线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:995
时间地点 xf;>o$oN0P  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 &UnhYG{A  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 v+{{j|x=  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 %eofG]VM<  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 (SW6?5  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
&D{!zF  
特邀专家介绍 9VTAs:0D=  
%"(HjanH  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ]\|2=  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 P]^OSPRg  
课程概要 l9|K,YVW  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 {~9HJDcM  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 |0}Xb|+  
课程大纲 Ot47.z  
1. Essential Macleod软件介绍 r@r*|50  
1.1 介绍软件 !$1qnsz  
1.2 创建一个简单的设计 AC <2.i_  
1.3 绘图和制表来表示性能 :t`W&z41  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 I>nYI|o1  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) P,m+^,  
1.6 特定设计的公式技术 B6&[_cht  
1.7 交互式绘图 0!YVRit\N  
2. 光学薄膜理论基础 &S+*1<|`K  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 bs\k b-\R  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 rz&V.,s  
3. 材料管理 5>%^"f  
3.1 材料模型 M/.M~/ ~  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 | WJ]7C  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 55.2UN  
3.4 基板光学常数的提取 \i,H1a  
4. 光学薄膜设计优化方法 x*F- d2D  
4.1 参考波长与g /y{fDCC  
4.2 四分之一规则 ~cp=B>*(  
4.3 导纳与导纳图 ,8Q0AkG  
4.4 斜入射光学导纳 B=]L%~xL$  
4.5 光学薄膜设计的进展 \;'#8  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 4$vUD1('  
4.6.1 优化目标设置 2"a%%fv  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ] +%`WCr9  
4.6.3 膜层锁定和链接 T7mT:z>:  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 6<\dQ+~  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 9A4n8,&sm  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 SbX^DAlB1  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Xlug{ Uh  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 8iD7K@  
5.5 如何在Function中编写脚本 mIG>`7`7N  
6. 光学薄膜系统案例 t1iz5%`p}  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 . mO8 ~Z  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Y9f7~w^s  
6.3 Stack应用范例说明 <?KgzIq2  
7. 薄膜性能分析 R?lTB3"  
7.1 电场分布 zF FYl7]  
7.2 公差与灵敏度分析 r,IekFBs  
7.3 反演工程 MwQtf(_  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 &/^p:I  
8. 真空技术 kb~ s, @p  
8.1 常用真空泵介绍 YY tVp_)  
8.2 真空密封和检漏 bt1bTo  
9. 薄膜制备技术 Em Ut/]  
9.1 常见薄膜制备技术 E%E`\mFD  
10. 薄膜制备工艺 # {k$Fk  
10.1 薄膜制备工艺因素 7ZAxhFC  
10.2 薄膜均匀性修正技术 6v:L8 t$"  
10.3 光学薄膜监控技术 +fozE?  
11. 激光薄膜 !p\ @1?  
11.1 薄膜的损伤问题 aDz% %%:r  
11.2 激光薄膜的制备流程 |QbCFihn  
11.3 激光薄膜的制备技术 S`mB1(h  
12. 光学薄膜特性测量 R$}Hv  
12.1 薄膜光谱测量 )N^fSenFBn  
12.2 薄膜光学常数测量 =HMCNl  
12.3 薄膜应力测量 lws.;abm%n  
12.4 薄膜损伤测量 .XK3o .ZhW  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ~yXDN4s  
(K6vXq.;\\  
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D?Ol)aj?  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
Y=sv   
内容简介 Su,<idS  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 tD}{/`{_t  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 kd&~_=Q  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 T^d<vH  
K( MZ!>{  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
SI6?b1;-:F  
目录 /P[u vO  
Preface 1 \[]BB5)8  
内容简介 2 ;H%'K  
目录 i &u"mFweS  
1  引言 1 F @t\D?  
2  光学薄膜基础 2 I YptNR  
2.1  一般规则 2 Wkb>JnPo  
2.2  正交入射规则 3 $i8oLSRV  
2.3  斜入射规则 6 Zg= {  
2.4  精确计算 7 +('xzW  
2.5  相干性 8 pkG8g5(w  
2.6 参考文献 10 H_Hr=_8}-  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Gyi0SM6v5&  
4  Essential Macleod的特点 32 |,.1=|&u  
4.1  容量和局限性 33 GmUm?A@B  
4.2  程序在哪里? 33 [UdJ(cGf  
4.3  数据文件 35 @Py'SH!-  
4.4  设计规则 35 bTYR=^9  
4.5  材料数据库和资料库 37 ;6]ag< Q  
4.5.1材料损失 38 Bq4@I_b  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ) cOBP}j+  
4.5.2 材料库 41 T 9}dgf  
4.5.3导出材料数据 43 f0g_Gn $  
4.6  常用单位 43 VL\Ah3+  
4.7  插值和外推法 46 }DvT6  
4.8  材料数据的平滑 50 - t 4F  
4.9 更多光学常数模型 54 8-L -W[  
4.10  文档的一般编辑规则 55 (S=CxK  
4.11 撤销和重做 56 b83m'`vRM  
4.12  设计文档 57 rP(;^8l"  
4.10.1  公式 58 JGhK8E  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 s/;S2l$`  
4.10.3  沉积密度 59 Yv{$XI7  
4.10.4 平行和楔形介质 60 'OhGSs|  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 >^@~}]L  
4.10.4  性能 61 !a%_A^t7  
4.10.5  保存设计和性能 64 7/=r-  
4.10.6  默认设计 64 UY\E uA9  
4.11  图表 64 @9]TjZd  
4.11.1  合并曲线图 67 4Dd]:2|D  
4.11.2  自适应绘制 68 }&l%>P  
4.11.3  动态绘图 68 /I`-  
4.11.4  3D绘图 69 >#;>6q9_  
4.12  导入和导出 73 K9RRY,JB  
4.12.1  剪贴板 73 7;#o?6!7  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 M;.:YkrUH  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 d(D|rf,av  
4.13  背景 77 1q*=4O  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 a8y*Jz-E  
4.15  生成Rugate 84 p@YbIn  
4.16  参考文献 91 \gir  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ; jJ%<  
5.1  Jobs 92 py/#h$eY  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 l n09_Lr  
5.3  输入材料 94 8hX /~-H  
5.4  设计数据文件夹 95 ;T!ZO@1X  
5.5  默认设计 95 %wq;<'W  
6  细化和合成 97 &x[V<Gq  
6.1  优化介绍 97 |)ALJJ=+  
6.2  细化 (Refinement) 98 f Lns^  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Uo:=-NNI  
6.4  目标和评价函数 101 f F9=zrW  
6.4.1  目标输入 102 l8DZ2cw]  
6.4.2  目标 103 NF*Z<$'%  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Lnltt86  
6.5  层锁定和连接 104 Jj+Hj[(@  
6.6  细化技术 104 |s !7U  
6.6.1  单纯形 105 Pfg.'Bl  
6.6.1.1 单纯形参数 106 )f`oCXh  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 /yO0Z1G  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ZlL]AD@  
6.6.3  模拟退火算法 109 Z~g7^,-t  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 io$fL_R=  
6.6.4  共轭梯度 111 H7Ee0T(`  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 KD..X~Me  
6.6.5  拟牛顿法 112 p<(b^{EX  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 >Cglhsb:N  
6.6.6  针合成 113 cs Gd}2VE  
6.6.6.1 针合成参数 114 ]RI+:f  
6.6.7 差分进化 114 ",45p@  
6.6.8非局部细化 115 zW; sr.  
6.6.8.1非局部细化参数 115 -h&KC{Xab  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 6"c(5#H  
6.7.1  细化 116 ALp|fZ\vp  
6.7.2  合成 117 -=4:qQEw  
6.8  参考文献 117 G9 ra;.  
7  导纳图及其他工具 118 -j}zr yG-  
7.1  简介 118 /E5>cqX4A  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 `R_;n#3F0  
7.2.1  四分之一波长规则 119 9.l*#A^  
7.2.2  导纳图 120 zHQSx7Ow 5  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ~d=Y98'xS  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 FWQNO(  
7.5  斜入射导纳图 141 /G!M\teeF  
7.6  对称周期 141 "l-R|>6~  
7.7  参考文献 142 p']oy;t  
8  典型的镀膜实例 143 43BqNQ0  
8.1  单层抗反射薄膜 145 +(8Z8]Jf  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 zXv2plw(  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 SH1)@K-  
8.4  W-膜层 148 ,uCgC4EP  
8.5  V-膜层 149 .]K{8[:hq  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Q;eY]l8  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 DYW&6+%,hO  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 N|  
8.9  四层抗反射薄膜 153 a/lTQj]A  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 t'bhA20Z\  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 *f3? 0w  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 mBg$eiGTB  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 OCbwV7q:  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 g3vR\?c`  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 8QFg6#"O  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 o9c?)KQ  
8.17  1/4波长堆栈 162 - ~`)V`@  
8.18  陷波滤波器 163 %"BJW  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 }\aJ%9X02  
8.20  褶皱 165 zEs:OOM  
8.21  消偏振分光器1 169 k[5:]5lp+  
8.22  消偏振分光器2 171 o6)U\z  
8.23  消偏振立体分光器 172 Ew*SA  
8.24  消偏振截止滤光片 173 . MH;u3U  
8.25  立体偏振分束器1 174 kuW^_BROJ  
8.26  立方偏振分束器2 177 $'93:9tg  
8.27  相位延迟器 178 6l& ,!fd  
8.28  红外截止器 179 F%G} >xn  
8.29  21层长波带通滤波器 180 z--Y  
8.30  49层长波带通滤波器 181 K4Hu0  
8.31  55层短波带通滤波器 182 EEj.Kch}4  
8.32  47 红外截止器 183 @ 3,:G$,  
8.33  宽带通滤波器 184 ..UA*#%1  
8.34  诱导透射滤波器 186 @*-t.b2k  
8.35  诱导透射滤波器2 188 i@#=Rxp  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 E5g|*M.+f  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 <^Jdl.G  
8.35  增益平坦滤波器 193 ;]^% 6B n  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Y@2yV(m)o  
8.39  啁啾反射镜2 198 E$USam  
8.40  啁啾反射镜3 199 f}w_]l#[G  
8.41  带保护层的铝膜层 200 M&` b\la  
8.42  增加铝反射率膜 201 5odXT *n  
8.43  参考文献 202 !:M+7kmr7t  
9  多层膜 204 V$3`y=8  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 `zsooA Gt  
9.2  内部透过率 204 |Ju d*z  
9.3 内部透射率数据 205 c[a^fu!  
9.4  实例 206 Yp EH(tq  
9.5  实例2 210 ~ ;ObT=  
9.6  圆锥和带宽计算 212 8QQh1q2  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 2$FH+wuW  
10  光学薄膜的颜色 216 W(Rp@=!C  
10.1  导言 216 & 6nLnMF8x  
10.2  色彩 216 O9_SVXWVw  
10.3  主波长和纯度 220 t:*1* ;  
10.4  色相和纯度 221 8~ u/gM  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 IO<Ds#(  
10.6 色差 226 z"f+;1  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ry0YS\W  
10.8  颜色渲染指数 234 <"{VVyK  
10.9  色差计算 235 ]Wtg.y6;  
10.10  参考文献 236 j%=X ps  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 moL3GV%]Gq  
11.1  短脉冲 238 &1ZUMc  
11.2  群速度 239 sq?js#C5  
11.3  群速度色散 241 2=uwGIF  
11.4  啁啾(chirped) 245 'zOB!QqA`v  
11.5  光学薄膜—相变 245 _RE;}1rb,  
11.6  群延迟和延迟色散 246 zJov*^T-C  
11.7  色度色散 246 ( @V_47o  
11.8  色散补偿 249 -`UOqjb]3  
11.9  空间光线偏移 256 J;'H],w}f  
11.10  参考文献 258 1@n'6!]6O  
12  公差与误差 260 y% O^Zm1  
12.1  蒙特卡罗模型 260  C=qL0  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ehTv@2b  
12.2.1  误差工具 267 (C0Wty  
12.2.2  灵敏度工具 271 f4$sH/ 2#v  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ^0&jy:{  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 zxkO&DGRbN  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 aNP\Q23D  
12.3  参考文献 276 ]A%~bQ7  
13  Runsheet 与Simulator 277 2"_5Yyb  
13.1  原理介绍 277 o pTH6a  
13.2  截止滤光片设计 277 G|u)eW  
14  光学常数提取 289 tXcZl!3x  
14.1  介绍 289 S_?sJwM  
14.2  电介质薄膜 289 MV]`[^xQ5  
14.3  n 和k 的提取工具 295 U9jdb9 |  
14.4  基底的参数提取 302 &hih p"  
14.5  金属的参数提取 306 3^5h:OaT  
14.6  不正确的模型 306 6-FM<@H{  
14.7  参考文献 311 WtO@Kf:3GH  
15  反演工程 313 FmSE ]et  
15.1  随机性和系统性 313 z_Hkw3?  
15.2  常见的系统性问题 314 WyRSy-{U(}  
15.3  单层膜 314 (I/ iD.A  
15.4  多层膜 314 uU%Z%O  
15.5  含义 319 ~tn$AtK  
15.6  反演工程实例 319 %xr'96d  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 'x5p ?m  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 7M8cF>o  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 -[}Aka,f!  
16.1  光学性质的热致偏移 329 q3C  
16.2  应力工具 335 "Mz#1Laby`  
16.3  均匀性误差 339 &hrMpD6z6i  
16.3.1  圆锥工具 339 En)Ptz#0  
16.3.2  波前问题 341 A1r%cs  
16.4  参考文献 343 T}/|nOu 5  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 U ({N'y=  
17.1  引言 345 N3N~z1x0h  
17.2  操作数 345 5h|aX  
18  如何在Function中编写脚本 351 TU': Rt  
18.1  简介 351 <@[;IX`YN  
18.2  什么是脚本? 351  W =;,ls  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 "U+c`V=w  
18.4  基础 352 8!YQ9T[  
18.4.1  Classes(类别) 352 [ r  
18.4.2  对象 352 I L,lXB<  
18.4.3  信息(Messages) 352 JY@bD:  
18.4.4  属性 352 L9XfR$7,z  
18.4.5  方法 353 ~`="tzr:  
18.4.6  变量声明 353 ]#W7-Q;]  
18.5  创建对象 354 Pm%5c\ef  
18.5.1  创建对象函数 355  ;u [:J  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ;Yv{)@'Bc  
18.5.3 丢弃对象 356 0U:X[2|)  
18.5.4  总结 356 [oXSjLQm[  
18.6  脚本中的表格 357 `e fiX^  
18.6.1  方法1 357 p(nO~I2E  
18.6.2  方法2 357  + K`.ck  
18.7 2D Plots in Scripts 358 k`&FyN^)  
18.8 3D Plots in Scripts 359 j Neb*dPoK  
18.9  注释 360 QmSMDWkh  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ." gq[0_YS  
18.11  一个更高级的脚本 362 8)> T>-os  
18.12  <esc>键 364 E_I-.o|  
18.13 包含文件 365 *C0a,G4  
18.14  脚本被优化调用 366 [PB73q8  
18.15  脚本中的对话框 368 V8nQ/9R;  
18.15.1  介绍 368 rsa_)iBC  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 B9[vv;lzu  
18.15.3  输入框函数 370 +nHr+7}  
18.15.4  自定义对话框 371 |vm-(HY!  
18.15.5  对话框编辑器 371 U<;{_!]  
18.15.6  控制对话框 377 q,<l3rIn  
18.15.7  更高级的对话框 380 d}tmZ*q  
18.16 Types语句 384 6" Lyv  
18.17 打开文件 385 s,f2[6\Y  
18.18 Bags 387 G[]%1 _QCO  
18.13  进一步研究 388 >N2kWSa  
19  vStack 389 n#Dy YVb  
19.1  vStack基本原理 389 3 !8#wn  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 &WLN   
19.3  五棱镜 393 xb%Q[V_m  
19.4 光束距离 396 >~Gy+-  
19.5 误差 399 FyWf`XTO  
19.6  二向分色棱镜 399 )B +o F7  
19.7  偏振泄漏 404 yUD@oOVC0  
19.8  波前误差—相位 405 kTfRm^  
19.9  其它计算参数 405 DBHHJD/q  
20  报表生成器 406 0^Vw^]w  
20.1  入门 406 5+!yXkE^e  
20.2  指令(Instructions) 406 Te~jYkCd  
20.3  页面布局指令 406 &=*1[j\  
20.4  常见的参数图和三维图 407 $xdo=4;|  
20.5  表格中的常见参数 408 Q]GS#n  
20.6  迭代指令 408 llR5qq=t  
20.7  报表模版 408 /Dd x[P5p=  
20.8  开始设计一个报表模版 409 9eq)WI/  
21  一个新的project 413 V"(5U(v{~  
21.1  创建一个新Job 414 wBg?-ji3<  
21.2  默认设计 415 $*$4DG1gaR  
21.3  薄膜设计 416 s.rQiD  
21.4  误差的灵敏度计算 420 TCzlu#w  
21.5  显色指数计算 422 Ye4 &4t  
21.6  电场分布 424 .sQV0jF{  
后记 426 ==?%]ZE8  
x=a#|]ngG  
H1%o)'Kut4  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 +mD;\iW]  
ROfV Y:,M  
《Essential Macleod中文手册》
+PLJ  
3I)oqS@q'  
目  录 5wh(Qdib  
@ N'P?i  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 0S;Ipg  
第1章 介绍 ..........................................................1 J Q*~le*  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 MIl\Bn  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 roAHkI  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 g8&& W_BI  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 |x1Ttr,  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 B/K=\qmm  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 tC$+;_=+F  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 > 2/j  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 >YXb"g@.  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ow 6\j:$?  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 z;@<J8I  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 >wb*kyO7(#  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 il{x?#Wrb  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 rfQs 7S;G  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 --TH6j"  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 d^$cx(2$D  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Q2]7|C  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 rk&oKd_&i  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 $^ir3f+  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 J32{#\By  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 -:L7iOzgD  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 !IC .0I`  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 [a$1{[|)  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 9"1=um=  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 WTt /y\'6  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 rk ,64(  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 >b3IZ^SB#$  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 HlkjyD8  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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