结论 Zl]\sJ1"  
参考文献 o-R;EbL  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 -\LB>\;qn  
4.1概述 9NVe>\s_  
4.2电子束光刻术 2@=
JIMtc  
4.2.1电子束光刻术发展史 WJ=^r@Sf  
4.2.2电子束光刻系统 ZNzye1JSm  
4.2.3电子束光刻技术 \4mw>8wA  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 6kHAoE
Rp  
4.3.1回顾 b{9q   
4.3.2硅 R5qC;_0cV  
4.3.3砷化镓 +DksWbD  
4.3.4熔凝石英 ;A1pqHr  
4.4光学器件加工实例 TR]~r2z  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 eEXer>Rm   
4.4.2熔凝石英微偏振器 p1CY?K  
4.4.3砷化镓双折射波片 :v=Yo  
4.5结论 J v'$6[?  
致谢 (@mvNlc:  
参考文献 cs,%Zk.xjw  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 1)vdM(y3j  
5.1概述 GYZzWN}U  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 !XQG1!|ww  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 4$@)yZ  
5.3.1纳米压印组件和工艺 /`3<@{D  
5.3.2纳米压印设备 <T{PuS1<o  
5.4商业化器件的应用 [<7Hy,xr_  
5.4.1通信用近红外偏振器 8v_HIx0xu  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 7i,}F|#8  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） pX+`qxF\  
5.4.4高亮度发光二极管 V07e29w  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 nxw]B"Eg  
5.4.6多层集成光学元件 \XD&0inv  
5.4.7分子电子学存储器 )k{zRq:d  
5.4.8光学和磁数据存储
Q&rpW:^v  
5.5结论 t L}i%7  
致谢 H0_hQ:K   
参考文献 E$T)N U\  
第6章平面光子晶体的设计和制造 W/OZ}ky}^  
6.1概述 9U^jsb<St>  
6.2光子晶体学基础知识 P'xq+Q  
6.2.1晶体学术语 weYP^>gH'  
6.2.2晶格类型 G
BV]7.  
6.2.3计算方法 ggIz)</  
6.3原型平面光子晶体 7g[T#B'/x,  
6.3.1电子束光刻工艺 8lh{ R
  
6.3.2普通硅刻蚀技术 |]w0ytL>(2  
6.3.3时间复用刻蚀 .A//Q|ot!  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 I6ffp!^}Y  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 *2Il{KOA^  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 "WV]| TS"]  
6.4.2负折射 a`|&rggN  
6.5未来应用前景 c%n[v3]  
参考文献 :$lx]  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 e/'d0Gb-  
7.1对称性、拓扑性和PBG +pURF&Pr  
7.2金属光子晶体 Zu951+&`  
7.3金属结构的可加工性 #XE`8$  
7.4三维光子晶体的制造 *W~+Nho.A  
7.5胶体模板法 l:5x*QSX  
7.6微光刻工艺 3iMh)YH5b  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 f$[6]7P  
7.8膜层应力 -}_-#L!Q  
7.9对准 x'tYf^Va28  
7.10表面粗糙度 o|FRG{TJ  
7.11侧壁轮廓 -$yNJ5F`  
7.12释放刻蚀 t:X\`.W  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 apPn>\O  
7.14结论 ]-FK6jw  
致谢 pHSq,XP-  
参考文献