《国际信息工程先进技术译丛:微
光学和
纳米光学
制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的
模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。
3[i!2iL. 《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、
光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。
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}w^ T9OC j/mp.'P1k 目录
+5|nCp6||j 译者序
LtWU"42 前言
&b")`p&K 第1章面浮雕衍射光学元件
LP6FSo~K 1.1制造方法
Z?aR9OTP
1.2周期和
波长比
6 |qvo+% 1.3光栅形状
$#W6z: 1.4深度
优化 =\7p0cq&* 1.5错位失对准
CWsv#XOg] 1.6边缘圆形化
g*.(!
! 1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化
_ rVX_
1.8表面纹理结构
_`[6jhNa! 1.9熔凝石英表面的纹理结构
nGgc~E$j 1.10太阳
电池的表面纹理结构
GZVl384@ 1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法
ZDJWd=E 1.12成形金属基准层的制造工艺
Cwf$`?|W 1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀
W&f Py%g
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀
I/V#[K C 1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀
Vy~$%H94 致谢
5(`GF| 参考文献
+p6\R;_E 第2章微光学等离子体刻蚀加工技术
`0sk2fn 2.1概述和回顾
lfeWtzOf 2.2基本的刻蚀处理技术
l:,UN07s 2.3玻璃类
材料的刻蚀工艺
m1i$>9, 2.4硅材料微光学结构的刻蚀
2Lgvy/uN 2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺
P]{.e UB@c 2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件
j|dzd<kE6 2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺
EXzNehO~e 2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用
A"VXs1>_^ 2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6
Cfb-:e$0 2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺
gt (nZ 2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺
3Dv koV 2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术
.: ;Hh~ 致谢
lD#1"$Coz 参考文献
yP]W\W' 第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术
',7Z1O 3.1概述
tSa%ZkS 3.2相位掩模技术
t3JPxg]0k' 3.3光学元件的设计和制造
=:8=5tj 3.3.1光致抗蚀剂的性质
k T>}(G|| 3.3.2相位掩模的设计
()
;7+ 3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺
!$#4D&T 3.4轴对称元件的设计和制造
"0)G|pZI 3.5结论
:#jv4N 参考文献
o?+e_n= 第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术
g``4U3T%X 4.1概述
XhV"<&v 4.2电子束光刻术
C YKGf1;If 4.2.1电子束光刻术发展史
UF&Wgj [ 4.2.2电子束光刻
系统 )E2Lf] 4.2.3电子束光刻技术
.e#j#tQp 4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术
=ab}.dWC 4.3.1回顾
^
?9
~R" 4.3.2硅
=K8h)B_g 4.3.3砷化镓
{v
0(0 4.3.4熔凝石英
'#6DI"vJ
4.4光学器件加工实例
[~S0b 4.4.1熔凝石英自电光效应器件
=@l5He.]& 4.4.2熔凝石英微偏振器
LnX^*;P5t 4.4.3砷化镓双折射波片
hJNA% 4.5结论
f|5|n>* 致谢
U6PUt'Kk@ 参考文献
epm|pA* 第5章纳米压印光刻技术和器件应用
3i~{x[Jc 5.1概述
I =pd jD 5.2压印图形化和压印光刻术的发展史
m:CpDxzbf 5.3纳米压印光刻术的相关概念
gk%ye&:f 5.3.1纳米压印组件和工艺
=&GV\ju 5.3.2纳米压印设备
s:P-F0q!& 5.4商业化器件的应用
O0RQ}~$'m 5.4.1通信用近红外偏振器
xw
Qkk 5.4.2投影显示用可见光偏振器
5]JXXdt 5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD)
*CSFkWVa 5.4.4高亮度发光二极管
&LYZQ?| 5.4.5微光学(微
透镜阵列)和衍射光学元件
8/v_ uEG 5.4.6多层集成光学元件
`#F>?g$2 5.4.7分子电子学存储器
tWIhbt 5.4.8光学和磁数据存储
0IuU4h5Fr 5.5结论
-tZb\4kh 致谢
t-/^ O 参考文献
6m&I_icM 第6章平面光子晶体的设计和制造
,3u19>2 6.1概述
P6rL;_~e 6.2光子晶体学基础知识
tnntHQ&b 6.2.1晶体学术语
T^t`Hp 6.2.2晶格类型
l[Oxf| 6.2.3计算方法
u05O[>w 6.3原型平面光子晶体
%# #
bg< 6.3.1电子束光刻工艺
QKxuvW 6.3.2普通硅刻蚀技术
l|9`22G 6.3.3时间复用刻蚀
.&xc2sRZ 6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺
V6N#%(?3 6.4基于色散特性的平面光子晶体
lM]7@A 6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导
ga1RMRu+ 6.4.2负折射
:T2K\@ 6.5未来应用前景
oT w1w 参考文献
K\PS$ 第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法
RIlPH~
7.1对称性、拓扑性和PBG
@VFg XN 7.2金属光子晶体
N]~q@x;<)3 7.3金属结构的可加工性
xhv)rhu@ 7.4三维光子晶体的制造
WD]dt!V% 7.5胶体模板法
6}0#({s:R 7.6微光刻工艺
qSR
%# 7.7利用“模压”技术制造光子晶体
iC">F.9# 7.8膜层应力
Z1zC@z4sUj 7.9对准
F7df 7.10表面粗糙度
$: -Ptm@ 7.11侧壁轮廓
fO+;%B 7.12释放刻蚀
-J:vYhq|g 7.13测量方法、测试工具和失效模式
aj:+"X-; 7.14结论
ZtiOf}@i\ 致谢
TG($l2 参考文献