微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 :yO)g]KF  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 :k JSu{p  
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目录 "ua/65cq9  
译者序 whv
M^  
前言 \ar.(J  
第1章面浮雕衍射光学元件 & {B,m%G  
1.1制造方法
cT."  
1.2周期和波长比  #p\sw  
1.3光栅形状 ,A_itRHH  
1.4深度优化 "WK.sBFz4  
1.5错位失对准 jb77uH_  
1.6边缘圆形化 Th@L68  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 {KODwP'~  
1.8表面纹理结构 II),m8G  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 z07!i@ue~  
1.10太阳电池的表面纹理结构 )M}bc1 _  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 cITQ,ah  
1.12成形金属基准层的制造工艺 cC>.`1:  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 *}yW8i}36  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 I_N"mnn@Nr  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 0*h\/!e  
致谢 &oNy~l o  
参考文献 /I: d<A  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 #B>Hq~ vrC  
2.1概述和回顾 o#E z_D[  
2.2基本的刻蚀处理技术 /&dC?bY  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 g_.BJ>Uv  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ~D 5'O^
 
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 b8T'DY;~  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 ,]Hn*\@p[c  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 AnIENJ  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 U9kt7#@FDK  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 
>b<br  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 pH)V:BmJ  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 2<U5d`  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 #|2w^Kn  
致谢 6rdm=8WFA  
参考文献 `/0X].s#o  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 .wYx_  
3.1概述 llQDZ}T  
3.2相位掩模技术 1<pbO:r  
3.3光学元件的设计和制造 zn@tLLX  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 Ks9"U^bPs  
3.3.2相位掩模的设计 { 5h6nYu  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 5(TI2,4  
3.4轴对称元件的设计和制造 KJJ8P`Kx  
3.5结论 mtmtOG_/=  
参考文献 BDc*N]m}B1  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 ]Jm9D=  
4.1概述 4z?6[Cg<  
4.2电子束光刻术 NCX!ss  
4.2.1电子束光刻术发展史 tUL(1:-C  
4.2.2电子束光刻系统 l$MX\  
4.2.3电子束光刻技术 T3!l{vG \O  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 5qB>Song  
4.3.1回顾 Uu8Z2M  
4.3.2硅 jbfMTb4  
4.3.3砷化镓 c\"oj&>A  
4.3.4熔凝石英 zgqe@;{  
4.4光学器件加工实例 4ILCvM  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 T3+h
xS  
4.4.2熔凝石英微偏振器 J'Gn M?M  
4.4.3砷化镓双折射波片 o^7}H{AE  
4.5结论 x~A""*B~  
致谢 )T 3y,*  
参考文献 \MX>=  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 w/>k  
5.1概述 /dBQ*f5  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 NCl$vc;,  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 ]%F3 xzOk  
5.3.1纳米压印组件和工艺 '<$(*  
5.3.2纳米压印设备 Vg&`f  
5.4商业化器件的应用 l% K9K
e  
5.4.1通信用近红外偏振器 cfa#a!Y4  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 %GjF;dJ  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） l'?/$?'e_Z  
5.4.4高亮度发光二极管 ?Tt/,Hl?D  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 ,$7LMTVDrE  
5.4.6多层集成光学元件 1&U'pp|T  
5.4.7分子电子学存储器 ]={:VsnL  
5.4.8光学和磁数据存储 ]:Ocu--  
5.5结论 !Kd/ lDY  
致谢 9e1gjC\c  
参考文献 .lTU[(qwu  
第6章平面光子晶体的设计和制造 wzT+V,  
6.1概述 $Y)|&,  
6.2光子晶体学基础知识 <iv9Mg
}  
6.2.1晶体学术语 ZXe[>H  
6.2.2晶格类型 H\8.T:>  
6.2.3计算方法 1 NLawi6  
6.3原型平面光子晶体 )6^b\`  
6.3.1电子束光刻工艺 v #IC  
6.3.2普通硅刻蚀技术 cSoZq4  
6.3.3时间复用刻蚀 j+PW9>Uh  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 ,|?B5n&  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 !\RR UH*  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 `p*7MZ9-  
6.4.2负折射 ?r2Im5N  
6.5未来应用前景 l4v)tV~  
参考文献 %`-NWAXL  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 JrYpZ.Nh  
7.1对称性、拓扑性和PBG ;(TBg-LEK  
7.2金属光子晶体 &h8+-  
7.3金属结构的可加工性 =KMd! $J\  
7.4三维光子晶体的制造 ?(;ygjyx  
7.5胶体模板法 C7eaioW$  
7.6微光刻工艺 ;{j:5+'  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 rL&585  
7.8膜层应力 MoO jM&9  
7.9对准 LHR%dt|M  
7.10表面粗糙度 HOtays,#<}  
7.11侧壁轮廓 ^5QSV\X  
7.12释放刻蚀 ]'DtuT?Z  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 pG:FDlR~  
7.14结论 @_h/%>0  
致谢 rS{Rzs^@  
参考文献