线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1068
时间地点 9"f  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 =&#t ("  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 CSlPrx2\  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 51Q~/  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 m4,inA:o  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
{9XQ~t"m^  
特邀专家介绍 ->`R[k  
y;=/S?L.:  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 wG X\ub#!  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 gp NAM"  
课程概要 |6 E !wW  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 :ioD  *k  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 <F ?UdMT4y  
课程大纲 epG!V#I  
1. Essential Macleod软件介绍 `qhZZ{s)1U  
1.1 介绍软件 >;+q,U}  
1.2 创建一个简单的设计 A 1B_EX.  
1.3 绘图和制表来表示性能 jS4 fANG  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 zszx~LSvIT  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) mOntc6&]  
1.6 特定设计的公式技术 !'*1;OQ  
1.7 交互式绘图 [WO>}rGw4  
2. 光学薄膜理论基础 +u;RFY^  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 lf}%^od~6  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 *Ke\Yb  
3. 材料管理 $PFE>=nM  
3.1 材料模型 Eg4_kp0Lq  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 {ZKXT8'  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Xd5uF/w  
3.4 基板光学常数的提取 ='Yg^:n  
4. 光学薄膜设计优化方法 Vr hd\  
4.1 参考波长与g H0-v^H>^  
4.2 四分之一规则 U:uF rb,  
4.3 导纳与导纳图 v)<|@TD)  
4.4 斜入射光学导纳 WT jy"p*  
4.5 光学薄膜设计的进展 ^1;Eq>u  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 f7I!o, /  
4.6.1 优化目标设置 V;u FYt; E  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) +lZvj=gW  
4.6.3 膜层锁定和链接 Aaz2._:/-m  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 Z4369  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 *{dMo,.eI  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 AtNF&=Op  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 /ommM  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 `NCH^)  
5.5 如何在Function中编写脚本 9}z%+t8u  
6. 光学薄膜系统案例 Zx)gLDd  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 R<;;Ph  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 $y,tR.5.)[  
6.3 Stack应用范例说明 bp>M&1^KY  
7. 薄膜性能分析 sE!$3|Q  
7.1 电场分布 a LJ d1Q  
7.2 公差与灵敏度分析 R7/ET"  
7.3 反演工程 mq+<2 S  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 \ {;3'<  
8. 真空技术 $Z<x r  
8.1 常用真空泵介绍 _FkIg>s  
8.2 真空密封和检漏 Lmw4  
9. 薄膜制备技术 uMX\Y;N  
9.1 常见薄膜制备技术 /]-a 1  
10. 薄膜制备工艺 .1 jeD.l  
10.1 薄膜制备工艺因素 ,1>n8f77]  
10.2 薄膜均匀性修正技术 d[oHjWk  
10.3 光学薄膜监控技术 /i(R~7;?  
11. 激光薄膜 Suy +XHV  
11.1 薄膜的损伤问题 #,9#x]U#v  
11.2 激光薄膜的制备流程 QBb%$_Z  
11.3 激光薄膜的制备技术 Nf%/)Tk  
12. 光学薄膜特性测量 %|'VucLx  
12.1 薄膜光谱测量 V#X<Yt  
12.2 薄膜光学常数测量 ,O_iSohS  
12.3 薄膜应力测量 {'yr)(:2M  
12.4 薄膜损伤测量 +aN"*//i  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 j7~Rw"(XQc  
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有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
8wMwS6s:  
内容简介 j+("4b'  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 '<xV]k|v  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ]A:8x`z#F  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 <[?ZpG  
S=G2%u!;  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
?{\h`+A  
目录 CI=M0  
Preface 1 pd-I^Q3-  
内容简介 2 WWT1_&0  
目录 i !o\e/HGc!  
1  引言 1 *z&hXYm  
2  光学薄膜基础 2 yw >Frb5p  
2.1  一般规则 2 6pbtE]  
2.2  正交入射规则 3 8khIy-9-'  
2.3  斜入射规则 6 r?/!VO-*N  
2.4  精确计算 7 ~.CmiG.7  
2.5  相干性 8 *d9RD~Ee  
2.6 参考文献 10 ~l]g4iEp  
3  Essential Macleod的快速预览 10 hGRHuJ  
4  Essential Macleod的特点 32 K94bM5O 1  
4.1  容量和局限性 33 -6$GM J7  
4.2  程序在哪里? 33 }6gum  
4.3  数据文件 35 (*9-Fa  
4.4  设计规则 35 L;v.X'f  
4.5  材料数据库和资料库 37 &r2\P6J  
4.5.1材料损失 38 pA6A*~QE  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 xtut S  
4.5.2 材料库 41 biENRJQ.  
4.5.3导出材料数据 43 gv1y%(`|n(  
4.6  常用单位 43 KbMan~Pb6  
4.7  插值和外推法 46 Q 3/J @MC  
4.8  材料数据的平滑 50 ]K QQdr   
4.9 更多光学常数模型 54 KW/LyiP#  
4.10  文档的一般编辑规则 55 |,tKw4  
4.11 撤销和重做 56 CZf38$6X  
4.12  设计文档 57 @@cc /S  
4.10.1  公式 58 *MQ`&;Qa,  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 jZ''0Lclpc  
4.10.3  沉积密度 59 !|8"}ZF  
4.10.4 平行和楔形介质 60 IyAD>Q^  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Mbn;~tY>  
4.10.4  性能 61 M0$E_*  
4.10.5  保存设计和性能 64 k 7:Z\RGy  
4.10.6  默认设计 64 N_/+B]r }T  
4.11  图表 64 tG~[E,/`  
4.11.1  合并曲线图 67 "28zLo3  
4.11.2  自适应绘制 68 wF3 MzN=%  
4.11.3  动态绘图 68 -A zOujSS  
4.11.4  3D绘图 69 f~7V<v  
4.12  导入和导出 73 1iqgVby  
4.12.1  剪贴板 73 6"; ITU^v  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 !(gSXe)*  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 yCN?kHG  
4.13  背景 77 1 J}ML}h)  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 )_Z^oH ]<  
4.15  生成Rugate 84 VfozqUf  
4.16  参考文献 91 %m+7$iD  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 P#D|CP/Cu  
5.1  Jobs 92 Q>71uM%e`  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 =2}V=E/85  
5.3  输入材料 94 8H|ac[hXK2  
5.4  设计数据文件夹 95 JKy~'>Q  
5.5  默认设计 95 {h PB%  
6  细化和合成 97 Pm,.[5uc  
6.1  优化介绍 97 k SgE_W)  
6.2  细化 (Refinement) 98 _?bO /y_y  
6.3  合成 (Synthesis) 100 /4@ [^}x  
6.4  目标和评价函数 101 O<E8,MCA[a  
6.4.1  目标输入 102 x=+>J$~Pb  
6.4.2  目标 103 4c[/%e:\-  
6.4.3  特殊的评价函数 104 K)5j  
6.5  层锁定和连接 104 Sp*4Z`^je  
6.6  细化技术 104 CD%Cb53  
6.6.1  单纯形 105 tzv4uD]  
6.6.1.1 单纯形参数 106 { {:Fs  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 bwj{5-FU  
6.6.2.1 Optimac参数 108 sG)aw`_j  
6.6.3  模拟退火算法 109 /0$fYrg>J  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 r?!:%L  
6.6.4  共轭梯度 111 WA0D#yuJ/  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 k/sfak{Q  
6.6.5  拟牛顿法 112 gS8+S\2  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 43]y]/do  
6.6.6  针合成 113 (w:,iw#  
6.6.6.1 针合成参数 114 #<Lv&-U<KT  
6.6.7 差分进化 114 *")*w> R  
6.6.8非局部细化 115 )WInPW  
6.6.8.1非局部细化参数 115  .FC+  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 Z4rk$K'=1w  
6.7.1  细化 116 *ra>Kl0   
6.7.2  合成 117 A^#\=ZBg1  
6.8  参考文献 117 5+;Mc[V3-  
7  导纳图及其他工具 118 #9Ect@?N0  
7.1  简介 118 2ij&Db/  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 s]|tKQGl,  
7.2.1  四分之一波长规则 119 6B|i-b $~  
7.2.2  导纳图 120 0{vH.b @  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 )RT?/NW  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 9 M%Gnz  
7.5  斜入射导纳图 141 Pq8oK'z -  
7.6  对称周期 141 9t6c*|60#n  
7.7  参考文献 142 |cgjn*a?M  
8  典型的镀膜实例 143 K&Bbjb_|  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Y;%LwDC  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 (CY D]n  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 CtV|oeJ  
8.4  W-膜层 148 r-TrA$k  
8.5  V-膜层 149 Ff(};$/& W  
8.6  V-膜层高折射基底 150 MfHOn YV  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 +L`}(yLJ)9  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {Dk!<w I)  
8.9  四层抗反射薄膜 153 '^>} =f  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 goA=U  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Tjq1[Wq  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 dH PvVe/  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 `lWGwFgg(  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 JJ%@m;~  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ENIg_s4  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 BV:Ca34&  
8.17  1/4波长堆栈 162 s)`(@"{  
8.18  陷波滤波器 163 ()bQmNqmO=  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 [l3\0e6-/  
8.20  褶皱 165 iw3\`,5   
8.21  消偏振分光器1 169 ",D!8>=s  
8.22  消偏振分光器2 171 )Uy%iE*  
8.23  消偏振立体分光器 172 U|V,&RlbR  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Tx!t3;Yz[  
8.25  立体偏振分束器1 174 8.n#@%  
8.26  立方偏振分束器2 177 Wc2&3p9 c  
8.27  相位延迟器 178 c:u*-lYmK%  
8.28  红外截止器 179 6V%}2YE?X  
8.29  21层长波带通滤波器 180 7Q9Hk(Z9  
8.30  49层长波带通滤波器 181 E+qLj|IU  
8.31  55层短波带通滤波器 182 \<*F#3U1  
8.32  47 红外截止器 183 l<GN<[/.+  
8.33  宽带通滤波器 184 5WJ ~%"O  
8.34  诱导透射滤波器 186 _.Hj:nFHz  
8.35  诱导透射滤波器2 188 6XF Ufi+  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 3qf#NJN}  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 G3io!XM)D  
8.35  增益平坦滤波器 193 "Zh,;)hS  
8.38  啁啾反射镜 1 196 BVNJas  
8.39  啁啾反射镜2 198 nPdkvs   
8.40  啁啾反射镜3 199 ,v K%e>e&  
8.41  带保护层的铝膜层 200 5L[imOM0  
8.42  增加铝反射率膜 201 eyJWFJh  
8.43  参考文献 202 KR?aL:RYb  
9  多层膜 204 2Ax"X12{6  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 =VzJ>!0  
9.2  内部透过率 204 G=|?aK{p  
9.3 内部透射率数据 205 4@3\Ihv  
9.4  实例 206 '`2'<^yO  
9.5  实例2 210 i/+^C($'f  
9.6  圆锥和带宽计算 212 K~,!IU_QG  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ?D _4KFr  
10  光学薄膜的颜色 216 h~\k;ca  
10.1  导言 216 4X]/8%]V  
10.2  色彩 216 iL);bv W  
10.3  主波长和纯度 220 [mu8V+8@d4  
10.4  色相和纯度 221 m;l[flQ~  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 _>\33V-?b  
10.6 色差 226 :38h)9>RK  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 E> GmFw  
10.8  颜色渲染指数 234 '1LN)Yw  
10.9  色差计算 235 v4s4D1}  
10.10  参考文献 236 t2)uJN`a$X  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 yO7y`;Q(sF  
11.1  短脉冲 238 "h_f- vP  
11.2  群速度 239 ]pBEoktp  
11.3  群速度色散 241 k- 9i  
11.4  啁啾(chirped) 245 IC'+{3.m8  
11.5  光学薄膜—相变 245 3WF]%P%  
11.6  群延迟和延迟色散 246 y,`n9[$K\  
11.7  色度色散 246 #~nXAs]Q  
11.8  色散补偿 249 Ve%ua]qA  
11.9  空间光线偏移 256 j!i* &  
11.10  参考文献 258 /)J]ItJlz  
12  公差与误差 260 >8I~i:hn  
12.1  蒙特卡罗模型 260 :?zq!  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 !AE;s}v)0{  
12.2.1  误差工具 267 h<3b+*wYJC  
12.2.2  灵敏度工具 271 g4=1['wW  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 [;,E cw^  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 1?H; c5?d&  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 rtz-kQ38R  
12.3  参考文献 276  VQH48{X  
13  Runsheet 与Simulator 277 ^g6v#]&WA  
13.1  原理介绍 277 b'+Wf#.]f0  
13.2  截止滤光片设计 277 KBtqtE'(L  
14  光学常数提取 289 !9 kNL  
14.1  介绍 289 51|s2+GG  
14.2  电介质薄膜 289 f\= @jV  
14.3  n 和k 的提取工具 295 *Ci&1Mu^Z  
14.4  基底的参数提取 302 I2CI9,0  
14.5  金属的参数提取 306 %/w-.?bX  
14.6  不正确的模型 306 plB8iN`x<  
14.7  参考文献 311 _0rt.NRD  
15  反演工程 313 ,jC~U s<  
15.1  随机性和系统性 313 zqdkt `  
15.2  常见的系统性问题 314 /ojwOJ  
15.3  单层膜 314 YT!iI   
15.4  多层膜 314 +BtLd+)R  
15.5  含义 319 <}~ /. Cx  
15.6  反演工程实例 319 4h!yh2c..  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ;W5.g8  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 + >dC  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 vzI>:Bf  
16.1  光学性质的热致偏移 329 (Ud"+a  
16.2  应力工具 335 jW8ad{  
16.3  均匀性误差 339 A}9^,C$#  
16.3.1  圆锥工具 339 jbS@6 * _  
16.3.2  波前问题 341 npkT>dB+  
16.4  参考文献 343 !O!:=wq  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 s-Gd{=%/q  
17.1  引言 345 )fXw~  
17.2  操作数 345 #@BhGB`9Qt  
18  如何在Function中编写脚本 351 /'DAB**  
18.1  简介 351 .$cX:"_Mk  
18.2  什么是脚本? 351 =3'B$PY  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ;U?=YSHk7  
18.4  基础 352 5g-1pzP9  
18.4.1  Classes(类别) 352 ^E \4`  
18.4.2  对象 352 WP\kg\o  
18.4.3  信息(Messages) 352 cLL2 '  
18.4.4  属性 352 $> QJ%v9+  
18.4.5  方法 353 ,|$1(z*a{c  
18.4.6  变量声明 353 D]iyr>V6'  
18.5  创建对象 354 y{(Dv}   
18.5.1  创建对象函数 355 \PN*gDmX  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 a+v.(mCG  
18.5.3 丢弃对象 356 [g"nu0sOK  
18.5.4  总结 356 Dj=$Q44  
18.6  脚本中的表格 357 r\fkx>  
18.6.1  方法1 357 `dX0F=Ag?  
18.6.2  方法2 357 |4/rVj"  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ~5|R`%  
18.8 3D Plots in Scripts 359 \anOOn@  
18.9  注释 360 Fg p|gw4  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ImB5F'HI$  
18.11  一个更高级的脚本 362 MX#LtCG#V  
18.12  <esc>键 364 VgbT/v  
18.13 包含文件 365 ;8MQ'#  
18.14  脚本被优化调用 366 Q1kM 4Up  
18.15  脚本中的对话框 368 imM#zy  
18.15.1  介绍 368 W^HE1Dt]  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 x76;wQ  
18.15.3  输入框函数 370 :/PxfN5  
18.15.4  自定义对话框 371 |ul{d|  
18.15.5  对话框编辑器 371 c]k+ Sx&}  
18.15.6  控制对话框 377 h]i vXF*  
18.15.7  更高级的对话框 380 PQ_A^95  
18.16 Types语句 384 L"1AC&~ u  
18.17 打开文件 385 It2:2  
18.18 Bags 387 UT{`'#iT  
18.13  进一步研究 388 ;=P!fvHk  
19  vStack 389 9k9}57m.i  
19.1  vStack基本原理 389 '?I3&lYz{  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 }vP(SF 6  
19.3  五棱镜 393 H^o_B1  
19.4 光束距离 396 #t Pc<p6m  
19.5 误差 399 +:aNgO#e8  
19.6  二向分色棱镜 399 ]T5\LNyN  
19.7  偏振泄漏 404 ?)<zzL",  
19.8  波前误差—相位 405 v`Y{.>[H[  
19.9  其它计算参数 405 :>ca).cjac  
20  报表生成器 406 A[fTpS~~%  
20.1  入门 406 FD%OG6db];  
20.2  指令(Instructions) 406 l%0-W  
20.3  页面布局指令 406 /i_FA]Go  
20.4  常见的参数图和三维图 407 =_N $0  
20.5  表格中的常见参数 408 pIpdVKen  
20.6  迭代指令 408 EcytNYn  
20.7  报表模版 408 S 1~EJa5H  
20.8  开始设计一个报表模版 409 )B+zv,#q  
21  一个新的project 413 CO, {/  
21.1  创建一个新Job 414 M.qv'zV`xG  
21.2  默认设计 415 NTK9`#SA  
21.3  薄膜设计 416 f#I#24)RH  
21.4  误差的灵敏度计算 420 `25<;@  
21.5  显色指数计算 422 ][//G|9  
21.6  电场分布 424 |eye) E:  
后记 426 3H>\hZ  
L"c.15\  
fV6ddh  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 BVus3Y5IJQ  
hhU\$'0B-  
《Essential Macleod中文手册》
j-i>Jd7  
S5H}   
目  录 spQr1hx<  
}2c&ARQ.m>  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 hVFZQJ?cv  
第1章 介绍 ..........................................................1 5~[][VV^  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 I+3=|Ve f  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ;>5]KNj  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 @0tX ,Z9  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 o1{3[=G  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 I^n,v) 8  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 H|`D3z.c  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Ix(,gDN  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 EK Q>hww8  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 <wd;W;B  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 WD kE 5  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 s`v$r,N0  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 x.Ny@l%]  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 pP"j|  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180  r/)ZKO,  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 NCo!n$O1~  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 sC2NFb-+&  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 QaA?UzB  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 23'<R i  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 "|,KXv')  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 $i!r> .Jo  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 U ){4W0  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 z7P~SM  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 nC?Lz1re  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 7G Erh,  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 '9Q#%E!*  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 +`$$^x  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 BT$Oh4y4  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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