线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:754
时间地点 qo$ls\[X  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 .heU Ir,  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 jV9oTH-  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 j:qexhtho  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Mo<q(_ZeRP  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
 sa&`CEa  
特邀专家介绍 P;@j  
z;dRzwL  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 &PH:J*?C}  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 .j&#  
课程概要 |` ?&  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 M| j=J{r  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 u]7wd3(  
课程大纲 \ {]y(GT  
1. Essential Macleod软件介绍 }3_b%{  
1.1 介绍软件 dHTx^1  
1.2 创建一个简单的设计 ;2\6U;  
1.3 绘图和制表来表示性能 Ll-QhcC$  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 cC>Svf[CzK  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) <&3aP}  
1.6 特定设计的公式技术 yci}#,nb  
1.7 交互式绘图 _{; _wwz  
2. 光学薄膜理论基础 GA$fueiQNs  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Z\Ur F0  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ."=p\:^j*  
3. 材料管理 HzKY2F(,  
3.1 材料模型 Z~QLjv&$/r  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 @{q<"hT  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 8PH4v\tJEK  
3.4 基板光学常数的提取 <K<#)mcv  
4. 光学薄膜设计优化方法 09anQHa  
4.1 参考波长与g ;3wO1'=  
4.2 四分之一规则 enZZ+|h  
4.3 导纳与导纳图 L'S,=NYXY  
4.4 斜入射光学导纳 '8\9@wzv  
4.5 光学薄膜设计的进展 ?>7-a~*A@  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 F[$cE  
4.6.1 优化目标设置 e3W~6P  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 1%*\*z  
4.6.3 膜层锁定和链接 9]w?mHslE  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 IQ_s]b;z  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 G"E_4YkJ  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 hm d3W`8D  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 |idw?qCn  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ~CkOiWC0  
5.5 如何在Function中编写脚本 GVJ||0D  
6. 光学薄膜系统案例 A]5];c  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 .?Y"o3  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 _fu <`|kc  
6.3 Stack应用范例说明 &Q;sbI}  
7. 薄膜性能分析 ~=iH*AQR  
7.1 电场分布 CX{6  
7.2 公差与灵敏度分析 ;h+~xxu=X  
7.3 反演工程 sH;_U)ssH  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ?#xm6oe#aH  
8. 真空技术 e%L[bGW'  
8.1 常用真空泵介绍 YfB)TK\W9/  
8.2 真空密封和检漏 1S!}su,uH  
9. 薄膜制备技术 1n!:L!,`  
9.1 常见薄膜制备技术 (@5`beEd  
10. 薄膜制备工艺 SU4i'o  
10.1 薄膜制备工艺因素 T9w=k)  
10.2 薄膜均匀性修正技术 K&`1{,  
10.3 光学薄膜监控技术 ^ex\S8j  
11. 激光薄膜 m<-!~ ew  
11.1 薄膜的损伤问题 2O[sRm)  
11.2 激光薄膜的制备流程 ty.$ H24  
11.3 激光薄膜的制备技术 f+uyO7  
12. 光学薄膜特性测量 MkoK(m{7  
12.1 薄膜光谱测量 "4H@&:-(p  
12.2 薄膜光学常数测量  jK]1X8  
12.3 薄膜应力测量 3MNM<Ih  
12.4 薄膜损伤测量 4xmJQ>/  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 8I/3T  
C&H'?0Y@  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
./k7""4   
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
 jb&MC 2  
内容简介 r5S/lp+Y+N  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 aF^N  Ye  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 gtu<#h(  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ga%\n!S  
"Mj#P9  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
CL1*pL  
目录 SK'h!Ye5Z  
Preface 1 Lo!hyQ)  
内容简介 2 O%\cRn8m  
目录 i e !jy6 t  
1  引言 1 7\2I>W  
2  光学薄膜基础 2 >bf.T7wy  
2.1  一般规则 2 f1ANziC;i  
2.2  正交入射规则 3 ai sa2#  
2.3  斜入射规则 6 {+WY,%e  
2.4  精确计算 7 F/5G~17  
2.5  相干性 8 u7hu8U=  
2.6 参考文献 10 .yZLC%}  
3  Essential Macleod的快速预览 10 fF0i^E<  
4  Essential Macleod的特点 32 mYgfGPF`  
4.1  容量和局限性 33 0<\|D^m=&h  
4.2  程序在哪里? 33 OLb s~ >VA  
4.3  数据文件 35 ~?ezd0  
4.4  设计规则 35 6(`N!]e*L  
4.5  材料数据库和资料库 37 8eS(gKD  
4.5.1材料损失 38 )dhR&@r*w  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Qs,\P^n  
4.5.2 材料库 41 hXjZ>n``  
4.5.3导出材料数据 43 *{w0=J[15  
4.6  常用单位 43 HD=F2p  
4.7  插值和外推法 46 (O0Ry2u k  
4.8  材料数据的平滑 50 KM?4J6jH  
4.9 更多光学常数模型 54 Mc@9ivwL#  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ZDFq=)0C  
4.11 撤销和重做 56 |?^<=%  
4.12  设计文档 57 =){ G  
4.10.1  公式 58 gA(npsUHI  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 6AAvsu:  
4.10.3  沉积密度 59 sq_>^z3T  
4.10.4 平行和楔形介质 60 V@`b7GM  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 bu _ @>`S  
4.10.4  性能 61 2 L4[~>  
4.10.5  保存设计和性能 64 N^rpPq  
4.10.6  默认设计 64 p<r<Y %  
4.11  图表 64 hc|A:v)]  
4.11.1  合并曲线图 67 k-|g  
4.11.2  自适应绘制 68 f1_;da  
4.11.3  动态绘图 68 c6xr[tc%  
4.11.4  3D绘图 69 (WT\HR  
4.12  导入和导出 73 _k2R^/9Ct%  
4.12.1  剪贴板 73 gLv+L]BnhH  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ]\xt[/?{  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 dA h cA.  
4.13  背景 77 '0+I'_(  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Zmyq6.1q~  
4.15  生成Rugate 84 =Q_1Mr4O  
4.16  参考文献 91 iP(MDVg  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 :b44LXKCP  
5.1  Jobs 92 `nyz,  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 f 3H uT=n  
5.3  输入材料 94 U7x  
5.4  设计数据文件夹 95 @GKDSS4jv  
5.5  默认设计 95 pWRdI_  
6  细化和合成 97 7#E/Q~]'6  
6.1  优化介绍 97 4@0aN6Os  
6.2  细化 (Refinement) 98 |D)CAQn,  
6.3  合成 (Synthesis) 100 2.Vrh@FNRo  
6.4  目标和评价函数 101 |M7C=z='  
6.4.1  目标输入 102 ,"`20.Lv  
6.4.2  目标 103 G!I++M"  
6.4.3  特殊的评价函数 104 [}4zqY{  
6.5  层锁定和连接 104 %>*?uO`z[  
6.6  细化技术 104 FvT4?7-  
6.6.1  单纯形 105 %0-oZL  
6.6.1.1 单纯形参数 106 @o0HDS  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 uBww  
6.6.2.1 Optimac参数 108 eV?%3h.   
6.6.3  模拟退火算法 109 j-1V,V=  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 1/9*c *w  
6.6.4  共轭梯度 111 #-B<u-  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 mx}5":}  
6.6.5  拟牛顿法 112 K`N$nOw  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 P}Ig6^[m\  
6.6.6  针合成 113 g&g:H H :  
6.6.6.1 针合成参数 114 ~},H+A!?  
6.6.7 差分进化 114 AJ/Hw>>$?m  
6.6.8非局部细化 115 %_E5B6xi{  
6.6.8.1非局部细化参数 115 pA.orx  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 M]5l-i$  
6.7.1  细化 116 (>0`e8v!  
6.7.2  合成 117 wetu.aMp  
6.8  参考文献 117 lD$s, hp  
7  导纳图及其他工具 118 |2^m CL.r  
7.1  简介 118 = cxO@Fu  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ti+e U$  
7.2.1  四分之一波长规则 119 K;"H$0 !9  
7.2.2  导纳图 120 R WY>`.su  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 =r/K#hOR\J  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ??nT[bhQ  
7.5  斜入射导纳图 141 3/vtx9D  
7.6  对称周期 141 ODu/B'*  
7.7  参考文献 142 0t!ZMH  
8  典型的镀膜实例 143 rmw}Ui"  
8.1  单层抗反射薄膜 145 h's[) t  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ]xvhUv!G  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 l#cVQ_^"  
8.4  W-膜层 148 mdL T7  
8.5  V-膜层 149 M{p6&eg  
8.6  V-膜层高折射基底 150 M %zf?>])  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ',hoe  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 TSFrv8L  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ,zZH>P  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 :gRrM)n  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 `{YOl\d_  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ]Qe~|9I  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 G--vwvL  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 %rs2{Q2k  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 > U3>I^Y  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 gs1  
8.17  1/4波长堆栈 162 s8(Z&pQ  
8.18  陷波滤波器 163 XzV>q~I3|E  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 MDa[bQ NM  
8.20  褶皱 165 CxaI@+  
8.21  消偏振分光器1 169 7V=deYt_p  
8.22  消偏振分光器2 171 Nkb%4ofKqu  
8.23  消偏振立体分光器 172 Pq~#SxA~  
8.24  消偏振截止滤光片 173 =4q5KI  
8.25  立体偏振分束器1 174 o7we'1(O  
8.26  立方偏振分束器2 177 {C`M<2W]  
8.27  相位延迟器 178 }k AE  
8.28  红外截止器 179 ~jKIuO/  
8.29  21层长波带通滤波器 180 q#Otp\f  
8.30  49层长波带通滤波器 181 GAH<  
8.31  55层短波带通滤波器 182 hK4ww"-  
8.32  47 红外截止器 183 7202N?a {  
8.33  宽带通滤波器 184 Flpl,|n a  
8.34  诱导透射滤波器 186 yT%<  t  
8.35  诱导透射滤波器2 188 b^[>\s'  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 :fX61S6)  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 DDIRJd<J  
8.35  增益平坦滤波器 193 >.39OQ#  
8.38  啁啾反射镜 1 196 "nJMS6HJ[  
8.39  啁啾反射镜2 198 n"iaE  
8.40  啁啾反射镜3 199 ;N!n06S3  
8.41  带保护层的铝膜层 200 hDJ+Rk@  
8.42  增加铝反射率膜 201 hQ%X0X,  
8.43  参考文献 202 g0~m[[  
9  多层膜 204 fm^tU0DY  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 S%]4['Y  
9.2  内部透过率 204 hBZh0x y  
9.3 内部透射率数据 205 9[{q5  
9.4  实例 206 4cm~oZ  
9.5  实例2 210 Lo'G fHE  
9.6  圆锥和带宽计算 212 tm34Z''.>  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 9%k4Ic%P  
10  光学薄膜的颜色 216 *s1o?'e  
10.1  导言 216 8f?o?c|  
10.2  色彩 216 ZnbpIJ8cV  
10.3  主波长和纯度 220 j}h%, 7  
10.4  色相和纯度 221 9 [E/^  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 |<]wM(GxE  
10.6 色差 226 ?fU{?nI}>p  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 7}=MVp] )S  
10.8  颜色渲染指数 234 *JW.ca}  
10.9  色差计算 235 D_f :D^  
10.10  参考文献 236 ,+Ya'4x  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 |%Y=]@f  
11.1  短脉冲 238 >hnhV6ss  
11.2  群速度 239 " H=fWz5z  
11.3  群速度色散 241 |c]L]PU  
11.4  啁啾(chirped) 245 tr 8Q{  
11.5  光学薄膜—相变 245 >Y3zO2Cr  
11.6  群延迟和延迟色散 246 1{xkAy0  
11.7  色度色散 246 &@&^k$du8q  
11.8  色散补偿 249 dZJU>o'BG  
11.9  空间光线偏移 256 CZv^,O(M?2  
11.10  参考文献 258 p{V(! v|  
12  公差与误差 260 [di&N!Ao  
12.1  蒙特卡罗模型 260 fK4O N'[R:  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 fb]=MoiJ  
12.2.1  误差工具 267 >vfLlYx  
12.2.2  灵敏度工具 271 wzI*QXV2s  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 9 Xh<vh8&  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 YBk* CW9  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 { 6*UtG  
12.3  参考文献 276 FZ% WD@=  
13  Runsheet 与Simulator 277 l~`JFWur]  
13.1  原理介绍 277 Bm^8"SSN  
13.2  截止滤光片设计 277 Gm\jboef]  
14  光学常数提取 289 No/D"S#  
14.1  介绍 289 zy9W{{:P(1  
14.2  电介质薄膜 289 .O4=[wE!U  
14.3  n 和k 的提取工具 295 0c#|LF_  
14.4  基底的参数提取 302 tUFXx\p  
14.5  金属的参数提取 306 PurY_  
14.6  不正确的模型 306 P6ugbq[x#e  
14.7  参考文献 311 |SsmVW$B|  
15  反演工程 313 ) nn v{hN  
15.1  随机性和系统性 313 kL}*,8s{  
15.2  常见的系统性问题 314 zL:k(7E  
15.3  单层膜 314 k*T&>$k}^  
15.4  多层膜 314 QTI^?@+N>  
15.5  含义 319 iHOvCrp+X  
15.6  反演工程实例 319 ,6\oT;G  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 8x6{[Tx   
15.6.2 反演工程提取折射率 327 'P >h2^z  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 W QyMM@#  
16.1  光学性质的热致偏移 329 cp 7;~i3  
16.2  应力工具 335 fPsUIlI/A  
16.3  均匀性误差 339 [%7oq;^J  
16.3.1  圆锥工具 339 .`N&,&H  
16.3.2  波前问题 341 oth=#hfU^  
16.4  参考文献 343 Ru`7Xd.  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 U[l{cRT   
17.1  引言 345 af2yng  
17.2  操作数 345 P0szY"}  
18  如何在Function中编写脚本 351 a`QKN rA2  
18.1  简介 351 WG*S:_?  
18.2  什么是脚本? 351 Os|F  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 /SYzo4(  
18.4  基础 352 yNmzRH u  
18.4.1  Classes(类别) 352 rexy*Xv`2p  
18.4.2  对象 352 e/u (Re  
18.4.3  信息(Messages) 352 a{8g9a4  
18.4.4  属性 352 vJ!<7 l&  
18.4.5  方法 353 X6c['Zrc  
18.4.6  变量声明 353 y <21~g=  
18.5  创建对象 354 3MFb\s&Fq  
18.5.1  创建对象函数 355 +QVe -  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 B6a   
18.5.3 丢弃对象 356 syLpnNx=  
18.5.4  总结 356 C")NN s =  
18.6  脚本中的表格 357 Q |J$ R  
18.6.1  方法1 357 0Fm,F&12  
18.6.2  方法2 357 5oI gxy  
18.7 2D Plots in Scripts 358 (&Z`P  
18.8 3D Plots in Scripts 359 2(sq*!tX  
18.9  注释 360 Ni 5Su  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 J#& C&S 2  
18.11  一个更高级的脚本 362 Lv?e[GA  
18.12  <esc>键 364 :Qra9; Y  
18.13 包含文件 365 -nrfu)G  
18.14  脚本被优化调用 366  ~/kx  
18.15  脚本中的对话框 368 ~,.}@XlgT.  
18.15.1  介绍 368 g{06d~Y  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 9gokTFoN  
18.15.3  输入框函数 370 Arb-,[kwN  
18.15.4  自定义对话框 371 c 7uryL  
18.15.5  对话框编辑器 371 F45UO%/P  
18.15.6  控制对话框 377 u0& dDZ  
18.15.7  更高级的对话框 380 /?P="j#u  
18.16 Types语句 384 V|8`]QW@  
18.17 打开文件 385 GiN\@F!  
18.18 Bags 387 %@Ty,d:;=  
18.13  进一步研究 388 D#,P-0+%  
19  vStack 389 w_!]_6%{b  
19.1  vStack基本原理 389 +b]+5!  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Pa !r*(M)C  
19.3  五棱镜 393 6+[7UH~pm^  
19.4 光束距离 396 ;MR(Eaep  
19.5 误差 399 M%8:  
19.6  二向分色棱镜 399 pP6pn~ }  
19.7  偏振泄漏 404 c}>p"  
19.8  波前误差—相位 405 _=eeZ4f  
19.9  其它计算参数 405 F$Q@UVA  
20  报表生成器 406 Ll L8Q  
20.1  入门 406 bJE$>  
20.2  指令(Instructions) 406 M(2c{TT  
20.3  页面布局指令 406 hD:$Sv/H  
20.4  常见的参数图和三维图 407 t~0}Emgp<(  
20.5  表格中的常见参数 408 _ %HyXd  
20.6  迭代指令 408 c*g(R.!  
20.7  报表模版 408 U\A*${  
20.8  开始设计一个报表模版 409 LAwl9YnG:  
21  一个新的project 413 "K8<X  
21.1  创建一个新Job 414 Sgt@G=_o  
21.2  默认设计 415 Px)/`'D  
21.3  薄膜设计 416 zV }-_u.  
21.4  误差的灵敏度计算 420 v5 yOh5  
21.5  显色指数计算 422 7QlA/iKqK  
21.6  电场分布 424 2ajQ*aNq  
后记 426 rtz%(4aS  
<eq93  
IYy2EK[s  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 Tl!}9/Q5E:  
P2`!)teN  
《Essential Macleod中文手册》
U9KnW]O%"  
5"[Qs|VjA6  
目  录 Z=Oo%lM6B  
zA![c l>$  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Z;_WU  
第1章 介绍 ..........................................................1 dfo{ B/+  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ;!k1LfN  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 uL!{xuN  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 >4.{|0%ut  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 he/UvMu  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 +x!V;H(  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 $zTjh~ 9  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 zX!zG<<K  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 EV@xUq!x .  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 tF)aNtX4^  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 nJYcC"f  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 J}coWjw`q  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 R4"g? e  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 kg$<^:uX  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 t`DoTb4  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ^z$-NSlI  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 eA>O<Z1>  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 $H/3t?6h`  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 WZ'3  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 bf `4GD(  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 )jp#|#h  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 )#r]x1[Kn  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ,c6ID|\  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 k[N46=u  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 v.+-)RLQg  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 JQ%`]=n(/  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 //W<\  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 =F ZvtcCa  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1