微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 a+
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《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 l5esx#([*R  
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目录
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译者序 ),]XN#jp(u  
前言 BEnIyVU;L  
第1章面浮雕衍射光学元件 "`&1"*  
1.1制造方法 T+U,?2nF:  
1.2周期和波长比 -TU^*  
1.3光栅形状 ym.:I@b?6  
1.4深度优化 >%{H>?Hn  
1.5错位失对准 )7}f.  
1.6边缘圆形化 1^_V8dm)  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 #Z>EX?VS:  
1.8表面纹理结构 ( !=^(Nd  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 ?A`8c R=)I  
1.10太阳电池的表面纹理结构 }SZU'lYHoM  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 40)Ti  
1.12成形金属基准层的制造工艺 95%QF;h  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 &D*22R4{CX  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 \GEf,%U<K  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 ~|5B   
致谢 *N!>c&8  
参考文献 5 i;n:&Y  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 0G}]d17ho  
2.1概述和回顾 $=GnoS  
2.2基本的刻蚀处理技术 z6>Rv9f  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 E[2>je  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 @^UnrKSd  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 HyKv5S$  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 L92vb zP  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 lZf=#  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 IP=."w  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 ,3~[cE<4  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 UK!PMkX  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Lx#CFrLQ*  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 Xah-*]ET  
致谢 +o[-ED  
参考文献 &x>8 %Q s  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 |E5\_Z  
3.1概述 $2'Q'Mx[gd  
3.2相位掩模技术 xR`M#d5"  
3.3光学元件的设计和制造 !bg2(2z  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 ?&rt)/DV,  
3.3.2相位掩模的设计 >IFqwh7b  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 qnCJrY6]  
3.4轴对称元件的设计和制造 m(o^9R_=^9  
3.5结论 Y `ySNC  
参考文献 !5zDnv  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 MR
`lF-|a|  
4.1概述 `<x((@#  
4.2电子束光刻术 6<qVeO&uZ  
4.2.1电子束光刻术发展史 S&Szc0-|k  
4.2.2电子束光刻系统 7x5wT ?2W  
4.2.3电子束光刻技术 OuuN~yC  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 )g ; !IL  
4.3.1回顾 {Ne5*HFV  
4.3.2硅 L-z9n@=8\  
4.3.3砷化镓 :N>n1tHL;A  
4.3.4熔凝石英 2?)8s"Y  
4.4光学器件加工实例 aTU[H~dTU  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 |rr<4>)X  
4.4.2熔凝石英微偏振器 uZhY)o*]@  
4.4.3砷化镓双折射波片 :HW\awv  
4.5结论 Uuq*;L  
致谢 rGIf/=G^r  
参考文献 Um2RLM%  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 _CImf1  
5.1概述 3GVS-?  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 V N<omi+4  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 %`)lCK)2  
5.3.1纳米压印组件和工艺 7A
dg;  
5.3.2纳米压印设备 (T 8In  
5.4商业化器件的应用 tQ7:4._  
5.4.1通信用近红外偏振器 u/ZV35z  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 \qZ>WCp>r  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 3]wV 1<K  
5.4.4高亮度发光二极管 nBkzNb{"AZ  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 T:=ST3#m  
5.4.6多层集成光学元件 VqL#w<A%  
5.4.7分子电子学存储器 6QM$aLLP?  
5.4.8光学和磁数据存储 {baG2Fe1`b  
5.5结论 J|=0 :G  
致谢 U ljWBd  
参考文献 )\RG NJMC  
第6章平面光子晶体的设计和制造 =Vat2'>+  
6.1概述 W87kE?,  
6.2光子晶体学基础知识 A~M.v0  
6.2.1晶体学术语 ?DgeKA"A  
6.2.2晶格类型 1EAQ ~S!2  
6.2.3计算方法 WG]`Sy  
6.3原型平面光子晶体 K3xt,g  
6.3.1电子束光刻工艺 
Dt:NBN  
6.3.2普通硅刻蚀技术 TD.t)  
6.3.3时间复用刻蚀 &N.]8x5A  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 rd1EA|
T  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 w\lc;4U   
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 f<y-{.VnN$  
6.4.2负折射 T6nc/|Ot  
6.5未来应用前景 AwtiV-w  
参考文献 )<
(3 .M  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 V>(>wSR  
7.1对称性、拓扑性和PBG 3<O=,F  
7.2金属光子晶体 }uiD8b{I  
7.3金属结构的可加工性 rH$M6S  
7.4三维光子晶体的制造 p\22_m_wd  
7.5胶体模板法 7* R %zJ  
7.6微光刻工艺 C8
KV<k  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 >X
PR)&t  
7.8膜层应力 pmc)$3u  
7.9对准 {J*|)-eAw  
7.10表面粗糙度 p}p}!M|  
7.11侧壁轮廓 FBeo@  
7.12释放刻蚀 N{#9gr3zi  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 _sAcvKH  
7.14结论 a"m-&mN  
致谢 hMyN$7Z  
参考文献