微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 3[i!2iL.  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 Qbpl$L  
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目录 +5|nCp6||j  
译者序 LtWU
"42  
前言 &b")`p&K  
第1章面浮雕衍射光学元件 LP6FSo~K  
1.1制造方法 Z?aR9OTP  
1.2周期和波长比 6|qvo+%  
1.3光栅形状 $#W6z:  
1.4深度优化 =\7p
0cq&*  
1.5错位失对准 CWsv#XOg]  
1.6边缘圆形化 g*.(! !  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 _rVX_   
1.8表面纹理结构 _`
[6jhNa!  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 nGgc~E$j  
1.10太阳电池的表面纹理结构 GZVl384@  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 ZDJWd
=E  
1.12成形金属基准层的制造工艺 Cwf$`?|W  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 W&f Py%g  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 I/V#[KC  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 Vy~$%H94  
致谢 5(`GF|  
参考文献 +p6\R;_E  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 `0
sk2fn  
2.1概述和回顾 lfeWtzOf  
2.2基本的刻蚀处理技术 l:,UN07s  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 m1i$>9,  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 2Lgvy/uN  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 P]{.e UB@c  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 j|dzd<kE6  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 EXzNehO~e  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 A"VXs1>_^  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 Cfb-:e$0  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 gt(nZ
  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 3DvkoV  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 .: ;Hh~  
致谢 lD#1"$Coz  
参考文献 yP]W\W'  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ',
7Z1O  
3.1概述 tSa%ZkS  
3.2相位掩模技术 t3JPxg]0k'  
3.3光学元件的设计和制造 =:8=5tj  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 k T>}(G||  
3.3.2相位掩模的设计 () ;7+  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 !$#4D&T  
3.4轴对称元件的设计和制造 "0)
G|pZI  
3.5结论 :#jv4N  
参考文献 o?+e_n=  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 g``4U3T%X  
4.1概述 XhV"<&v  
4.2电子束光刻术 C YKGf1;If  
4.2.1电子束光刻术发展史 UF&Wgj [  
4.2.2电子束光刻系统 )E2Lf]  
4.2.3电子束光刻技术 .e#j#tQp  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 =ab}.dWC  
4.3.1回顾 ^ ?9 ~R"  
4.3.2硅 =K8h)B_g  
4.3.3砷化镓 {v 0(0  
4.3.4熔凝石英 '#6DI"vJ  
4.4光学器件加工实例 [~S0b  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 =@l5He.]&  
4.4.2熔凝石英微偏振器 LnX^*;P5t  
4.4.3砷化镓双折射波片 hJNA%  
4.5结论 f|5|n>*  
致谢 U6PUt'Kk@  
参考文献 epm|pA*  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 3i~{x[Jc  
5.1概述 I =pdjD  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 m:CpDxzbf  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 gk%ye&:f  
5.3.1纳米压印组件和工艺 =&GV\ju  
5.3.2纳米压印设备 s:P-F0q!&  
5.4商业化器件的应用 O0RQ}~$'m  
5.4.1通信用近红外偏振器 xw Qkk  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 5]JXXdt  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） *CSFkWVa  
5.4.4高亮度发光二极管 &LYZQ?|  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 8/v_uEG  
5.4.6多层集成光学元件 `#F>?g$2  
5.4.7分子电子学存储器 tWIhbt  
5.4.8光学和磁数据存储 0IuU4h5Fr  
5.5结论 -tZb\4kh  
致谢 t-/^O  
参考文献 6m&I_icM  
第6章平面光子晶体的设计和制造 ,3u19>2  
6.1概述 P6rL;_~e  
6.2光子晶体学基础知识 tnntHQ&b  
6.2.1晶体学术语 T^t`Hp  
6.2.2晶格类型 l[Oxf|  
6.2.3计算方法 u05O[>w  
6.3原型平面光子晶体 %## bg<  
6.3.1电子束光刻工艺 QKxuvW  
6.3.2普通硅刻蚀技术 l|9`22G  
6.3.3时间复用刻蚀 &#.&xc2sRZ  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 V6N#%(?3  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 lM]7@A
 
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 ga1RMRu+  
6.4.2负折射 :T2K\@  
6.5未来应用前景 oT w1w  
参考文献 K\PS
$  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 RIlPH~  
7.1对称性、拓扑性和PBG @VFg XN  
7.2金属光子晶体 N]~q@x;<)3  
7.3金属结构的可加工性 xhv)rhu@  
7.4三维光子晶体的制造 WD]dt!V%  
7.5胶体模板法 6}0#({s:R  
7.6微光刻工艺 qSR %#  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 iC">F.9#  
7.8膜层应力 Z1zC@z4sUj  
7.9对准 F7df  
7.10表面粗糙度 $: -Ptm@  
7.11侧壁轮廓 fO+;%B  
7.12释放刻蚀 -J:vYhq|g  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 aj:+"X-;  
7.14结论 ZtiOf}@i\  
致谢 TG($l2  
参考文献