微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 [(*Eg!?W
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《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 hGD@v{/  
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目录 3\}u#/Vb  
译者序 yOz6a :r  
前言 d%k7n+ICQ4  
第1章面浮雕衍射光学元件 h9 DUS,G9,  
1.1制造方法 vzs4tkG  
1.2周期和波长比 +r"}@8/\1  
1.3光栅形状 ?u:`?(
\  
1.4深度优化 AjEy@/  
1.5错位失对准 KJyCfMH&:@  
1.6边缘圆形化 RYCiO,+  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 f$^wu~  
1.8表面纹理结构 A"pQOtrm\k  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 m
mJnE  
1.10太阳电池的表面纹理结构 j|pTbOgk%  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 Qqg.z-G%.  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ~.3v\Q  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 E`_T_O=P  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 f@YdL6&d-  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 MuMq%uDA"  
致谢 bu6Sp3g  
参考文献 Az y`
4  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 :AlvWf$d  
2.1概述和回顾 m2^vH+wD  
2.2基本的刻蚀处理技术 s i2@k  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 'i$._Tx  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 roc DO8f  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 "9'3mmZm=?  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 J|{50?S{^  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 OR6vA5J  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 T1$p%yQH  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 swZi O_85  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 kCEuzd=$V  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 nxV!mh_  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术
J:W+'x`@  
致谢 n*$g1HG6  
参考文献 KF#^MEw%  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 vC>2%Zgf-  
3.1概述 .F$}a%  
3.2相位掩模技术 g]Y%c73  
3.3光学元件的设计和制造 VsSAb%
  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 >k`qPpf&  
3.3.2相位掩模的设计 }=v4(M`%  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 V-#JV@b  
3.4轴对称元件的设计和制造 ppn  8  
3.5结论 >3D1:0Sg  
参考文献 ``<#F3  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 3'x>$5W  
4.1概述 40MKf/9  
4.2电子束光刻术 s"#N;  
4.2.1电子束光刻术发展史 ^_3Ey  
4.2.2电子束光刻系统 ]cP%d-x}  
4.2.3电子束光刻技术 w;}5B~).  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 bP-(N14x+  
4.3.1回顾
ds+K7B$  
4.3.2硅 B|a<=
~  
4.3.3砷化镓 +`wr{kB$~  
4.3.4熔凝石英 ?xUl_  
4.4光学器件加工实例 f_O|  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 +o4o!;E)  
4.4.2熔凝石英微偏振器 ]
Xa]a}[uE  
4.4.3砷化镓双折射波片 :Ef!gpS}?R  
4.5结论 .S|T{DMQ[  
致谢 _Ycz@Jn  
参考文献 {sB-"NR`K  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 Bj4c_YBte  
5.1概述 ]tu OWR  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 w^8Q~3|7  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 e@VJ-s  
5.3.1纳米压印组件和工艺 RQWUO^&e^  
5.3.2纳米压印设备 yLLA:5Q1  
5.4商业化器件的应用 <%3fJt-Ie  
5.4.1通信用近红外偏振器 ,=CipL9]  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 } 'xGip@W  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） MkFWZ9c3  
5.4.4高亮度发光二极管 9;XbyA]  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 :I7qw0?  
5.4.6多层集成光学元件 $:5h5Y#z  
5.4.7分子电子学存储器 XM!oN^  
5.4.8光学和磁数据存储 <w}i  
5.5结论 xib}E[-l#  
致谢 !]s=9(O  
参考文献 mY"Dw^)  
第6章平面光子晶体的设计和制造  U%r{{Q1  
6.1概述 ='D%c^;O8'  
6.2光子晶体学基础知识 037\LPO  
6.2.1晶体学术语 ;DX{+Z[  
6.2.2晶格类型 X~m57bj  
6.2.3计算方法 -SD:G]un  
6.3原型平面光子晶体 Ay6T*Nu`  
6.3.1电子束光刻工艺 z^gz kXx7  
6.3.2普通硅刻蚀技术 z5({A2q  
6.3.3时间复用刻蚀 b/*QV0(  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 An(gHi;1$  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 FEhBhv|m  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 o7+<sL  
6.4.2负折射 1f^oW[w&  
6.5未来应用前景 zx"EAF{  
参考文献 hU(  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 0e"KdsA:<U  
7.1对称性、拓扑性和PBG yD3vq}U!  
7.2金属光子晶体 M6cybEk`  
7.3金属结构的可加工性 1c"s+k]9  
7.4三维光子晶体的制造 Bz,D4E$  
7.5胶体模板法 J%ws-A?6rN  
7.6微光刻工艺 Ap\]v2G  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 6C.!+km  
7.8膜层应力 IA1O]i S  
7.9对准 xF)
 .S@  
7.10表面粗糙度 |af<2(d  
7.11侧壁轮廓 ZHA&gdK@  
7.12释放刻蚀 NY?iuWa*g  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 YVRE9  
7.14结论 :/? Op  
致谢 Th,]nVsGs~  
参考文献