微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 x5M+\?I<2  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 #smfOGSd  
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目录 nu[["f~  
译者序 (Hs,Tj  
前言 a!;#u8f  
第1章面浮雕衍射光学元件 NA#,q 8  
1.1制造方法 Ghar hJ>v  
1.2周期和波长比 9aKO||i,  
1.3光栅形状 iY5V4Gbo  
1.4深度优化 <." @H<-`*  
1.5错位失对准 9N6 \Ou~  
1.6边缘圆形化 7~L_>7;  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 C879eeJ  
1.8表面纹理结构 -<(RYMk*)  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 !y$+RA7\  
1.10太阳电池的表面纹理结构 n ON]YDg  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 0*AXd=)"*  
1.12成形金属基准层的制造工艺 |vxmgX)  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ]q&NO(:kbq  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 Y6(=cm  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 A5sz[k  
致谢 ^szi[Cj  
参考文献 /.sho\a  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 vr_Z0]4`C9  
2.1概述和回顾 `A8ErfA  
2.2基本的刻蚀处理技术 EWOa2^%}Z\  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 D4~]:@v~n  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 4Ujy_E?^  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 h]j>S  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 BteeQ&A|~  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 =RQI5nHdw  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 `X<a(5[vV3  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 9VSi2p*  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 \[ 4y  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 b|\dHi2FT  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 f{P?|8u  
致谢 4`")aM
 
参考文献
CW]Th-xc  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 eK}GBBdO  
3.1概述 (ki= s+W-  
3.2相位掩模技术 i4&V+h"  
3.3光学元件的设计和制造 T>J ,kh  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 O9AFQ)u   
3.3.2相位掩模的设计 s5)y%,E  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 > iYdr/^a  
3.4轴对称元件的设计和制造 ^$[iLX  
3.5结论 }^^c/w_  
参考文献 >B;KpO"+m  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 [.&n,.k  
4.1概述 |f(*R_R  
4.2电子束光刻术 u^W!$OfZpp  
4.2.1电子束光刻术发展史 iU(B#ohW"  
4.2.2电子束光刻系统 kU.@HJ[@j  
4.2.3电子束光刻技术 .bj:tmz  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 nC)"% Sa  
4.3.1回顾 s-~`Ao' <  
4.3.2硅 (^E5y,H<g  
4.3.3砷化镓 VCvf'$4
(X  
4.3.4熔凝石英 k(_OhV
_  
4.4光学器件加工实例 ?-8DS5  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 4vCUVo r  
4.4.2熔凝石英微偏振器 ):y^g:  
4.4.3砷化镓双折射波片 jBl$r{L  
4.5结论 vG\ b`  
致谢 <`wOy[e  
参考文献 .i^@v<+  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 7z
Ifsb  
5.1概述 0Gu?;]GSv  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 "bQi+@  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 )g}G{9M^  
5.3.1纳米压印组件和工艺 O- LwX >  
5.3.2纳米压印设备
E[4 vUnm-  
5.4商业化器件的应用 1aUg({  
5.4.1通信用近红外偏振器 fzvyR2 I  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 w\{#nrhYU  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） XL'\$f  
5.4.4高亮度发光二极管 $xcZ{C  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 qk(bA/+e  
5.4.6多层集成光学元件 M0OIcMTv  
5.4.7分子电子学存储器 s!>9od6^  
5.4.8光学和磁数据存储 S(CVkCP  
5.5结论 $`lm]} {&  
致谢 m9+?>/R  
参考文献 B]6Lbp"oo  
第6章平面光子晶体的设计和制造 %5nEyZOq  
6.1概述 #)]/wqPoW  
6.2光子晶体学基础知识 IM5[O}aq  
6.2.1晶体学术语 M9m~ck  
6.2.2晶格类型 G;EJ\J6@Yw  
6.2.3计算方法 iyXd"O  
6.3原型平面光子晶体 ]'w5s d
P  
6.3.1电子束光刻工艺 %b2Hm9r+  
6.3.2普通硅刻蚀技术 B<n[yiJ}  
6.3.3时间复用刻蚀 5(E&jKn&  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 L 4Z+8*  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 S.q0L  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 $Sa7N%D  
6.4.2负折射 Ih4$MG6QC  
6.5未来应用前景 R0LWuE%eD  
参考文献 0,Ib74N'w  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 a'.7)f[g}  
7.1对称性、拓扑性和PBG kGYsjhL\d  
7.2金属光子晶体 `"<hO 'WU  
7.3金属结构的可加工性 #f/4%|t:  
7.4三维光子晶体的制造 A|YgA66M  
7.5胶体模板法 'c
Q,;y  
7.6微光刻工艺 $)BPtGMGo  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 NJVkn~<  
7.8膜层应力 Gv}Q/v  
7.9对准 y6x./1Nb}<  
7.10表面粗糙度
z( }w|  
7.11侧壁轮廓 R.Fl5B  
7.12释放刻蚀 1i_%1Oip  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 5X>~39(r  
7.14结论 #y[omla8  
致谢 @^ *62  
参考文献