线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:844
时间地点 e7r3o,!  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 F/u i(4  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 3FG'A[x3O  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 C;0VR  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 !CUM*<iV  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
sL], @z8<k  
特邀专家介绍 3?Fe( !@  
#ON^6f2  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 L~("C  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 2$b JMx>  
课程概要 ^VsE2CX  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 :%<'('S |  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 n{(,r'  
课程大纲 lUIh0%O  
1. Essential Macleod软件介绍 3,0b<vfSv  
1.1 介绍软件 [&sabM`Ul  
1.2 创建一个简单的设计 H"c2kno9  
1.3 绘图和制表来表示性能 M^{=&  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Uc9hv?  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) C6A!JegU  
1.6 特定设计的公式技术 Y^b}~t  
1.7 交互式绘图 QYps5zcn  
2. 光学薄膜理论基础 =g|5VXW5  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 _wUg+Xs]  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ?Xj@Sx  
3. 材料管理 X7txAp.  
3.1 材料模型 3LZvlcLb  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 X*M2 O%g`L  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 9^E!2CJ  
3.4 基板光学常数的提取 45H9pY w  
4. 光学薄膜设计优化方法 ]fSpG\yU  
4.1 参考波长与g 5!BW!-q  
4.2 四分之一规则 [I gqK5@  
4.3 导纳与导纳图 O-ppR7edh  
4.4 斜入射光学导纳 :xk+`` T  
4.5 光学薄膜设计的进展 3Xm> 3  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 1[!7xA0j  
4.6.1 优化目标设置 kAs=5_?I  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) O*yA50Cn  
4.6.3 膜层锁定和链接 0|ekwTx.  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 j!"5, ~  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ?3gf)g=  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 "sT)<Wc  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 W4(GI]`_+  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ,z#S=I  
5.5 如何在Function中编写脚本 Cx&l0ZXHEX  
6. 光学薄膜系统案例 /4;Sxx-  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 !Y 9V1oVf"  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 vj|#M/3>  
6.3 Stack应用范例说明 UkcH+0o  
7. 薄膜性能分析 o%*C7bU  
7.1 电场分布 55/)2B2J  
7.2 公差与灵敏度分析 eQ*zi9na  
7.3 反演工程 P 1  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 K^P&3H*(/n  
8. 真空技术 v6ei47-  
8.1 常用真空泵介绍 hFnUw2 6P  
8.2 真空密封和检漏 #e1iYFgS  
9. 薄膜制备技术 _w2%!+'  
9.1 常见薄膜制备技术 IY|`$sHb  
10. 薄膜制备工艺 `dhBLAt  
10.1 薄膜制备工艺因素 $4Dr +Z H  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Jp= )L  
10.3 光学薄膜监控技术 GI>(S  
11. 激光薄膜 &?5me:aU  
11.1 薄膜的损伤问题 'K\H$<CJ  
11.2 激光薄膜的制备流程 LI<Emez  
11.3 激光薄膜的制备技术 Gd$!xN %O  
12. 光学薄膜特性测量 sFHqLG{/  
12.1 薄膜光谱测量  FL b  
12.2 薄膜光学常数测量 < <F  
12.3 薄膜应力测量 7=s0Pm  
12.4 薄膜损伤测量 "{kE#`c6<n  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ;.^! 7j  
M(I%QD  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 @bChJl4  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 #fk1'c2  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 4*inN~cU  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 C-g,uARX(r  
Yj'"Wg  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
wd3OuDrU  
目录 ,3!TyQ \m'  
Preface 1 nw#AKtd@x  
内容简介 2 PPh<9$1\g  
目录 i j& ykce  
1  引言 1 rjj_]1?K  
2  光学薄膜基础 2 ;j qF:Wl@  
2.1  一般规则 2 (xKypc+j  
2.2  正交入射规则 3 AMASh*  
2.3  斜入射规则 6 KK{_s=t%<  
2.4  精确计算 7 iP@ FXJJ  
2.5  相干性 8 &%g$Bi,G  
2.6 参考文献 10 f>e0 l'\  
3  Essential Macleod的快速预览 10 `\'V]9wS  
4  Essential Macleod的特点 32 PF#<CF$=  
4.1  容量和局限性 33 Af r*'  
4.2  程序在哪里? 33 F_I!qcEQ  
4.3  数据文件 35 R0mkEM  
4.4  设计规则 35 7{7Y[F0  
4.5  材料数据库和资料库 37 %dzO*/8cWo  
4.5.1材料损失 38 M8$e MS1  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 apt$e$g  
4.5.2 材料库 41 R_>.O?U4  
4.5.3导出材料数据 43 4S4gK   
4.6  常用单位 43 r^H,H'BohJ  
4.7  插值和外推法 46 q8n@fi6  
4.8  材料数据的平滑 50 bZ:xH48MY  
4.9 更多光学常数模型 54 1hSV/%v_  
4.10  文档的一般编辑规则 55 TY5R=jh=  
4.11 撤销和重做 56 Z1:<i*6>D  
4.12  设计文档 57 0*+EYnu+  
4.10.1  公式 58 o^Lq8u;i*  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Vw.)T/B_D  
4.10.3  沉积密度 59 U$3DIJVI  
4.10.4 平行和楔形介质 60 0-;>O|U3  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 z30 mk  
4.10.4  性能 61 :U/]*0b  
4.10.5  保存设计和性能 64 pzaU'y#PM  
4.10.6  默认设计 64 .lM]>y)  
4.11  图表 64 JYmYX-  
4.11.1  合并曲线图 67 NHe)$%a=H  
4.11.2  自适应绘制 68 X Q CE`m  
4.11.3  动态绘图 68 cP\z*\dS  
4.11.4  3D绘图 69 sjb.Ezoq3  
4.12  导入和导出 73 "C(yuVK1G  
4.12.1  剪贴板 73 B}.:7,/0  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 <QC7HR  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 lpS v  
4.13  背景 77 QgQclML1|  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 M d8(P23hS  
4.15  生成Rugate 84 +u*Pi  
4.16  参考文献 91 >B=s+ }/ME  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 e6mm;@F>  
5.1  Jobs 92 .tppCy  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 r:$*pC&{  
5.3  输入材料 94 nnvS.s`O  
5.4  设计数据文件夹 95 B3D}'<  
5.5  默认设计 95 -iY-rzW  
6  细化和合成 97 #5kclu%L$  
6.1  优化介绍 97 7Z~JuTIZ  
6.2  细化 (Refinement) 98 ULBEe@ s  
6.3  合成 (Synthesis) 100 { Ie~MW  
6.4  目标和评价函数 101 z^jmf_  
6.4.1  目标输入 102 Kf}*Ij  
6.4.2  目标 103 N)Q.P'`N  
6.4.3  特殊的评价函数 104 H V-;? 5  
6.5  层锁定和连接 104 /#SfgcDt  
6.6  细化技术 104 UNwjx7usD  
6.6.1  单纯形 105 1]5k l J  
6.6.1.1 单纯形参数 106 %<+uJ'pj  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 '+ZJf&Ox  
6.6.2.1 Optimac参数 108 g|->W]q@;  
6.6.3  模拟退火算法 109 @"A 5yD5  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ^Ifm1$X}  
6.6.4  共轭梯度 111 a5saN5)H  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <8Tp]1z  
6.6.5  拟牛顿法 112 Lwx J:Kz.  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 esE!i0%  
6.6.6  针合成 113 X }i2qv  
6.6.6.1 针合成参数 114 }9W[7V?  
6.6.7 差分进化 114 Ha/Qz'^S;  
6.6.8非局部细化 115 ],[<^=|  
6.6.8.1非局部细化参数 115 MRK=\qjD  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 Y\WVkd(+G  
6.7.1  细化 116 8~t8^eBg  
6.7.2  合成 117 HeO&p@  
6.8  参考文献 117 Yy 0" G  
7  导纳图及其他工具 118 !Q_Wbu\U  
7.1  简介 118 4lpcJ+:o  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 iY?#R&  
7.2.1  四分之一波长规则 119 )=X g  
7.2.2  导纳图 120 wIR"!C>LE  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 \`["IkSg7  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 tU2#Z=a  
7.5  斜入射导纳图 141 LAnC8O  
7.6  对称周期 141 4 qY  
7.7  参考文献 142 WcS`T?Xa  
8  典型的镀膜实例 143 n1JV)4Mv  
8.1  单层抗反射薄膜 145 .9=4Af  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 \'[tfSB  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 G 4~@  
8.4  W-膜层 148 = M4:nt  
8.5  V-膜层 149 ~E y+  
8.6  V-膜层高折射基底 150 KS$"Re$  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 8> $=p4bf  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152  <82&F  
8.9  四层抗反射薄膜 153 r-xP 6  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 6__!M  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ^'M^0'_"v  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 nw+^@|4  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 \}W3\To_  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 pjTJZhT2I  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 $N}t)iA  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 PN 8#T:E  
8.17  1/4波长堆栈 162 .K(9=yh  
8.18  陷波滤波器 163 H~vrCi~t"  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Sw"h!\c`  
8.20  褶皱 165 .U@u |  
8.21  消偏振分光器1 169 rO.[/#p\  
8.22  消偏振分光器2 171 |4 \2,M#  
8.23  消偏振立体分光器 172 1L'Q;?&2H,  
8.24  消偏振截止滤光片 173 %kop's&?C  
8.25  立体偏振分束器1 174 ^0cbN[~/ns  
8.26  立方偏振分束器2 177 {r;_nMfH|[  
8.27  相位延迟器 178 z80FMulO  
8.28  红外截止器 179 Sew*0S(  
8.29  21层长波带通滤波器 180 irq{ 21  
8.30  49层长波带通滤波器 181 k+?gWZ \  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ENr#3+m$;  
8.32  47 红外截止器 183 .;Gx.}ITG6  
8.33  宽带通滤波器 184 +swTMR  
8.34  诱导透射滤波器 186 #X %!7tU6  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Ri_2@U-  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 @#N7M2/  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 UjoA$A!Od;  
8.35  增益平坦滤波器 193 ty#6%  
8.38  啁啾反射镜 1 196 X])iQyN  
8.39  啁啾反射镜2 198 v&/H6r#E.  
8.40  啁啾反射镜3 199 0&I*)Zt9x  
8.41  带保护层的铝膜层 200 PMbZv%.,-  
8.42  增加铝反射率膜 201 ,"gPd!HD (  
8.43  参考文献 202 j\bp# +  
9  多层膜 204 /Mw;oP{&b  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 :2==7u7v?  
9.2  内部透过率 204 [ei~Xkzkj  
9.3 内部透射率数据 205 "]q xjs^3?  
9.4  实例 206 BLaNS4e  
9.5  实例2 210 :*|Ua%L_  
9.6  圆锥和带宽计算 212 *w _o8!3-  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 zT6nC5E  
10  光学薄膜的颜色 216 9{Etv w  
10.1  导言 216 FNF`Z  
10.2  色彩 216 S#8)N`  
10.3  主波长和纯度 220 % PB{jo  
10.4  色相和纯度 221 & ck}3\sQ  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 = <Sn&uL  
10.6 色差 226 zz(|V  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 )~R[aXkvY  
10.8  颜色渲染指数 234 V?G%-+^  
10.9  色差计算 235 T"za|Fo  
10.10  参考文献 236 fi*b]a\'  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 9d/- +j'  
11.1  短脉冲 238 "h[)5V{  
11.2  群速度 239 &uO-h  
11.3  群速度色散 241 $<2d|;7r  
11.4  啁啾(chirped) 245 m{RXt  
11.5  光学薄膜—相变 245 E%D.a=UX,  
11.6  群延迟和延迟色散 246 e<9 ^h)G  
11.7  色度色散 246 )}N:t:rry  
11.8  色散补偿 249 G93V=Bk=  
11.9  空间光线偏移 256 0wVM% Dng  
11.10  参考文献 258 y3 N[F  
12  公差与误差 260 H.;}%id  
12.1  蒙特卡罗模型 260 /"k[T  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 "~ $i#  
12.2.1  误差工具 267 LkzA_|8:D  
12.2.2  灵敏度工具 271 8+gp"!E  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ^VMCs/g6  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 62'9lriQ  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 8M,o)oH  
12.3  参考文献 276 WLj]EsA.  
13  Runsheet 与Simulator 277 Fs4shrt  
13.1  原理介绍 277 M_%KhK  
13.2  截止滤光片设计 277 :P2!& W  
14  光学常数提取 289 KyVzf(^  
14.1  介绍 289 `Rt w'Uz  
14.2  电介质薄膜 289 j[dZ*Jr_  
14.3  n 和k 的提取工具 295 WZ,k][~  
14.4  基底的参数提取 302 aBaiXv/*  
14.5  金属的参数提取 306 d-Z2-89K  
14.6  不正确的模型 306 %au>D  
14.7  参考文献 311 b,+KXx  
15  反演工程 313 `!I/6d?A  
15.1  随机性和系统性 313 }2RbX,0l9  
15.2  常见的系统性问题 314 EFVZAY"+!;  
15.3  单层膜 314 VvP: }yJ  
15.4  多层膜 314 l"dXL"h  
15.5  含义 319 %SIll  
15.6  反演工程实例 319 Nk\ni>Du3  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 kBC$dW-  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 l\AdL$$Mb  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 9RJ#zUK  
16.1  光学性质的热致偏移 329 C)yw b6  
16.2  应力工具 335 j96}E/gF  
16.3  均匀性误差 339 C|Gk}  
16.3.1  圆锥工具 339 !^MwE]  
16.3.2  波前问题 341 6g#yzex  
16.4  参考文献 343 &W<9#RPK'  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Lks+FW  
17.1  引言 345 MmvJ)|&t  
17.2  操作数 345 R8lja%+0$  
18  如何在Function中编写脚本 351 gS[B;+d  
18.1  简介 351 ;Qt/(/  
18.2  什么是脚本? 351 )_j(NX-C:  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 `.~S/$a.&  
18.4  基础 352 ,Il) tH  
18.4.1  Classes(类别) 352 3p HI+a  
18.4.2  对象 352 1@'I eywg  
18.4.3  信息(Messages) 352 AHuIA{AdUR  
18.4.4  属性 352 2Uf/'  
18.4.5  方法 353 Y{dX[^[  
18.4.6  变量声明 353 ;J+iwS*Z  
18.5  创建对象 354 T&6>Eb0{  
18.5.1  创建对象函数 355 1CZO+MB&"$  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 MYVVI1A  
18.5.3 丢弃对象 356 fNx!'{o"  
18.5.4  总结 356 Ue;Z)}  
18.6  脚本中的表格 357 a;; Es  
18.6.1  方法1 357 nJv=kk1|o  
18.6.2  方法2 357 7O|`\&RY R  
18.7 2D Plots in Scripts 358 L{IMZ+IB2|  
18.8 3D Plots in Scripts 359 D[]0/+,  
18.9  注释 360 j`@`M*)GB  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 G^h:#T  
18.11  一个更高级的脚本 362 Tzj v-9^V  
18.12  <esc>键 364 v]Pyz<+  
18.13 包含文件 365 g.62XZF@  
18.14  脚本被优化调用 366 58HAl_8W  
18.15  脚本中的对话框 368 K fVsnL_  
18.15.1  介绍 368 hfbu+w):  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 JBc*m  
18.15.3  输入框函数 370 {y5 L  
18.15.4  自定义对话框 371 !9r%d8!z  
18.15.5  对话框编辑器 371 U&*%KPy`  
18.15.6  控制对话框 377 [8Z#HjhQ  
18.15.7  更高级的对话框 380 4/*@cW  
18.16 Types语句 384 zXlerQWUv  
18.17 打开文件 385 ,{(XT7hr  
18.18 Bags 387 ~-H3]  
18.13  进一步研究 388 uR2|>m  
19  vStack 389 (4q/LuP^d  
19.1  vStack基本原理 389 `mD!z.`U  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 8"d??3ZXJ  
19.3  五棱镜 393 se>\5k  
19.4 光束距离 396 vA6onYjA  
19.5 误差 399 -Mrt%1g  
19.6  二向分色棱镜 399 FaWc:GsfB  
19.7  偏振泄漏 404 6)i>qz).  
19.8  波前误差—相位 405 4IY|<  
19.9  其它计算参数 405 3]}RjOTU  
20  报表生成器 406 B9 ?58v&  
20.1  入门 406 %{V7 |Azt  
20.2  指令(Instructions) 406 4DL2 A;T  
20.3  页面布局指令 406 2PeMt^  
20.4  常见的参数图和三维图 407 bxO/FrwTj{  
20.5  表格中的常见参数 408 1Lje.%(E.  
20.6  迭代指令 408 }|8^+V&  
20.7  报表模版 408 Y%TY%"<  
20.8  开始设计一个报表模版 409 |XNw&X1VF  
21  一个新的project 413 )J+OyR=  
21.1  创建一个新Job 414 .X.6<@$  
21.2  默认设计 415 }C[ "'tLX  
21.3  薄膜设计 416 }z9v*C  
21.4  误差的灵敏度计算 420 hRB?NM  
21.5  显色指数计算 422 O+< +yQl  
21.6  电场分布 424 z"QtP[_m  
后记 426 c,)]!{c  
]^wr+9zd  
@\oZ2sB  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 |Go$z3bx  
[x=(:soEqC  
《Essential Macleod中文手册》
>fT%CGLC0  
y#`;[!  
目  录 b-<@3N.9]  
bJ6C7-w:wa  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Rq?t=7fX)  
第1章 介绍 ..........................................................1 8a8D0}'  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 &KI|qtQ;  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ofz?L#:2  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 #E\6:UnT  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ]b1>bv%  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ~@@$-,}X   
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 X6w+L?A  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Y+$]N:\F\  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 {w"Cr0F,  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ld({1jpX,  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 7042?\\=  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 \WdSj  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 h|Qb:zEP,  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 >X:!Y[N  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 2Ir*}s2{  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 c3#eL  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 *M#L)c;6  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 2w+4B4  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 CZ$B2i6  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 .rwW5"RPq  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 qJonzFp7  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Mty[)+se  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ; 5[W*,7s  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Q]K$yo  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 *6=9 8C4I  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 (ToD u@p  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ~h=iZ/g_^_  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 <*u^8lCA  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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