线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:273
时间地点 EpCsJ08K  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 4<`'?  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 3-5X^!C  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 8QN#PaY  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 %4~2  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
$($26g  
特邀专家介绍 +84JvOkWi  
2#bpWk9  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 fYuz39#*  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 " E U[Lb  
课程概要 nDvj*lZF  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 vf+GC*f  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 VnB"0 "%w  
课程大纲 M/X&zr  
1. Essential Macleod软件介绍 1 \_S1ZS  
1.1 介绍软件 mPy=,xYyC  
1.2 创建一个简单的设计 2O^7zW  
1.3 绘图和制表来表示性能 ? L A>5  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 {>E`Zf:  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) GDgq 4vfj  
1.6 特定设计的公式技术 ySLa4DQf  
1.7 交互式绘图  1 U|IN=  
2. 光学薄膜理论基础 V uqJ&U.-  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 !vB8Pk"  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 +p:#$R)MW  
3. 材料管理 CXr]V"X9  
3.1 材料模型 FCu0)\  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 GoK[tjb  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 WxB}Uh  
3.4 基板光学常数的提取 U=4tJb  
4. 光学薄膜设计优化方法 Ungex@s_  
4.1 参考波长与g M~Tx 4_t  
4.2 四分之一规则 c5& _'&  
4.3 导纳与导纳图 QN!$41A?{  
4.4 斜入射光学导纳 $d]3ek/  
4.5 光学薄膜设计的进展 lC8DhRd0_  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 aB6F<"L,  
4.6.1 优化目标设置 h <s.o#8  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) -hx' T6G%  
4.6.3 膜层锁定和链接 Ka|WT|1  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 9%i|_c}  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 M PhG:^g  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 vKv!{>,v9Z  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 3_:J`xX(4  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 \zA G#{  
5.5 如何在Function中编写脚本 0:Ow$  
6. 光学薄膜系统案例 8cV3VapF  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Sl,\  <a  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 L 1FT h  
6.3 Stack应用范例说明 dX4"o?KD>  
7. 薄膜性能分析 fO+$`r>9  
7.1 电场分布 95 7Cr  
7.2 公差与灵敏度分析 7q2G/_  
7.3 反演工程 Cpm&w?6  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 hx4X#_)v  
8. 真空技术 ^XsIQz[q  
8.1 常用真空泵介绍 n*UD0U}`  
8.2 真空密封和检漏 To_Y 8 G  
9. 薄膜制备技术 MlDWK_y_&  
9.1 常见薄膜制备技术 ?pS,?>J f  
10. 薄膜制备工艺 @+OX1-dd/w  
10.1 薄膜制备工艺因素 D<-MbK^S  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ?Vy% <f$  
10.3 光学薄膜监控技术 IQ$cLr-S  
11. 激光薄膜 hRU.^Fn#%  
11.1 薄膜的损伤问题 v{/z`J!JR  
11.2 激光薄膜的制备流程 S?ypka"L  
11.3 激光薄膜的制备技术 oa4{s&db-  
12. 光学薄膜特性测量 IY Ilab\TZ  
12.1 薄膜光谱测量 x4$#x70?  
12.2 薄膜光学常数测量 P4&3jQ[o  
12.3 薄膜应力测量 mBQA~@ }  
12.4 薄膜损伤测量 ;L <D-=  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 `eD70h`XK  
xc4g`Xi  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 2pKkg>/S  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Bu[sSoA  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 MLbmz\8a  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 it Byw1/  
|ia#Elavo  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
p\A!"KC  
目录 %25GplMT  
Preface 1 gk &  
内容简介 2 JDp"!x{O  
目录 i [{}Hk%wlX  
1  引言 1 (KHO'QNMt^  
2  光学薄膜基础 2 `%%/`Qpj;  
2.1  一般规则 2 Zb p+b;  
2.2  正交入射规则 3 | z 1  
2.3  斜入射规则 6 9L2]PU v  
2.4  精确计算 7 }:04bIaV  
2.5  相干性 8 G1RUu-~+  
2.6 参考文献 10 ><t4 f(d  
3  Essential Macleod的快速预览 10 zl a^j,  
4  Essential Macleod的特点 32 RgB5'$x}  
4.1  容量和局限性 33 ]0Y5 Z)3:z  
4.2  程序在哪里? 33 h83W;s  
4.3  数据文件 35 /AT2<w  
4.4  设计规则 35 LqZsH0C  
4.5  材料数据库和资料库 37 U=kP xe  
4.5.1材料损失 38 U*p;N,SjQ  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 k H.e"e  
4.5.2 材料库 41 S.4gfY  
4.5.3导出材料数据 43 ,/oqLI\  
4.6  常用单位 43 WQJnWe   
4.7  插值和外推法 46 {5GXN!f  
4.8  材料数据的平滑 50 -z s5WaJn/  
4.9 更多光学常数模型 54 0*=[1tdWY  
4.10  文档的一般编辑规则 55 bfE4.YF  
4.11 撤销和重做 56 !R`E+G@   
4.12  设计文档 57 Em<B 9S  
4.10.1  公式 58 IBT 1If3  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 u~]O #v  
4.10.3  沉积密度 59 D1ep7ykY  
4.10.4 平行和楔形介质 60 rpB0?h!$  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 o)V@|i0Js  
4.10.4  性能 61 k1.h|&JJN  
4.10.5  保存设计和性能 64 n|p(Cb#G  
4.10.6  默认设计 64 /h(bMbZ  
4.11  图表 64 ~;V5*t  
4.11.1  合并曲线图 67 SsY :gp_  
4.11.2  自适应绘制 68 prk@uYCa =  
4.11.3  动态绘图 68 762c`aP_(  
4.11.4  3D绘图 69 (XU( e  
4.12  导入和导出 73 e|-%-juI  
4.12.1  剪贴板 73 rGn6S &-  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Sc.@u3  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ]B2%\}c  
4.13  背景 77 2FE13{+f  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Jyz*W!kI  
4.15  生成Rugate 84 j*6>{_[  
4.16  参考文献 91 CVAX?c{   
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Q?g#?z&Pu\  
5.1  Jobs 92 t+l{D#?a  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 )wM881_!  
5.3  输入材料 94 znkc@8_4  
5.4  设计数据文件夹 95 .rcXxV@f  
5.5  默认设计 95 >53Hqzm&  
6  细化和合成 97 fi tsu"G  
6.1  优化介绍 97 EK%J%NY  
6.2  细化 (Refinement) 98 {hH8+4c7  
6.3  合成 (Synthesis) 100 yt4sg/] :  
6.4  目标和评价函数 101 u[<ij  
6.4.1  目标输入 102 sJ>JHv  
6.4.2  目标 103 .3 S9=d?  
6.4.3  特殊的评价函数 104 oG$OZTc  
6.5  层锁定和连接 104 U>-GM >  
6.6  细化技术 104 N?{.}-Q  
6.6.1  单纯形 105 U&'Xs z  
6.6.1.1 单纯形参数 106 O:{N5+HVG  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 x,fX mgE  
6.6.2.1 Optimac参数 108 tJa*(%Z?f  
6.6.3  模拟退火算法 109 )4;$;a1  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 $fhR1A  
6.6.4  共轭梯度 111 p6&6^v\  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 CxV$_J  
6.6.5  拟牛顿法 112 Maw$^Tz,  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 IQ $/|b/  
6.6.6  针合成 113 K&{ruHoKB  
6.6.6.1 针合成参数 114 ,GY K3+}Z  
6.6.7 差分进化 114 b(Nxk2uv  
6.6.8非局部细化 115 2~ y<l  
6.6.8.1非局部细化参数 115 "+Kp8n6  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 (Rs|"];?Z  
6.7.1  细化 116 7csMk5NU'<  
6.7.2  合成 117  5?34<B  
6.8  参考文献 117 mcb|N_#n/  
7  导纳图及其他工具 118 A5IW[Gu!  
7.1  简介 118 \ ^3cNw  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Vwpy/5Hmp  
7.2.1  四分之一波长规则 119 [+wLy3_  
7.2.2  导纳图 120 ,KaO8^PB  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 7Ml OBPh  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 5,#aN}v#?  
7.5  斜入射导纳图 141 b ~C^cM  
7.6  对称周期 141 N+zR7`AG8  
7.7  参考文献 142 G\B:iyKl  
8  典型的镀膜实例 143 ehV}}1>O  
8.1  单层抗反射薄膜 145 G4,.kK  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ?hOv Y)  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 S^7u`-  
8.4  W-膜层 148 THcX.%ToT  
8.5  V-膜层 149 1UN$eb7  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Is(ZVI  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 4Jk[X>I~  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 V`_)H  
8.9  四层抗反射薄膜 153 =kBWY9 :$,  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 b" kL)DL1L  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 2!nz>K  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 =GL^tAUJ  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 X8 A$&  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 _m#P\f'p  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 suFO~/lRno  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 |HQFqa <  
8.17  1/4波长堆栈 162 `C)|}qcC  
8.18  陷波滤波器 163 feT.d +Fd  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 E.4 X,  
8.20  褶皱 165 P] Xl  
8.21  消偏振分光器1 169 '=(@3ggA:  
8.22  消偏振分光器2 171 w^)_Fk3  
8.23  消偏振立体分光器 172 yC9~X='D  
8.24  消偏振截止滤光片 173 v4W<_ 7L_  
8.25  立体偏振分束器1 174 .tzQ hd>  
8.26  立方偏振分束器2 177 hOr4C4  
8.27  相位延迟器 178 >$_@p(w  
8.28  红外截止器 179 Vb/XT{T;b  
8.29  21层长波带通滤波器 180 {TC_ 4Y|8  
8.30  49层长波带通滤波器 181 qR^i5JH}u  
8.31  55层短波带通滤波器 182 HC RmW'  
8.32  47 红外截止器 183 g*$yUt  
8.33  宽带通滤波器 184 |K'7BK_^J  
8.34  诱导透射滤波器 186 o(Q='kK  
8.35  诱导透射滤波器2 188 : G0^t  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 +5ue) `  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 SAUG+{Uq  
8.35  增益平坦滤波器 193 F=V_ACU  
8.38  啁啾反射镜 1 196  m8z414o  
8.39  啁啾反射镜2 198 \)+s)&JLb  
8.40  啁啾反射镜3 199 ]3~X!(O  
8.41  带保护层的铝膜层 200 vU!<-T#  
8.42  增加铝反射率膜 201 )"&\S6*!  
8.43  参考文献 202 5`f\[oA  
9  多层膜 204 >5bd !b,  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 y9-}LET3j  
9.2  内部透过率 204 ~.<}/GP]_  
9.3 内部透射率数据 205 OIrr'uNH  
9.4  实例 206 Ov|Uux  
9.5  实例2 210 )Zit6I  
9.6  圆锥和带宽计算 212 H JjW  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 'Q4V(.   
10  光学薄膜的颜色 216 jrm L>0NZ  
10.1  导言 216 'DCB 7T8  
10.2  色彩 216 SkMBdkS9z[  
10.3  主波长和纯度 220 br7_P1ep  
10.4  色相和纯度 221 <UBB&}R0  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 %^<A` Q_  
10.6 色差 226 uz@WW!+o  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 G FO(O  
10.8  颜色渲染指数 234 :~B'6b  
10.9  色差计算 235 b`X"yg+  
10.10  参考文献 236 !_LRuqQ?"  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 GoRSLbCUR  
11.1  短脉冲 238 QTuj v<|  
11.2  群速度 239 ^*+-0b;[G  
11.3  群速度色散 241 Tp fC  
11.4  啁啾(chirped) 245 MDh^ic5  
11.5  光学薄膜—相变 245 XjV,wsZ=  
11.6  群延迟和延迟色散 246 w@\quy:  
11.7  色度色散 246 JnBg;D|)@  
11.8  色散补偿 249 UY*[='l!)  
11.9  空间光线偏移 256 x#&%lJT  
11.10  参考文献 258 b}5hqIy  
12  公差与误差 260  o0Pc^  
12.1  蒙特卡罗模型 260 4 n\dh<uY  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 4XsKOv  
12.2.1  误差工具 267 ZHW|P  
12.2.2  灵敏度工具 271 *<T,Fyc|  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 F/zbb  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 f/K:~#k  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 SPU_@ Pk  
12.3  参考文献 276 H:&|q+K=#  
13  Runsheet 与Simulator 277 $ h<l  
13.1  原理介绍 277 7s-ZRb[)1  
13.2  截止滤光片设计 277 a]u1_ $)  
14  光学常数提取 289 F3V_rE<  
14.1  介绍 289 ZsikI@?  
14.2  电介质薄膜 289 +x"cWOg  
14.3  n 和k 的提取工具 295 _'47yq^O  
14.4  基底的参数提取 302 #.z`clK#  
14.5  金属的参数提取 306 6Y(Vs>  
14.6  不正确的模型 306 cWG?`6xU&  
14.7  参考文献 311 7Yrp#u1!  
15  反演工程 313 3gzcpFNqX  
15.1  随机性和系统性 313 e.:SBXZ  
15.2  常见的系统性问题 314 _N&]w*ce  
15.3  单层膜 314 6 su^yt  
15.4  多层膜 314 60u}iiC@  
15.5  含义 319 ;wkoQ8FD9  
15.6  反演工程实例 319 fooQqWC)  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 zIjUfgO/M  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 _N-JRM m<  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ]jL`*tI\S  
16.1  光学性质的热致偏移 329 -8r9DS -/W  
16.2  应力工具 335 q[w.[]  
16.3  均匀性误差 339 p|b&hgA  
16.3.1  圆锥工具 339 M&5;Qeoiv  
16.3.2  波前问题 341 7JI&tlR4\c  
16.4  参考文献 343 8=h$6=1S  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 7f9i5E1  
17.1  引言 345 "L p"o  
17.2  操作数 345 (Mw<E<f  
18  如何在Function中编写脚本 351 0^PI&7A?y  
18.1  简介 351 Cyw cJ  
18.2  什么是脚本? 351 rZBOWT  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ird q51{G  
18.4  基础 352 'F665  
18.4.1  Classes(类别) 352 ADa'(#+6  
18.4.2  对象 352 "T_OLegdK  
18.4.3  信息(Messages) 352 CdN,R"V0$@  
18.4.4  属性 352 5Se S^kJC  
18.4.5  方法 353 !Y3 *\  
18.4.6  变量声明 353 ped3}i+|]  
18.5  创建对象 354 8I'Am"bc \  
18.5.1  创建对象函数 355 75pz' Cb  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 S2jO  
18.5.3 丢弃对象 356 .RNr^*AQ  
18.5.4  总结 356 ;uC +5g`  
18.6  脚本中的表格 357 {,|J?>{  
18.6.1  方法1 357 +AT!IZrB2i  
18.6.2  方法2 357 8'(|1  
18.7 2D Plots in Scripts 358 '5mzlR  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ?OU+)kgzh  
18.9  注释 360 I=,u7w`m  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 fJ?$Z|  
18.11  一个更高级的脚本 362 @YEdN}es  
18.12  <esc>键 364 Z-!W#   
18.13 包含文件 365 79>8tOuo  
18.14  脚本被优化调用 366 7Lr}Y/1=  
18.15  脚本中的对话框 368 I oz rZ  
18.15.1  介绍 368 o9:GKc  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 xCd9b:jG  
18.15.3  输入框函数 370 @a1+  
18.15.4  自定义对话框 371 *Iu .>nw  
18.15.5  对话框编辑器 371 #egP*{F   
18.15.6  控制对话框 377 #<7ajmr  
18.15.7  更高级的对话框 380 Xj\SJ*  
18.16 Types语句 384 'M*+HY\.0  
18.17 打开文件 385 =~&Fq$$  
18.18 Bags 387 |xTf:@hgHf  
18.13  进一步研究 388 `NC{+A  
19  vStack 389 $h Is ab_  
19.1  vStack基本原理 389 }@pe `AF^  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 *n)3y.s  
19.3  五棱镜 393 uW&P1 'X  
19.4 光束距离 396 "-N)TIzLX  
19.5 误差 399 lrSo@JQ  
19.6  二向分色棱镜 399 S? }@2[  
19.7  偏振泄漏 404 UN&b]vg  
19.8  波前误差—相位 405 ~%4#R4&  
19.9  其它计算参数 405 89B1\ff  
20  报表生成器 406 &/7AW(?  
20.1  入门 406 N~ -N Q  
20.2  指令(Instructions) 406 XV2f|8d>  
20.3  页面布局指令 406 vXnTPjbE  
20.4  常见的参数图和三维图 407 y?-wjJS>  
20.5  表格中的常见参数 408 #; I8 aMb  
20.6  迭代指令 408 |5}{4k~9J  
20.7  报表模版 408 2#nn}HEOC  
20.8  开始设计一个报表模版 409 /Xi:k  
21  一个新的project 413 uOEFb  
21.1  创建一个新Job 414 {PHxm  
21.2  默认设计 415 C!SB5G>OH  
21.3  薄膜设计 416 %}G:R !4 d  
21.4  误差的灵敏度计算 420 _4z>I/R>Z  
21.5  显色指数计算 422 2-| oN/FD  
21.6  电场分布 424 z(^p@&r)F  
后记 426 x3L3K/qMg  
31|Vb  
nMc d(&`N  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 AA}M"8~2  
Mi\f?  
《Essential Macleod中文手册》
mp~\ioI*d  
l[ ^bo/  
目  录 ru)%0Cyx  
-t % .I=|  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 WK#lE&V3  
第1章 介绍 ..........................................................1 muQ7sJ9 r  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 `3r*Ae  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ^!|BKH8>f%  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 tkWWR%c"  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 Y 3[<  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 +D1;_DU  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 VLtb16|  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Tk/K7h^  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 A 20_a;V  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 A0S6 4(  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 lp?geav  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 f7XmVCz1  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 *D]/V U  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 z@VY s  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 k+-u 4W   
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 XLFJ?$)Tro  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 SR~~rD|V  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 <"CG%RGP  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 \u,hS*v0  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 cX1"<fD o  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 hW>@jT"t1C  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 RXgi>Hz  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 QsI>_<r  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Czb@:l%sc  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 W ;IvR   
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Z/hSH 0(~  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 t ba%L  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 `-Gs*#(/  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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