线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:760
时间地点 ~*- eL.  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 N'i%9SBcg  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 V[5-A $ft  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 j0Kj>  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 I|n<B"Q6^  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
GFYAg  
特邀专家介绍 75jq+O_:  
'n#;~  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 (@p E  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 >ys>Q)  
课程概要 pD eqBO  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 `QnKal)  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 O3j:Y|N@F  
课程大纲 C*,-lk0b@  
1. Essential Macleod软件介绍  .]k+hc`  
1.1 介绍软件 B ;9^  
1.2 创建一个简单的设计 '0p 5|[ZD  
1.3 绘图和制表来表示性能 YRfs8I^rg  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 /![S 3Ol  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 6p1\#6#@  
1.6 特定设计的公式技术 \=kH7 !  
1.7 交互式绘图 B-@6m  
2. 光学薄膜理论基础 gah3d*d7  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 |ITp$  _S  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 p&>*bF,  
3. 材料管理 hJ (Q^Z  
3.1 材料模型 S1E =E5  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 lQ<2Vw#Yl  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 cuO(*%Is1  
3.4 基板光学常数的提取 \3-XXq  
4. 光学薄膜设计优化方法 /XeDN-{  
4.1 参考波长与g Vl%AN;o  
4.2 四分之一规则 m$ )yd~  
4.3 导纳与导纳图 d(3F:dbk  
4.4 斜入射光学导纳 `TYQ^Zm  
4.5 光学薄膜设计的进展 wc* 5s7_  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 rjo/-910  
4.6.1 优化目标设置 %[u6<  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) L'BDS*  
4.6.3 膜层锁定和链接 yM}}mypS  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 GbFLu`Iu  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 W2D^%;mw  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 3l_Ko %qS  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 gPSUxE `O.  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 g{.>nE^Sc5  
5.5 如何在Function中编写脚本 s:'M[xI  
6. 光学薄膜系统案例 W=c7>s0>  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 HJhPd#xCW  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 QM\v ruTB  
6.3 Stack应用范例说明 Y9Q-<~\z  
7. 薄膜性能分析 nfJ|&'T  
7.1 电场分布 ZM K"3c9  
7.2 公差与灵敏度分析 ([R}s/)$  
7.3 反演工程 *;"N kCf  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ZF"f.aV8)  
8. 真空技术 bW(+Aw=O  
8.1 常用真空泵介绍 |R8=yO%(  
8.2 真空密封和检漏 D9zw' R Y  
9. 薄膜制备技术 +c.A|!-  
9.1 常见薄膜制备技术 XKp.]c wP  
10. 薄膜制备工艺 %C\Q{_AS  
10.1 薄膜制备工艺因素 '%_1eaH  
10.2 薄膜均匀性修正技术 $#2ik~]>  
10.3 光学薄膜监控技术 ?VrZM  
11. 激光薄膜 3UU]w`At  
11.1 薄膜的损伤问题 I+Qv$#S/  
11.2 激光薄膜的制备流程 blNE$X+0|  
11.3 激光薄膜的制备技术 kT@RA}  
12. 光学薄膜特性测量 :@jhe8'w  
12.1 薄膜光谱测量 )SQ*"X4"  
12.2 薄膜光学常数测量 d"<Q}Ay  
12.3 薄膜应力测量 bN$`&fC0  
12.4 薄膜损伤测量 Rp4EB:*  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 )X@Obg  
>^LVj[.1  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
X|K"p(N  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
%y)5:]  
内容简介 8J{I6nPF  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。  *Dtwr  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @qmONQ eb  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 P*oKcq1R  
s `HSTq2  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
F(>']D9$.  
目录 CB<1]Z  
Preface 1 &sR=N60n  
内容简介 2 0@d)DLM?  
目录 i h>-JXuN  
1  引言 1 |};]^5s9  
2  光学薄膜基础 2 Ev* b  
2.1  一般规则 2 |Ak>kQJ(1z  
2.2  正交入射规则 3 O( G|fs  
2.3  斜入射规则 6 + 5H9mk  
2.4  精确计算 7 K-IXAdx  
2.5  相干性 8 ^8$CpAK]M  
2.6 参考文献 10 Y^m2ealC  
3  Essential Macleod的快速预览 10 jXvGL  
4  Essential Macleod的特点 32 Y$b4Ga9j  
4.1  容量和局限性 33 CXks~b3SD  
4.2  程序在哪里? 33 ;"SnCBt:>  
4.3  数据文件 35 OLUQjvnU  
4.4  设计规则 35 ?z%@;&  
4.5  材料数据库和资料库 37 /AV [g^x2  
4.5.1材料损失 38 ?Y+xuY/t  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Yq}7x1mm  
4.5.2 材料库 41 Tl5K'3  
4.5.3导出材料数据 43 (__=*ew  
4.6  常用单位 43 3dfG_a61y  
4.7  插值和外推法 46 $T{,3;kt  
4.8  材料数据的平滑 50 *cx mQ  
4.9 更多光学常数模型 54 3":ef|w]  
4.10  文档的一般编辑规则 55 {Md xIp[  
4.11 撤销和重做 56 # eqt{  
4.12  设计文档 57 VvN52 qeL  
4.10.1  公式 58 J_YbeZ]  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 } [}u5T`w>  
4.10.3  沉积密度 59 0#4_vg .  
4.10.4 平行和楔形介质 60 GdG1e%y]z  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 w]GoeIg({  
4.10.4  性能 61 )tR5JK} AV  
4.10.5  保存设计和性能 64 kK&tB  
4.10.6  默认设计 64 26JP<&%L  
4.11  图表 64 R~8gw^w![  
4.11.1  合并曲线图 67 B!GpD@U  
4.11.2  自适应绘制 68 Jfa=#`    
4.11.3  动态绘图 68 Mf7Q+_!  
4.11.4  3D绘图 69 }qmBn`3R  
4.12  导入和导出 73 K];nM}<  
4.12.1  剪贴板 73 R5 47  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ,/6V^K  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 y[[f?rxz>  
4.13  背景 77 t^ L XGQ  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 kv&%$cA  
4.15  生成Rugate 84 HmKvu"3  
4.16  参考文献 91 :J]S+tQ)  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 4"1OtBU3  
5.1  Jobs 92 5w"f.d'  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 W[PZQCL}K)  
5.3  输入材料 94 (1H_V(  
5.4  设计数据文件夹 95 },'hhj]O  
5.5  默认设计 95 tk"L2t  
6  细化和合成 97 fv$Y&_,5  
6.1  优化介绍 97 "Pi\I9M3  
6.2  细化 (Refinement) 98 u\=gps/Z  
6.3  合成 (Synthesis) 100 _d6mf4M]5  
6.4  目标和评价函数 101 loN!&YceW  
6.4.1  目标输入 102 ='u'/g$'&  
6.4.2  目标 103 f gI.q  
6.4.3  特殊的评价函数 104 #S2LQ5U  
6.5  层锁定和连接 104 kwNXKn/   
6.6  细化技术 104 ^Dhj<_  
6.6.1  单纯形 105 c'OJodpa  
6.6.1.1 单纯形参数 106 b9ysxuUdS  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 W!q 'wrIx(  
6.6.2.1 Optimac参数 108 5 EDHJU>  
6.6.3  模拟退火算法 109 vLn<=.  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 1Lz`.%k`:  
6.6.4  共轭梯度 111 AE!WYE  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 y?O{J!U  
6.6.5  拟牛顿法 112 F48:mfj1r  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 zMs]9o  
6.6.6  针合成 113 1<A+.W  
6.6.6.1 针合成参数 114 'D%No!+Py  
6.6.7 差分进化 114 :|`' \%zW-  
6.6.8非局部细化 115 sN|-V+7&j  
6.6.8.1非局部细化参数 115 8yz A W&q  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 :}x\&]uC#k  
6.7.1  细化 116 lMAmico  
6.7.2  合成 117 ka{9{/dz3  
6.8  参考文献 117 C.L5\"%  
7  导纳图及其他工具 118 $de_>  
7.1  简介 118 'KpCPOhfR  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 * 2[&26D  
7.2.1  四分之一波长规则 119 k/AcXU%O+  
7.2.2  导纳图 120 W093rNF~  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ]*j>yj.Y'~  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 6CO>Tg:%  
7.5  斜入射导纳图 141 =YF\mhMQ:  
7.6  对称周期 141 n>>hfxv(O!  
7.7  参考文献 142 =bs4*[zq  
8  典型的镀膜实例 143 seY0"ym&e  
8.1  单层抗反射薄膜 145 X +;Q=  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 hJ4==ILx  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 7c!oFwM  
8.4  W-膜层 148 U#G uB&V  
8.5  V-膜层 149 I@cKiB  
8.6  V-膜层高折射基底 150 G+4a%?JH  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 OzBo *X/p  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 a1ZGMQq!  
8.9  四层抗反射薄膜 153 1pXAPTV  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 95(c{ l/  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 [ /*$?PXt  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 m hJ>5z  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 (HLy;^#R  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 i051qpj  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 JeMhiY}  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 w$A*|^w1  
8.17  1/4波长堆栈 162 5{ #9b^  
8.18  陷波滤波器 163 FU!U{qDI  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 dDW],d}B;  
8.20  褶皱 165 hw_7N)}  
8.21  消偏振分光器1 169 0LoA-c<Ay  
8.22  消偏振分光器2 171 v3S{dX<  
8.23  消偏振立体分光器 172 H;*:XLPF  
8.24  消偏振截止滤光片 173 X X{:$f+  
8.25  立体偏振分束器1 174 L3Ry#uw  
8.26  立方偏振分束器2 177 `@ qSDW!b  
8.27  相位延迟器 178 <y*#[:i  
8.28  红外截止器 179 ,qiS;2(  
8.29  21层长波带通滤波器 180 |F<U;xV$p  
8.30  49层长波带通滤波器 181 $f>WR_F  
8.31  55层短波带通滤波器 182 JC{}iG6r+  
8.32  47 红外截止器 183 Z T8. r0  
8.33  宽带通滤波器 184 St|sUtj<r  
8.34  诱导透射滤波器 186 w|Zq5|[  
8.35  诱导透射滤波器2 188 {eIE|   
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 jR@-h"2*A  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 1}S_CR4XBs  
8.35  增益平坦滤波器 193 s`C#=l4  
8.38  啁啾反射镜 1 196 >~BU<#  
8.39  啁啾反射镜2 198 ksDG8^9>]  
8.40  啁啾反射镜3 199 Uo^s]H#:  
8.41  带保护层的铝膜层 200 $0LlaN@e  
8.42  增加铝反射率膜 201 A40 -])'!  
8.43  参考文献 202 ./#K@V1  
9  多层膜 204 HH^{,53%  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Btpx[T  
9.2  内部透过率 204 ,wO5IaV  
9.3 内部透射率数据 205 Y141Twjvd  
9.4  实例 206 $ }B"u;:SU  
9.5  实例2 210 UeHS4cW  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ih+kh7J-  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 7azxqa5:  
10  光学薄膜的颜色 216 L8bq3Q'p  
10.1  导言 216 z@~1e]%  
10.2  色彩 216 KN}[N+V>  
10.3  主波长和纯度 220 ;i:Uoyi  
10.4  色相和纯度 221 ip>dHj z  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 _tjFb_}Q  
10.6 色差 226 bL0+v@(r  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 D>G&aQ  
10.8  颜色渲染指数 234 ^~BJu#uVyy  
10.9  色差计算 235 NLz$jk%=g  
10.10  参考文献 236 GrM~ %ng  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 SI;G|uO;/  
11.1  短脉冲 238 VKik8)/.  
11.2  群速度 239 DN^ln%#  
11.3  群速度色散 241 <wE2ly&x  
11.4  啁啾(chirped) 245 Wc,8<Y'   
11.5  光学薄膜—相变 245 @ K@~4!  
11.6  群延迟和延迟色散 246 saRB~[6I  
11.7  色度色散 246 `M7){  
11.8  色散补偿 249 u'32nf?  
11.9  空间光线偏移 256 -3 W 4  
11.10  参考文献 258 l}O`cC  
12  公差与误差 260 i"e) LJz  
12.1  蒙特卡罗模型 260 `J-"S<c?_  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ]/$tt@h  
12.2.1  误差工具 267 %mcuYR'D}  
12.2.2  灵敏度工具 271 V9<[v?.\  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ~NTpMF  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 er qm=)  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Nc"h8p?  
12.3  参考文献 276 eM9~&{m.  
13  Runsheet 与Simulator 277 yS3x))  
13.1  原理介绍 277 O-y"]Wrv  
13.2  截止滤光片设计 277 OOk53~2id  
14  光学常数提取 289 eQ9x l  
14.1  介绍 289 -y/?w*Cx  
14.2  电介质薄膜 289 |f>y"T+1  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Y7{|EI+@  
14.4  基底的参数提取 302 sdO;vp^:b  
14.5  金属的参数提取 306 C*78ZwZ  
14.6  不正确的模型 306 yRgo1ow]  
14.7  参考文献 311 Gf%o|kX]  
15  反演工程 313 sztnRX_  
15.1  随机性和系统性 313 ]&r/H17  
15.2  常见的系统性问题 314 JI*ikco-  
15.3  单层膜 314 S`6'~g  
15.4  多层膜 314 "QlCcH`g  
15.5  含义 319 /kJ*WA?J  
15.6  反演工程实例 319 \`XJz{Lm]  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 /60[T@Mz  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 =x^I 5Pn  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 !t_,x=  
16.1  光学性质的热致偏移 329 O]PfQ  
16.2  应力工具 335 n!N;WL3k  
16.3  均匀性误差 339 UfkRY<H  
16.3.1  圆锥工具 339 jOuv\$  
16.3.2  波前问题 341 ivagS\Q  
16.4  参考文献 343 Tbwq_3f K  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 pDKJLa  
17.1  引言 345 e6_.ID'3  
17.2  操作数 345 q?MYX=Y6  
18  如何在Function中编写脚本 351 FVD}9ia  
18.1  简介 351 Xoik%T-  
18.2  什么是脚本? 351 Q3/q%#q>  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 @qe>ph[UA  
18.4  基础 352 e;pNB  
18.4.1  Classes(类别) 352 ke4q$pD  
18.4.2  对象 352  $}F]pa[  
18.4.3  信息(Messages) 352 [n}c}%  
18.4.4  属性 352 b\+|g9Tm  
18.4.5  方法 353 M"FAUqz`  
18.4.6  变量声明 353 P! 3$RO  
18.5  创建对象 354 Pw7'6W1  
18.5.1  创建对象函数 355 zHU#Jjc_b  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 + zrwz\  
18.5.3 丢弃对象 356 ~XxD[T5  
18.5.4  总结 356 cwD0 ~B  
18.6  脚本中的表格 357 :E^B~ OuL  
18.6.1  方法1 357 .ClCP?HG  
18.6.2  方法2 357 (Q4_3<G+  
18.7 2D Plots in Scripts 358 p/5!a~1'xN  
18.8 3D Plots in Scripts 359 B>]5/!_4  
18.9  注释 360 QbNv+Eu5  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 e7?W VV,  
18.11  一个更高级的脚本 362 jK=*~I  
18.12  <esc>键 364 SB'YV#--  
18.13 包含文件 365 bOFLI#p&  
18.14  脚本被优化调用 366 E*I]v  
18.15  脚本中的对话框 368 FEZ6X  
18.15.1  介绍 368 M$?6 '  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 m@Nx`aS?  
18.15.3  输入框函数 370 I[`2MKh  
18.15.4  自定义对话框 371 C&st7. (k  
18.15.5  对话框编辑器 371 Dsua13 hF  
18.15.6  控制对话框 377 =%u|8Ea*`  
18.15.7  更高级的对话框 380 KALg6DZe:  
18.16 Types语句 384 r zmk-V  
18.17 打开文件 385 nSow$6T_  
18.18 Bags 387 a "DV`jn  
18.13  进一步研究 388 _9@?Th&_e  
19  vStack 389 LWL>hd  
19.1  vStack基本原理 389 c6uKK h>  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 4GfLS.Ip  
19.3  五棱镜 393 =5/;h+bk+3  
19.4 光束距离 396 rO`g~>-  
19.5 误差 399 0C p}  
19.6  二向分色棱镜 399 Fa!)$eb7  
19.7  偏振泄漏 404 mce`1Tjw  
19.8  波前误差—相位 405 55cldo   
19.9  其它计算参数 405 ,%'0e /  
20  报表生成器 406 m c+wRx  
20.1  入门 406 M$W#Q\<*#r  
20.2  指令(Instructions) 406 4d 3Znpf  
20.3  页面布局指令 406 eq+o_R}CS  
20.4  常见的参数图和三维图 407 JAb?u.,Ns_  
20.5  表格中的常见参数 408 4QN;o%,  
20.6  迭代指令 408 *D{/p/|[  
20.7  报表模版 408 by U\I5  
20.8  开始设计一个报表模版 409 _tReZ(Vw  
21  一个新的project 413 oGVSy`ku  
21.1  创建一个新Job 414 $.N~AA~0  
21.2  默认设计 415 1a$V{Eag  
21.3  薄膜设计 416 huoKr  
21.4  误差的灵敏度计算 420 q-G|@6O  
21.5  显色指数计算 422 8$v7|S6 z  
21.6  电场分布 424 Doh|G:P]#  
后记 426 B#?2,  
!~N4}!X3du  
!:<UgbiVv  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 6)U&XWH0  
~8m>DSs)D  
《Essential Macleod中文手册》
`zp2;]W  
NN 6KLbC(  
目  录 [/Z'OV"tU  
.G_3blE;  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 i+[3o@  
第1章 介绍 ..........................................................1 iHn!KV  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 (<3lo ZaX  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 S8OVG4-  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 @6co\.bv  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ' f$L  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 M6'C3,y0  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 gww^?j#  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 b!X"2'  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 06^1#M$'  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 @pG lWw9*  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 -t 6R!ZI  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 jN%p5nZ^EK  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 2rCY&8  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 KKjxg7{K  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 ^dnz=FB  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ;hA7<loY  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 o~x39  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 :pDY  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 6#)Jl  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 MpA;cw]cI/  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 cvUut^CdK  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 'K3 s4x($  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 0R}Sw[M.  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 V< vPFxC  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 T5azYdzJy  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 M> jBm .  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 F[CT l3X  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 h Y}/Y  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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