微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 .BFYY13H  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 pZtu&R%GU  
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目录 ar:+;.n  
译者序 V*W;OiE_3  
前言 lkBdl#]9  
第1章面浮雕衍射光学元件 :]J Ye*  
1.1制造方法 }N*_KzPIa  
1.2周期和波长比 Y-7^o@y  
1.3光栅形状 N5 $c]E  
1.4深度优化 rL}YLR  
1.5错位失对准 ?2>FdtH  
1.6边缘圆形化 nxr!`^Mne  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 ;pnD0bH  
1.8表面纹理结构 8>7&E-  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 4q<=K=F  
1.10太阳电池的表面纹理结构 Zfy
o-Wk  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 L:9F:/G  
1.12成形金属基准层的制造工艺 J_FNAdQt  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 %Qj;,#z  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀
|^A;&//  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 @r?
Uua  
致谢 s>^dxF!+  
参考文献 #vry0i  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 u;`U*@  
2.1概述和回顾 X,LD   
2.2基本的刻蚀处理技术 {#{DH?=^)u  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 -=(!g&0  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 Kw#i),M  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 {RF-sqce  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 z@wMc EH  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 VZ\B<i  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 *cEob b  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 NOp609\^  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 =KR NvW  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 rta:f800z  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 ]niJGt  
致谢 0pbtH8~  
参考文献 4T=u`3pD7l  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 9k6r_G"  
3.1概述 n(el]_d  
3.2相位掩模技术 Yh>]-SCw  
3.3光学元件的设计和制造 ?]x|Zy  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 Pcw6!xH  
3.3.2相位掩模的设计 +-G<c6 |  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 f-%NaTI  
3.4轴对称元件的设计和制造 !&"<oPjr+  
3.5结论 4fKC6UR  
参考文献 "70WUx(\t  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 46 PoM  
4.1概述 NM06QzE  
4.2电子束光刻术 /FIE:Io  
4.2.1电子束光刻术发展史 W]nSR RWco  
4.2.2电子束光刻系统 A$w4PVS  
4.2.3电子束光刻技术 PnoPbk[<  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 |M+<m">E  
4.3.1回顾 )LyojwY_g  
4.3.2硅 APO>y  
4.3.3砷化镓 lhkwWbB  
4.3.4熔凝石英 Iyyh!MVF  
4.4光学器件加工实例 3:C o
Z  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 4!LCR}K  
4.4.2熔凝石英微偏振器 (x3.poSt  
4.4.3砷化镓双折射波片 WoBo9aR  
4.5结论 MzL1Bh!M  
致谢 p8]68!=W\F  
参考文献 /jRRf"B  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 *;Ed*ibf  
5.1概述 vo#UtN:q  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 V?=8".GiX  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 DuOG {
 
5.3.1纳米压印组件和工艺 %Jrt4sg[j-  
5.3.2纳米压印设备 ('hEr~&  
5.4商业化器件的应用 V7Mh-]  
5.4.1通信用近红外偏振器 /<]{KI  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 m`FNIY  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 2^l[(N  
5.4.4高亮度发光二极管 Bn(W"=1  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 u,w:SM@*(  
5.4.6多层集成光学元件 ivW(*c  
5.4.7分子电子学存储器 YE9,KVV;$n  
5.4.8光学和磁数据存储 oD$J0{K6  
5.5结论 rhb@FE)Mc  
致谢 $]A/ o(  
参考文献 ,.qMEMm  
第6章平面光子晶体的设计和制造 #jxe%2'Ot  
6.1概述 $n^gmhp  
6.2光子晶体学基础知识 $O dCL  
6.2.1晶体学术语 ()3
O=!  
6.2.2晶格类型 \ 5,MyB2/`  
6.2.3计算方法 }sOwp}FV8X  
6.3原型平面光子晶体 )}_a 0bt  
6.3.1电子束光刻工艺 :P(K2q3  
6.3.2普通硅刻蚀技术 gw}Mw  
6.3.3时间复用刻蚀 Yl.0aS  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 &[;HYgp  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 <E0UK^-}  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 'GL*u#h  
6.4.2负折射 Z"
uY}P3  
6.5未来应用前景 MC{ 2X  
参考文献 j7)Ao*WN  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 [Ts"OPb%~  
7.1对称性、拓扑性和PBG n2IV2^ "  
7.2金属光子晶体 ]hbyELs  
7.3金属结构的可加工性 Y
"VY%S^  
7.4三维光子晶体的制造 S*,rGCt'T  
7.5胶体模板法 al[n,u  
7.6微光刻工艺 ;JRs?1<='  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 w-0mzk"  
7.8膜层应力 |a#f\  
7.9对准 XB_B4X1R  
7.10表面粗糙度 *<u2:=_s  
7.11侧壁轮廓 bpxeznz  
7.12释放刻蚀 &zuG81F6  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 Kk{<@v)  
7.14结论 V}zEK0n(6  
致谢 D2,z)O%VK  
参考文献