微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 %EH)&k  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 N7"W{"3D  
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目录 nlP;nlW  
译者序 @JMiO^  
前言 3fj4%P"  
第1章面浮雕衍射光学元件 jcOcWB|  
1.1制造方法 79gT+~z  
1.2周期和波长比 [,Gg^*umS  
1.3光栅形状 +(Ae4{z"1+  
1.4深度优化 0mE 0 j  
1.5错位失对准 js(pC@<q5  
1.6边缘圆形化 y(#e}z:  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 _6Sp QW  
1.8表面纹理结构 j#|ZP-=1_  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 Sjqpec8  
1.10太阳电池的表面纹理结构 (.:e,l{U%  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 e'~3oqSvR  
1.12成形金属基准层的制造工艺 }bxs]?OW>  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 r!v\"6:OM  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 (PLUF
T  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 aE8VZ8tvq  
致谢 y29m/i:  
参考文献 Q &
8-\  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 :#Wd~~d  
2.1概述和回顾 O.? JmE  
2.2基本的刻蚀处理技术 G|Ti4_w  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 z{ dEC %  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 MgZ/(X E  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 1MFbQs^  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 }BEB1Q}L  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 _a, s )  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 m67V_s,7B  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 yi[x}ffdE  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 #!=tDc &  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 97Vtn4N3  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术  mh%VrAq  
致谢 6tZI["\   
参考文献 W9&=xs6  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 UMi~14& ;  
3.1概述 Gv&V|7-f0  
3.2相位掩模技术 k$VlfQ'+  
3.3光学元件的设计和制造 =pNY eR_[  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 kh<2BOV  
3.3.2相位掩模的设计 C!gZN9-  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 CpN>p.kM  
3.4轴对称元件的设计和制造  " bG2:  
3.5结论 8ag!K*\V<  
参考文献 WH\d| 1)  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 )X7A  
4.1概述 (FV >m  
4.2电子束光刻术
rv;3~'V  
4.2.1电子束光刻术发展史 y =@N|f!  
4.2.2电子束光刻系统 GgU/!@  
4.2.3电子束光刻技术 _1^'(5f$  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 /Oono6j  
4.3.1回顾 z?zL97H  
4.3.2硅 )7@0[>  
4.3.3砷化镓 ZCw]m#lS  
4.3.4熔凝石英 2wn2.\v M  
4.4光学器件加工实例 9WHddDA  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 iU-j"&L5  
4.4.2熔凝石英微偏振器 $b\P|#A  
4.4.3砷化镓双折射波片 b>k y  
4.5结论 jIyQ]:*p  
致谢 _F{C\}  
参考文献 2%1hdA<  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 a*;b^Ze`v  
5.1概述 G$PE}%X  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 +\'tE~V  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 ;S{(]K7i  
5.3.1纳米压印组件和工艺 =a!=2VN9y  
5.3.2纳米压印设备 E`q_bn  
5.4商业化器件的应用 2c}E(8e]  
5.4.1通信用近红外偏振器 ^Cmyx
3O^  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 E7hhew  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） k9R9Nz|J  
5.4.4高亮度发光二极管 J,G lIv.A  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 6zkaOA46V  
5.4.6多层集成光学元件 qR.Q,(b|  
5.4.7分子电子学存储器 X]=t>
 
5.4.8光学和磁数据存储 !k%#R4*>  
5.5结论 s
{++w5s  
致谢 m|# y >4  
参考文献 ]_Xl
q_[/r  
第6章平面光子晶体的设计和制造 )[ ,A_3E  
6.1概述
0V]s:S  
6.2光子晶体学基础知识 "b[5]Y{ U  
6.2.1晶体学术语 zT/\Cj68  
6.2.2晶格类型 wBzC5T%,  
6.2.3计算方法 ToQ"Iy?  
6.3原型平面光子晶体 BVm0{*-[|  
6.3.1电子束光刻工艺 'yth'[  
6.3.2普通硅刻蚀技术 H]!"Zq k  
6.3.3时间复用刻蚀 &zhAh1m  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 GfG|&VNlz  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 !BI;C(,RL  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导
O f#:  
6.4.2负折射 l~.-e^p?  
6.5未来应用前景 *VeRVaBl  
参考文献 4YHY7J  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 [Q =Nn  
7.1对称性、拓扑性和PBG H"KCK6  
7.2金属光子晶体 ] - .aL  
7.3金属结构的可加工性 mq[ug>  
7.4三维光子晶体的制造 2tLJU Z1  
7.5胶体模板法 y]imZ4{/  
7.6微光刻工艺 D0Cy^_  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 1}37Q&2  
7.8膜层应力 G:JR7N$  
7.9对准 1cGmg1U;  
7.10表面粗糙度 yNc2@  
7.11侧壁轮廓 $N\Ja*g  
7.12释放刻蚀 ]?)TdJ`  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 7|D+Ihy;  
7.14结论 -+5>|N#  
致谢 s(^mZ -i  
参考文献