线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:632
时间地点 BlcsDB =ka  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 )V*`(dn'zm  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 /g!Xe]Ss  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 R|wS*xd,  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 l0g+OMt  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 >RpMw!NT  
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易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 :C,}DyZy  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 /~c9'38  
课程概要 [~`p~@\+  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 I }8b]  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 6VJS l%X  
课程大纲 t'.:"H8BI  
1. Essential Macleod软件介绍 bMv[.Z@v(  
1.1 介绍软件 Re'3bs:+  
1.2 创建一个简单的设计 \0&$ n  
1.3 绘图和制表来表示性能 "I{Lcn~!@  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 NZFUCD)  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) E]^n\bE%  
1.6 特定设计的公式技术 !:tr\L {  
1.7 交互式绘图 _?$w8 S%  
2. 光学薄膜理论基础 9JJ6$cLF  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 C^,J 6;'  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 b5f+q:?{  
3. 材料管理 2=1qmQE  
3.1 材料模型 mC?}:W M@  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 B[+b%a3  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 :7(d 6gEL  
3.4 基板光学常数的提取 w"O;: `|n  
4. 光学薄膜设计优化方法 8E9k7  
4.1 参考波长与g +OtD@lD`!  
4.2 四分之一规则 `A o"fRv#  
4.3 导纳与导纳图 s*eM}d.p  
4.4 斜入射光学导纳 mS0;2x U  
4.5 光学薄膜设计的进展 &>K|F >7q  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 l\d[S]  
4.6.1 优化目标设置 .SOCWznb  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) T| R!Aw.  
4.6.3 膜层锁定和链接 _.%g'=14f  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ~*Y/#kPY  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 P*hYh5a  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 .SSPJY(  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 <dz_7hR"  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 f2v~: u  
5.5 如何在Function中编写脚本 54RexB o  
6. 光学薄膜系统案例 O<dCvH  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 m2ph8KC  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 57;( P  
6.3 Stack应用范例说明 L},o;p:  
7. 薄膜性能分析 XjxI@VXzUV  
7.1 电场分布 I7t}$ S6  
7.2 公差与灵敏度分析 }wEt=zOJ  
7.3 反演工程 &W&A88FfZU  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 >N}+O<Fc  
8. 真空技术 0TiDQ4}i[  
8.1 常用真空泵介绍 DQ0 UY  
8.2 真空密封和检漏 %O7?:#_  
9. 薄膜制备技术 \\d8ulu  
9.1 常见薄膜制备技术 r"\<+$ 7  
10. 薄膜制备工艺 !thFayq  
10.1 薄膜制备工艺因素 N~S#( .}[  
10.2 薄膜均匀性修正技术 WM=)K1p0u  
10.3 光学薄膜监控技术 2_Cp}Pj  
11. 激光薄膜 V gy12dE  
11.1 薄膜的损伤问题 +j$nbU0U  
11.2 激光薄膜的制备流程 zhyf}Ta'  
11.3 激光薄膜的制备技术 |>>^Mol  
12. 光学薄膜特性测量 )]m4FC:  
12.1 薄膜光谱测量 [RTo[-ci2  
12.2 薄膜光学常数测量 Z hCjY  
12.3 薄膜应力测量 j2 >WHh  
12.4 薄膜损伤测量 \fYPz }wt  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 >: J1Gc  
?4Rq +  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
(?.h<v1}  
内容简介 yV&]i-ey  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 a<((\c_8G  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 &@PAv5iNf  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 QP@@h4J^  
jo0XOs  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
s;tI?kR>%  
目录 Jr>Nc}!U  
Preface 1 x"Ij+~i{l  
内容简介 2 u}?{1B!  
目录 i 90H/Txq  
1  引言 1 azTiY@/  
2  光学薄膜基础 2 CKU)wJ5t  
2.1  一般规则 2 [[}ukG4  
2.2  正交入射规则 3 e)F_zX  
2.3  斜入射规则 6 c-Qa0 Q  
2.4  精确计算 7 Ow-;WO_HQ  
2.5  相干性 8 V:AA{<  
2.6 参考文献 10 W,nn,%  
3  Essential Macleod的快速预览 10 A=*6|1w;  
4  Essential Macleod的特点 32 ;N _ %O  
4.1  容量和局限性 33 ~6Odw GWV  
4.2  程序在哪里? 33 p\]rxtm  
4.3  数据文件 35 =]<X6!0mR  
4.4  设计规则 35 .O{_^~w_q  
4.5  材料数据库和资料库 37  Y@b|/+  
4.5.1材料损失 38 ~UsE"5  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 M%Q_;\?]  
4.5.2 材料库 41 ` ^z l =  
4.5.3导出材料数据 43 _Vr}ipx-k  
4.6  常用单位 43 OoZv\"}!_  
4.7  插值和外推法 46 ^j?"0|  
4.8  材料数据的平滑 50 }</"~Kw!  
4.9 更多光学常数模型 54 Vz y )jf  
4.10  文档的一般编辑规则 55 i6^-fl  
4.11 撤销和重做 56 l!}7GWj  
4.12  设计文档 57 8: VRq  
4.10.1  公式 58 ;#7:}>}rO  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 tA K=W$r  
4.10.3  沉积密度 59 k rXU*64  
4.10.4 平行和楔形介质 60 GGGz7_s ?  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ]TsmWob  
4.10.4  性能 61 ^3Z~RK\}  
4.10.5  保存设计和性能 64 e&9v`8}   
4.10.6  默认设计 64 1EliR uJ  
4.11  图表 64 qqu ]r  
4.11.1  合并曲线图 67 )fc+B_  
4.11.2  自适应绘制 68 IXR%IggJA  
4.11.3  动态绘图 68 `Z (`  
4.11.4  3D绘图 69  t&G #%  
4.12  导入和导出 73 ` >k7^!Ds  
4.12.1  剪贴板 73 Z&GjG6t  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ?"p.Gy)  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 _P=L| U#C  
4.13  背景 77 //^{u[lr  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 XeAH.i<  
4.15  生成Rugate 84 ZgxpHo  
4.16  参考文献 91 ESkhCDU  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 1_)Y{3L  
5.1  Jobs 92 Dwah_ p8  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 !LpFK0rw  
5.3  输入材料 94 -.UUa  
5.4  设计数据文件夹 95 :U'Oc3l#Y  
5.5  默认设计 95 XC,by&nY<y  
6  细化和合成 97 -qB{TA-.\  
6.1  优化介绍 97 F'njtrO3  
6.2  细化 (Refinement) 98 e]7J_9t@  
6.3  合成 (Synthesis) 100 h{e?Fl  
6.4  目标和评价函数 101 [} "m4+  
6.4.1  目标输入 102 :j;_Xw  
6.4.2  目标 103 s&-dLkis{u  
6.4.3  特殊的评价函数 104 G}'\  
6.5  层锁定和连接 104 5g phza  
6.6  细化技术 104 Odbm"Y  
6.6.1  单纯形 105 2 57q%"  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Gq.fQ_oOb  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 j.29nJ  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ^FK-e;J  
6.6.3  模拟退火算法 109 W_|7hwr  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 >]?!9@#IH  
6.6.4  共轭梯度 111 OJ)XJL  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 x)e(g}n  
6.6.5  拟牛顿法 112 WNiM&iU  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 }9Awv#+  
6.6.6  针合成 113 6b h.5|  
6.6.6.1 针合成参数 114 >F;yfv;  
6.6.7 差分进化 114 -VZ? c  
6.6.8非局部细化 115 <f@ A\  
6.6.8.1非局部细化参数 115 !]!J"!xg*  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 =b#,OXQ  
6.7.1  细化 116 r%` |kN  
6.7.2  合成 117 jGOE CKP  
6.8  参考文献 117 vOBXAF  
7  导纳图及其他工具 118 wL" 2Cm  
7.1  简介 118 lA ZBlO  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 b@)nB  
7.2.1  四分之一波长规则 119 cK1RmL"3  
7.2.2  导纳图 120 WD?COUEox  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 !R1OSVFp  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 v^1n.l %E  
7.5  斜入射导纳图 141 cmbl"Pqy1  
7.6  对称周期 141 8\e8$y3  
7.7  参考文献 142 p(S {k]ZL@  
8  典型的镀膜实例 143 B7nm7[V  
8.1  单层抗反射薄膜 145 G'6f6i|<I@  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 =}YaV@g<f  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 t3;QF  
8.4  W-膜层 148 ,\0>d}eh !  
8.5  V-膜层 149 (:ij'Zbz  
8.6  V-膜层高折射基底 150 $3{I'r]  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 #^bn~  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ^97\TmzP{  
8.9  四层抗反射薄膜 153 -v?)E S  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 h>&t``<  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ,:?=j80m  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 OT}^dPQe  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 hO4* X  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 &W-1W99auE  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 6YYDp&nqEj  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 YC d  
8.17  1/4波长堆栈 162 9c=`Q5  
8.18  陷波滤波器 163 vK8!V7o~h%  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 aDjYT/`l  
8.20  褶皱 165 ?E.MP7Y# V  
8.21  消偏振分光器1 169 [fr!J?/@  
8.22  消偏振分光器2 171 ??=su.b  
8.23  消偏振立体分光器 172 t-$Hti7Lk  
8.24  消偏振截止滤光片 173 )TyI~5>;  
8.25  立体偏振分束器1 174 qM:*!Aq 0g  
8.26  立方偏振分束器2 177 _&/2-3]\B  
8.27  相位延迟器 178 'n!kqP  
8.28  红外截止器 179 Ln&CB!u  
8.29  21层长波带通滤波器 180 !yf7y/qY  
8.30  49层长波带通滤波器 181 '7>Yr zq  
8.31  55层短波带通滤波器 182 hwd{^  
8.32  47 红外截止器 183 (j884bu  
8.33  宽带通滤波器 184 ]`_eaW?Ua  
8.34  诱导透射滤波器 186 l08JL  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ?/^x)Nm  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 E sx`UG|  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 3B[u2o>  
8.35  增益平坦滤波器 193 ,ko0XQBl  
8.38  啁啾反射镜 1 196 !vH={40]  
8.39  啁啾反射镜2 198 BZAF;j  
8.40  啁啾反射镜3 199 G;v3kGn  
8.41  带保护层的铝膜层 200 }R2afTn[;  
8.42  增加铝反射率膜 201 udGZ%Mr_  
8.43  参考文献 202 '=]|"   
9  多层膜 204 vON1\$bu `  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ^<QF* !  
9.2  内部透过率 204 .V?>Jhok  
9.3 内部透射率数据 205 %n:ymc $}  
9.4  实例 206 uE:`Fo=y  
9.5  实例2 210 yc3i> w`  
9.6  圆锥和带宽计算 212 UWg+7RL  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ({kOgOeC  
10  光学薄膜的颜色 216 )SsO,E+t=U  
10.1  导言 216 u^]Z{K_B  
10.2  色彩 216 p )w{}@%r  
10.3  主波长和纯度 220 T96M=?wh!  
10.4  色相和纯度 221 _"'0^F$I  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 >J_%'%%f  
10.6 色差 226 wBIhpiJX0  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 - <M'h  
10.8  颜色渲染指数 234 :dj=kuUTbu  
10.9  色差计算 235 ]8ob`F`m,  
10.10  参考文献 236 fW8whN  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 XI58Cy*!  
11.1  短脉冲 238 OIdoe0JR:O  
11.2  群速度 239 pm k;5 d  
11.3  群速度色散 241 C{P:1ELYXH  
11.4  啁啾(chirped) 245 Jw)-6WJ!uO  
11.5  光学薄膜—相变 245 =y WHm  
11.6  群延迟和延迟色散 246 |aMeh;X t  
11.7  色度色散 246 z2cd1HxN  
11.8  色散补偿 249 7Hzv-s  
11.9  空间光线偏移 256 +a}>cAj*  
11.10  参考文献 258 |FH|l#bu>  
12  公差与误差 260  NncII5z  
12.1  蒙特卡罗模型 260 o `}(1$a>  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 `} :~,E  
12.2.1  误差工具 267 F=r`'\JV[  
12.2.2  灵敏度工具 271 <) ltvo(  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 rv;is=#1  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 +DA ,|~k_  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 |&0zAP"\  
12.3  参考文献 276 mVdg0  
13  Runsheet 与Simulator 277 &1$|KbmV4  
13.1  原理介绍 277 9Jj:d)E>o  
13.2  截止滤光片设计 277 `CF.-Vl3J#  
14  光学常数提取 289 ^A' Bghy  
14.1  介绍 289 i :Sih"=  
14.2  电介质薄膜 289 31=v US  
14.3  n 和k 的提取工具 295 \2NT7^H#  
14.4  基底的参数提取 302 e]@R'oM?#`  
14.5  金属的参数提取 306 N4[^!}4  
14.6  不正确的模型 306 LGPPyK Nx  
14.7  参考文献 311 ^.~m4t`U  
15  反演工程 313 <^Sp4J  
15.1  随机性和系统性 313 NG?-dkD  
15.2  常见的系统性问题 314 J!@`tR-  
15.3  单层膜 314 ,ou&WI yC  
15.4  多层膜 314 "E}38  
15.5  含义 319 /w2jlu}yt  
15.6  反演工程实例 319 zaMKwv}BR  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 qjI.Sr70  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 R"V^%z;8o  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 %Tm8sQ)1  
16.1  光学性质的热致偏移 329 l~c# X3E  
16.2  应力工具 335 [ %:%C]4  
16.3  均匀性误差 339 DZ5QC aA  
16.3.1  圆锥工具 339 G*\U'w4w|*  
16.3.2  波前问题 341 `=JGlN7  
16.4  参考文献 343 /XZ\Yy=  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 b?deZ2"L#  
17.1  引言 345 r"\g6<RP  
17.2  操作数 345 p{S#>JTr  
18  如何在Function中编写脚本 351 P2>Y0"bY  
18.1  简介 351 atmTI`i  
18.2  什么是脚本? 351 h&j9'  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ?2i\E RG?  
18.4  基础 352 9G=HG={  
18.4.1  Classes(类别) 352 x3]y*6  
18.4.2  对象 352 gq[`g=x  
18.4.3  信息(Messages) 352 MMS#Ci=Lj  
18.4.4  属性 352 Egr'IbB  
18.4.5  方法 353 <Pg<F[eDM  
18.4.6  变量声明 353 AAPfU_: ^  
18.5  创建对象 354 NQqq\h  
18.5.1  创建对象函数 355 c!HmZ]/  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 i $W E1-  
18.5.3 丢弃对象 356 MR-cOPn  
18.5.4  总结 356 WuUT>om H  
18.6  脚本中的表格 357 1G62Qu$O  
18.6.1  方法1 357 }j6<S-s~  
18.6.2  方法2 357 6Z7J<0  
18.7 2D Plots in Scripts 358 %;qDhAu0  
18.8 3D Plots in Scripts 359 9Ls=T=96  
18.9  注释 360 TATH,Sz:x  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 <Z^qBM  
18.11  一个更高级的脚本 362 /{HK0fd  
18.12  <esc>键 364 V^5Z9!  
18.13 包含文件 365 Aa`'g0wmc  
18.14  脚本被优化调用 366 &RbT&  
18.15  脚本中的对话框 368 F-I\x  
18.15.1  介绍 368 k}$k6Sr"  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 8jz[;.jP",  
18.15.3  输入框函数 370 \r7gubD  
18.15.4  自定义对话框 371 #7yy7Y5  
18.15.5  对话框编辑器 371 4,P!D3SH  
18.15.6  控制对话框 377 QQIU5  
18.15.7  更高级的对话框 380 IWD21lS  
18.16 Types语句 384 y_A?} 'X  
18.17 打开文件 385 SF?s^  
18.18 Bags 387 oq3{q  
18.13  进一步研究 388 `.F+T)G  
19  vStack 389 Oxq} dX7S  
19.1  vStack基本原理 389 4[^lE?+  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 yNk E>  
19.3  五棱镜 393 e lzKtVw  
19.4 光束距离 396 Mh;rhQ  
19.5 误差 399 1?5UVv_F  
19.6  二向分色棱镜 399 `p{,C`g,R  
19.7  偏振泄漏 404 H]JVv8  
19.8  波前误差—相位 405 08JVX'X-mr  
19.9  其它计算参数 405 AiE\PMF~{P  
20  报表生成器 406 H G)c\b  
20.1  入门 406 Pu7cL  
20.2  指令(Instructions) 406 )}i;OLw-  
20.3  页面布局指令 406 %*`yd.L0W  
20.4  常见的参数图和三维图 407  }j /r  
20.5  表格中的常见参数 408 X=d;WT4,,  
20.6  迭代指令 408 JD1D(  
20.7  报表模版 408 Yt% E,U~g  
20.8  开始设计一个报表模版 409 "=r"c$xou  
21  一个新的project 413 ":upo/xN  
21.1  创建一个新Job 414 </B5^}  
21.2  默认设计 415 ;UB$Uqs6  
21.3  薄膜设计 416  ;%tu;  
21.4  误差的灵敏度计算 420 7gY^aMW  
21.5  显色指数计算 422 2E X Rq  
21.6  电场分布 424 G oJ\6& "  
后记 426 t4E=  
fW'U7&O  
qn4jy6  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 b 7%O[  
;4rTm@6  
《Essential Macleod中文手册》
'5n67Hl 1  
6}E C)j;Fw  
目  录 9BM 8  
`!$I6KxT  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 rtM!|apr  
第1章 介绍 ..........................................................1 d|8iD`sZz  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 i`2X[kc  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 8x J]K  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Sn lKPd  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 "RF<i3{S  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 3_]<H<w  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 $SmmrM  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 '!6Py1i  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 \dz@hJl:  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 mtON dI  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 \|}dlG  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 D/&^Y'|T  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ]O\Oj6C  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 3+E AMn  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 -OS&(7  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 9(/ ;Wutj"  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 1E*No1  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 a|x1aN 0  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 9O+><x[i  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 =+qtk(p  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 u(s/4Lu  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 fb8t9sAI  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 xD(JkOne  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 M=hH:[6 &  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 U Ux]  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 =nYd|Ok  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 rK%A=Q  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 D{{ ME8  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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