微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 & .VciSq6  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 An cmSi  
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目录 j|"#S4IX)F  
译者序 OcQ>01
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前言 'PRsZ`x.  
第1章面浮雕衍射光学元件 (@*[^@ipV  
1.1制造方法 >2l1t}"\  
1.2周期和波长比 (#GOXz  
1.3光栅形状 =#]^H c  
1.4深度优化 |?{3&'`J8w  
1.5错位失对准 Q!8AFLff4  
1.6边缘圆形化 o-\ K]  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 .&dW?HS  
1.8表面纹理结构 xo2PxU
O  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 !'uL  
1.10太阳电池的表面纹理结构 ]vRte!QJ;  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 p2 u*{k{  
1.12成形金属基准层的制造工艺 7YT%.ID  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 zhtNL_  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ]V*s-och'  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 mxk :P  
致谢  gSQq  
参考文献 _7r<RZ  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 0o~? ]C  
2.1概述和回顾 9x@( K|  
2.2基本的刻蚀处理技术 0nUcUdIf+  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 l&l&
eOE  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 NrH2U Jm  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 P34UD:  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 4ti\;55{W  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 d-Vttxa6  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 Xkcy~e  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 )
90Q  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 .CGPG,\2  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 ;8\w$SPP  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 ssaEAm:  
致谢 ZXV_Dc
 
参考文献 "SC}C  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 {3n|=  
3.1概述 ?WPuTPw{
 
3.2相位掩模技术 IcmTF #{D  
3.3光学元件的设计和制造 FOJ-?s(  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 zOJ4I^^  
3.3.2相位掩模的设计 &Omo\Oq&W>  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 3cfJ(%'X  
3.4轴对称元件的设计和制造 6.%M:j00E  
3.5结论 K8[vJ7(!|  
参考文献 lId}sf  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 !9A6DWAE$  
4.1概述 -]yM<dP  
4.2电子束光刻术 IoO tn  
4.2.1电子束光刻术发展史 n N.6?a  
4.2.2电子束光刻系统 q.sErr[zc  
4.2.3电子束光刻技术 ]}7FTMGbY  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 eC`} oEz  
4.3.1回顾 BG ,ln(Vz  
4.3.2硅 kaM=Fk=t  
4.3.3砷化镓 %N5gQXg  
4.3.4熔凝石英 fz/Ee1T\  
4.4光学器件加工实例 C\"nlNKw  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 "#zSk=52z
 
4.4.2熔凝石英微偏振器 ToMvP B);  
4.4.3砷化镓双折射波片 .*FBr7rE\  
4.5结论 I`hltJM'  
致谢 t~vOm   
参考文献 P?|F+RoX$  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 s<3cvF<  
5.1概述 l0Rjq*5hJ  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 fny|^F]w  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 Y9V%eFY5E  
5.3.1纳米压印组件和工艺 &1
nZ%J9  
5.3.2纳米压印设备 G<1)NT\u  
5.4商业化器件的应用 ',Y`XP"Q  
5.4.1通信用近红外偏振器 Pwc)u&  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 9$ GAs  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） wJ.?u]f@  
5.4.4高亮度发光二极管 =Q
dHji/sB  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 +yC]f b  
5.4.6多层集成光学元件 e!V3/*F  
5.4.7分子电子学存储器 >O0z+tj  
5.4.8光学和磁数据存储 2rxZN\gyL  
5.5结论 =AaTn::e/  
致谢 sKE7U>mz|  
参考文献 !97U2L4  
第6章平面光子晶体的设计和制造 |#OMrP+oi  
6.1概述 =Sjr*)<@j  
6.2光子晶体学基础知识 &Bn> YFu  
6.2.1晶体学术语 wY$'KmNW  
6.2.2晶格类型 r.-U=ql  
6.2.3计算方法 m.:2G  
6.3原型平面光子晶体 |76G#K~<X  
6.3.1电子束光刻工艺 op!ft/Yyb  
6.3.2普通硅刻蚀技术 jVW .=FK  
6.3.3时间复用刻蚀 0EWov~Y?  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 o 8fB  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 CdBsd  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 [Eq7!_3  
6.4.2负折射 I`e$U  
6.5未来应用前景 ajr);xd  
参考文献 ;i;2c
q  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 YJ6y]r K2,  
7.1对称性、拓扑性和PBG ,=Q;@Z4 vJ  
7.2金属光子晶体 2il)@&^  
7.3金属结构的可加工性 p?@R0]  
7.4三维光子晶体的制造 Ai*R%#  
7.5胶体模板法 !UzMuGj  
7.6微光刻工艺 OEZ`5"j  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 62-,!N 1-  
7.8膜层应力 zcqv0lM '  
7.9对准 w
(,K  
7.10表面粗糙度 K^zu{`S  
7.11侧壁轮廓 tVUC@M>'  
7.12释放刻蚀 b-/8R|Mem  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 X=1Po|  
7.14结论 ~]w|ULNa3|  
致谢 OuZPgN  
参考文献