微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 &&VqD w  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 l"2OP6d  
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目录 *H.oP  
译者序 3l3'bw2  
前言 .?!N^_ Ez3  
第1章面浮雕衍射光学元件 DNj"SF(J  
1.1制造方法 K"[AxB'F  
1.2周期和波长比 I=.z+#Y  
1.3光栅形状 TM|)Ljm  
1.4深度优化 6'RrQc=q  
1.5错位失对准 aBw2f[mo  
1.6边缘圆形化 yNqe8C,>e  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 =n' 4?W@  
1.8表面纹理结构 `A,g] 1C:  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 }-o{ASC#  
1.10太阳电池的表面纹理结构 YcN!T"wJ@  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 nYa*b=[.  
1.12成形金属基准层的制造工艺 T7d9ChU\#.  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 nE^Qy=iE  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 O=dJi9;`#_  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 {nvLPUL  
致谢 f4guz  
参考文献 sPb=82~z  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 =pk)
3<GwF  
2.1概述和回顾 +5&wOgx  
2.2基本的刻蚀处理技术 ,57`D'  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 o,!T2&}  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 C$@yG)Pj  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 r@o6voX  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 .LuB\o$  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 q=DN {a:  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 pOrWg@<\L  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 ^-a8V
'  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 n9\]S7]52  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 H=\!2XS  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 PGARXw+  
致谢 ZZ.m(ATR  
参考文献 @j4U^"_QB  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 A?oXqb  
3.1概述 60)iw4<wf  
3.2相位掩模技术 a+9*@z2  
3.3光学元件的设计和制造 QZ?=M@|f  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 4ON_$FUe  
3.3.2相位掩模的设计 \J6hI\/4^  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 a!mf;m  
3.4轴对称元件的设计和制造 vc]cNz:mQ  
3.5结论 ZDC9oX @  
参考文献 brZ sAQ+k  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 {" 4e+y  
4.1概述 JMS(9>+TA  
4.2电子束光刻术 "sKa`WN}  
4.2.1电子束光刻术发展史 W},b{NT  
4.2.2电子束光刻系统 V`-vR2(  
4.2.3电子束光刻技术 &BvZF  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 PDLpNTBf  
4.3.1回顾 BnM4T~reOF  
4.3.2硅 n 8pt\i0  
4.3.3砷化镓 wCHR7X0*b  
4.3.4熔凝石英 _HA$ j2  
4.4光学器件加工实例 /LM4-S  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 &l?+3$q  
4.4.2熔凝石英微偏振器 vw)7 !/#  
4.4.3砷化镓双折射波片 :SsUdIX;P  
4.5结论 !8@*F  
致谢 uyF|O/FC  
参考文献 "z*:'8;E  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 4W#
E`9 6u  
5.1概述 L}yyaM)  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 EOoZoVdzx  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 u<n`x6gL  
5.3.1纳米压印组件和工艺 $j5,%\4<  
5.3.2纳米压印设备 nSCWg=E^  
5.4商业化器件的应用 D5an\gE  
5.4.1通信用近红外偏振器 =5sF"L;b  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 pfd#N[c  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） =]>NDWqpHN  
5.4.4高亮度发光二极管 6UE(f@  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 (.Lrmf@hI7  
5.4.6多层集成光学元件 =q"eU=9  
5.4.7分子电子学存储器 3
},Zlu  
5.4.8光学和磁数据存储 3[XQR8o  
5.5结论 poJg"R4  
致谢 vLO&Lpv  
参考文献 !%Y~~'5 h  
第6章平面光子晶体的设计和制造 C`'W#xnp1  
6.1概述 ?'r9"M>  
6.2光子晶体学基础知识 {NCF6Mk  
6.2.1晶体学术语 w18RA#Zo/  
6.2.2晶格类型 b59{)u4F  
6.2.3计算方法 6TH!vuQ1(  
6.3原型平面光子晶体 ba@=^Fa;  
6.3.1电子束光刻工艺 k?VQi5M  
6.3.2普通硅刻蚀技术 ofW+_DKB?l  
6.3.3时间复用刻蚀 >x[`;O4  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Q!M)xNl/  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 ^I]{7$6^  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 F8+e,x  
6.4.2负折射 +3,|"g::  
6.5未来应用前景 E:nt)Ef,  
参考文献 ;:m&#YJV  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 ,eQ[Fi!!  
7.1对称性、拓扑性和PBG 9B)(>~q  
7.2金属光子晶体 A.Bk/N1G  
7.3金属结构的可加工性 &gc`<kLu  
7.4三维光子晶体的制造 X-B8MoG|  
7.5胶体模板法 +[m8c){  
7.6微光刻工艺 h<+|x7u  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 a)2yE,":  
7.8膜层应力 5% nt0dc  
7.9对准 x:t<ZG&Xwg  
7.10表面粗糙度 *T4<&  
7.11侧壁轮廓 :
[M[(  
7.12释放刻蚀 c#b:3dXx9  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 B(l-}|m_  
7.14结论 2:$ k  
致谢 s%;<O:x8o  
参考文献