线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1374
时间地点 m` AK~O2  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 *Nb#W!  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 /7c~nBU  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 BHDML.r }M  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 &?,U_)x/  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
)$GIN/i  
特邀专家介绍 l: |D,q  
x[_=#8~.1x  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 4vnUN  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ,~PYt*X4  
课程概要 2 !1.E5.I  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 OTWkUB{  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 k3!a$0Bs;  
课程大纲 PG%0yv%  
1. Essential Macleod软件介绍 Sb2v_o  
1.1 介绍软件 ='?:z2lJ  
1.2 创建一个简单的设计 C]u',9,  
1.3 绘图和制表来表示性能 c,EBF\r8*  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 I5ss0JSl/  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) )}v 3q6?_  
1.6 特定设计的公式技术 -;(Q1)&  
1.7 交互式绘图 e0,'+;*=g  
2. 光学薄膜理论基础 }CL"S_>1  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 F t&+vS  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 M5L{*>4|6  
3. 材料管理 4Aes#{R3v  
3.1 材料模型 ^y.nDs%ZT7  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 IV16d  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 )P&9A)8  
3.4 基板光学常数的提取 nv0@xnbz  
4. 光学薄膜设计优化方法 D |bBu  
4.1 参考波长与g AIl4]F5I  
4.2 四分之一规则 ?WI3/>:<  
4.3 导纳与导纳图 ;#+0L$<t  
4.4 斜入射光学导纳 >>Ar$  
4.5 光学薄膜设计的进展 [onqNp  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 P@}Pk  
4.6.1 优化目标设置 D0G-5}s`  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) %u\26[/  
4.6.3 膜层锁定和链接 Fqq6^um  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 |k 2"_  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 }-p[V$:S  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 is; XmF*5=  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 NUJ~YWO;  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 '!h/B;*(  
5.5 如何在Function中编写脚本 r{Rg920  
6. 光学薄膜系统案例 jn%kG ~]'Q  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 q0mOG^  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 H!IshZfktn  
6.3 Stack应用范例说明 5AeQQU  
7. 薄膜性能分析 sRHA."A!8  
7.1 电场分布 P'Q$d+F,  
7.2 公差与灵敏度分析 +t)n;JHN  
7.3 反演工程 _W!p8cB  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 SS|z*h Z  
8. 真空技术 Zi$ziDz&  
8.1 常用真空泵介绍 a~LC+8|JW  
8.2 真空密封和检漏 34|a\b}  
9. 薄膜制备技术 {i~8 :  
9.1 常见薄膜制备技术 hjx)D  
10. 薄膜制备工艺 #C*8X+._y  
10.1 薄膜制备工艺因素 9.O8/0w7LV  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Bvjl-$m!v  
10.3 光学薄膜监控技术 ygZ  #y L  
11. 激光薄膜 `\Ku]6J]5  
11.1 薄膜的损伤问题 hIv@i\`  
11.2 激光薄膜的制备流程 j5$BK[p.  
11.3 激光薄膜的制备技术 vH %gdpxX  
12. 光学薄膜特性测量 Fig&&b a  
12.1 薄膜光谱测量 a?5[k}\  
12.2 薄膜光学常数测量 7Du1RuxP  
12.3 薄膜应力测量 NVV}6TUV  
12.4 薄膜损伤测量 hPhZUL%  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 qa >Ay|92e  
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有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 N)8HR9[!  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 #<7O08 :  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 AF,BwLN  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 m(OvD!  
>?W[PQ5yx  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
%~ |HFYd  
目录 G28O%jD?  
Preface 1 'WyTI^K9  
内容简介 2 `Kl`VP=c  
目录 i h( QYxI,|  
1  引言 1 }1 vT)  
2  光学薄膜基础 2 ewsKH\#  
2.1  一般规则 2 bEuaOBc  
2.2  正交入射规则 3 >"3>s%  
2.3  斜入射规则 6 *DI)?  
2.4  精确计算 7 xh@-g|+g  
2.5  相干性 8 !7B\Xl'S  
2.6 参考文献 10 wt }9B[  
3  Essential Macleod的快速预览 10 g\A y`.s  
4  Essential Macleod的特点 32 0\{BWNK  
4.1  容量和局限性 33 "](6lB1Oe  
4.2  程序在哪里? 33 >ndJNinV  
4.3  数据文件 35 Wk;5/  
4.4  设计规则 35 f,i5iSYf  
4.5  材料数据库和资料库 37 mZk0@C&:6  
4.5.1材料损失 38 %5Kq^]q;Y  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 SJ' % ^  
4.5.2 材料库 41 Z@D*1\TG=  
4.5.3导出材料数据 43 RWq{Ff}Hk  
4.6  常用单位 43 Jhkvd<L8`m  
4.7  插值和外推法 46 Vsq8H}K  
4.8  材料数据的平滑 50 U4?(A@z9^  
4.9 更多光学常数模型 54 Doze8pn  
4.10  文档的一般编辑规则 55 (AY9oei>  
4.11 撤销和重做 56 {0\,0*^p  
4.12  设计文档 57 Z-=YM P ]Q  
4.10.1  公式 58 kQdt}o])  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 V) o,1  
4.10.3  沉积密度 59 :Gqy>)CxX  
4.10.4 平行和楔形介质 60 )(Iy<Y?#  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ]bCq=6ZKR  
4.10.4  性能 61 o(A|)c4k  
4.10.5  保存设计和性能 64 J a,d3K  
4.10.6  默认设计 64 5R MS(  
4.11  图表 64 }b3/b  
4.11.1  合并曲线图 67 lw%?z/HDf  
4.11.2  自适应绘制 68 ihL/n  
4.11.3  动态绘图 68 "GT4s?6O  
4.11.4  3D绘图 69 {kI#A?M  
4.12  导入和导出 73 #PLEPB  
4.12.1  剪贴板 73 H!e 3~+)  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 "LhUxnll  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 s3s4OAY  
4.13  背景 77 &6 -k#r  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ~.Ik#At  
4.15  生成Rugate 84 }H:F< z*  
4.16  参考文献 91 C@y8.#l  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 sf} Dh  
5.1  Jobs 92 ajhEL?%D  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 %rQuBi# 1f  
5.3  输入材料 94 mbl]>JsQD  
5.4  设计数据文件夹 95 F#|O@.tDG  
5.5  默认设计 95 z1OFcqm  
6  细化和合成 97 =?0lA_ 0  
6.1  优化介绍 97 OY-w?'p?W  
6.2  细化 (Refinement) 98 ^yviV Y  
6.3  合成 (Synthesis) 100 FwKj+f"  
6.4  目标和评价函数 101 5}ie]/[|  
6.4.1  目标输入 102 H14Ic.&  
6.4.2  目标 103 G>qZxy`c  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ;Z[]{SQ  
6.5  层锁定和连接 104 !H][LXB~H  
6.6  细化技术 104 Y>."3*^  
6.6.1  单纯形 105 D:\g,\Z  
6.6.1.1 单纯形参数 106 SM0M%  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 T<yP* b2E  
6.6.2.1 Optimac参数 108 fpyz'   
6.6.3  模拟退火算法 109 Cm$1$?J  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 eg+!*>GaX  
6.6.4  共轭梯度 111 VvbFp  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2g{)AtK$#  
6.6.5  拟牛顿法 112 |iFVh$N  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 S&C1TC  
6.6.6  针合成 113 \/7i-B]G7  
6.6.6.1 针合成参数 114 YKZrEP 4^  
6.6.7 差分进化 114 ivgpS5 M`Y  
6.6.8非局部细化 115 23(=Xp3;>  
6.6.8.1非局部细化参数 115 6~:Sgt nU  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 SZ![%)83  
6.7.1  细化 116 B-.v0R`5  
6.7.2  合成 117 `?\tUO2_T  
6.8  参考文献 117 q}uHFp/J  
7  导纳图及其他工具 118 UnDgu4#R`A  
7.1  简介 118 (oK^c- x  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 DH DZ_t:  
7.2.1  四分之一波长规则 119 h5z)Lc^  
7.2.2  导纳图 120 #BK9 k>i  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 4Q=ftY<  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 9ILIEm:  
7.5  斜入射导纳图 141 5pNY)>]t=  
7.6  对称周期 141 @(``:)Z<b  
7.7  参考文献 142 YO{GU7  
8  典型的镀膜实例 143 ~wnOV#v  
8.1  单层抗反射薄膜 145 9n]|PEoAB  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 \hO2p6  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Uv_N x10  
8.4  W-膜层 148 39U5jj7i  
8.5  V-膜层 149 Oh.ZPG=  
8.6  V-膜层高折射基底 150 T@wcHg  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Y/TlE?  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 OkAK  
8.9  四层抗反射薄膜 153 O u>u %  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 AEmNHO@%q  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 }y%`)lz~;  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 b/$km?R  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 a~h:qpg c  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 <[aDo%,A  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 eC DIwB28  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 :WGtR\tK  
8.17  1/4波长堆栈 162 r#PMy$7L  
8.18  陷波滤波器 163 m4K* <  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 zxb/  
8.20  褶皱 165 &ej8mq"\  
8.21  消偏振分光器1 169 .Hhhi  
8.22  消偏振分光器2 171 {",MCu_V  
8.23  消偏振立体分光器 172 4!62/df  
8.24  消偏振截止滤光片 173 v1U?&C  
8.25  立体偏振分束器1 174 hjZ}C+=O  
8.26  立方偏振分束器2 177 ]e:/"   
8.27  相位延迟器 178 PW(\4Q\  
8.28  红外截止器 179 ;^ wd_  
8.29  21层长波带通滤波器 180 JG`Q;K  
8.30  49层长波带通滤波器 181 lA!"z~03*  
8.31  55层短波带通滤波器 182 RT/o$$  
8.32  47 红外截止器 183 l@j.hTO<  
8.33  宽带通滤波器 184 I:&/`K4,x,  
8.34  诱导透射滤波器 186 4nfu6Dq  
8.35  诱导透射滤波器2 188 +.B<Hd  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 @K223?c8l  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 lLq<xf  
8.35  增益平坦滤波器 193 ->z54 T  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ))D:8l@  
8.39  啁啾反射镜2 198 +'@+x'/{^  
8.40  啁啾反射镜3 199 N(6|yZ<J3M  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Zv]x'3J#Y  
8.42  增加铝反射率膜 201 !{et8F@d|  
8.43  参考文献 202 :nHKl  
9  多层膜 204 ha@L94Lq  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 <F7kh[L_x  
9.2  内部透过率 204 M6 9 w-  
9.3 内部透射率数据 205 l} ^3fQXI  
9.4  实例 206 S>G?Q_&}?D  
9.5  实例2 210 0l*]L`]L#  
9.6  圆锥和带宽计算 212 nZ1zJpBmI  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ( GnuWc\p  
10  光学薄膜的颜色 216 ~9^)wCM+  
10.1  导言 216 $w)~O<_U  
10.2  色彩 216 5 S Xn?  
10.3  主波长和纯度 220 c@[:V  
10.4  色相和纯度 221 8*SDiZ  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 {%)s.5Pfw  
10.6 色差 226 4!Z5og1kn  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ?SQE5Z  
10.8  颜色渲染指数 234 T#%/s?_>.  
10.9  色差计算 235 mOpTzg@  
10.10  参考文献 236 OV2 -8ERS  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Tm^89I]L  
11.1  短脉冲 238 X)SDG#&+bF  
11.2  群速度 239 !IU.a90V  
11.3  群速度色散 241 682Z}"I0  
11.4  啁啾(chirped) 245 Wc3kO'J  
11.5  光学薄膜—相变 245 *D4hq=  
11.6  群延迟和延迟色散 246 &wd;EGGT!q  
11.7  色度色散 246 ^L1L=c;,  
11.8  色散补偿 249 R_] {2~J+  
11.9  空间光线偏移 256 N#V.1<Y  
11.10  参考文献 258 ,y4I[[  
12  公差与误差 260 /-zXM;h  
12.1  蒙特卡罗模型 260 rrg96WD  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 U<"WK"SM  
12.2.1  误差工具 267 v}@xlB=  
12.2.2  灵敏度工具 271 ~vLW.:  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 K]/4qH$:  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 W)'*m-I  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ')a(.f  
12.3  参考文献 276 i| \6JpNA:  
13  Runsheet 与Simulator 277 mOo`ZcTU  
13.1  原理介绍 277 i'd2[A.7I  
13.2  截止滤光片设计 277 #QCphhG  
14  光学常数提取 289 yJuQ8+vgR}  
14.1  介绍 289 _0+0#! J!  
14.2  电介质薄膜 289 7\_o.(g#-  
14.3  n 和k 的提取工具 295 b[z]CP  
14.4  基底的参数提取 302 f)]%.>  
14.5  金属的参数提取 306 ,F&g5'  
14.6  不正确的模型 306 5<I   
14.7  参考文献 311 [{4 MR%--  
15  反演工程 313 `[o)<<}  
15.1  随机性和系统性 313 :^UFiUzrE  
15.2  常见的系统性问题 314 %B.D^]S1:  
15.3  单层膜 314 &DqE{bBd!  
15.4  多层膜 314 vVGDDDz/  
15.5  含义 319 =to=8H-  
15.6  反演工程实例 319 "5cM54Z0  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 wf, 7==  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 f%5zBYCgC  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 G!4(BGx&  
16.1  光学性质的热致偏移 329 .4. b*5  
16.2  应力工具 335 2Q;9G6p  
16.3  均匀性误差 339 J0zn-  
16.3.1  圆锥工具 339 &d7Z6P'`G  
16.3.2  波前问题 341 :Xc@3gF  
16.4  参考文献 343 {M,,npl  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 .ROznCe}  
17.1  引言 345 9&<x17'  
17.2  操作数 345 }b1cLchl  
18  如何在Function中编写脚本 351 Nn>'^KZNG  
18.1  简介 351 keRE==(D  
18.2  什么是脚本? 351 4Llo`K4  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 "~TA SX_?  
18.4  基础 352 j*xV!DqC  
18.4.1  Classes(类别) 352 Ym;*Y !~[  
18.4.2  对象 352 8H[:>;S I  
18.4.3  信息(Messages) 352 x8GJY~:SW  
18.4.4  属性 352 y qtKy  
18.4.5  方法 353 );-~j  
18.4.6  变量声明 353 .`?@%{  
18.5  创建对象 354 ETs>`#`6o  
18.5.1  创建对象函数 355 1;<R#>&,*  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 )O:0 ]=#))  
18.5.3 丢弃对象 356 "RIZV  
18.5.4  总结 356 phO;c;y}  
18.6  脚本中的表格 357 tHLrhH<w  
18.6.1  方法1 357 YBh'EL}P  
18.6.2  方法2 357 e<r,&U$  
18.7 2D Plots in Scripts 358 dz Zb  
18.8 3D Plots in Scripts 359 g+X}c/" .  
18.9  注释 360 U`hY{E;  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 .F+@B\A<  
18.11  一个更高级的脚本 362 vv26I  
18.12  <esc>键 364 ]qhPd_$?D'  
18.13 包含文件 365 +S Jd@y@fR  
18.14  脚本被优化调用 366 ;# Q%j%J  
18.15  脚本中的对话框 368 LR" 9D  
18.15.1  介绍 368 4tY ss  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 arf8xqR-U]  
18.15.3  输入框函数 370 qWw\_S  
18.15.4  自定义对话框 371 |JCU<_<  
18.15.5  对话框编辑器 371 A_KW(;50  
18.15.6  控制对话框 377 7g_]mG [6  
18.15.7  更高级的对话框 380 I!^O)4QRx  
18.16 Types语句 384 3G kv4,w<  
18.17 打开文件 385 nT2)E&U6%  
18.18 Bags 387 \l~*PG2  
18.13  进一步研究 388 1^gl}^|B  
19  vStack 389 :%IoME   
19.1  vStack基本原理 389 %D *OO{  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 dO%W+K  
19.3  五棱镜 393 7g3 >jh  
19.4 光束距离 396 /hO1QT}xd  
19.5 误差 399 GgKEP,O  
19.6  二向分色棱镜 399 5ZBKRu  
19.7  偏振泄漏 404 2WG>, 4W2  
19.8  波前误差—相位 405 i~r l o^  
19.9  其它计算参数 405 fDLG>rXPT  
20  报表生成器 406 kBN+4Dr/$  
20.1  入门 406 !W?gR.0$=  
20.2  指令(Instructions) 406 D_Bb?o5  
20.3  页面布局指令 406 5 (A5Y-B  
20.4  常见的参数图和三维图 407 JfPD}w  
20.5  表格中的常见参数 408 0]4(:(B  
20.6  迭代指令 408 0V?F'<qy  
20.7  报表模版 408 vx4+QQY P  
20.8  开始设计一个报表模版 409 K<>sOWZ'S  
21  一个新的project 413 &4_qF^9J  
21.1  创建一个新Job 414 \QB;Ja _  
21.2  默认设计 415 0 iJue &  
21.3  薄膜设计 416 vhhC> 7  
21.4  误差的灵敏度计算 420 o6p98Dpg   
21.5  显色指数计算 422 %;D.vKoh  
21.6  电场分布 424 `jOX6_z?I  
后记 426 }1rm  
!kC* g  
)5 R=Z<  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 IH"6? 9nd  
1UQHq@aM  
《Essential Macleod中文手册》
IY*EA4>  
N;[>,0&z  
目  录 0#MqD[U(  
jq!tT%o*B  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 +U@<\kIF  
第1章 介绍 ..........................................................1 LcE+GC  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 9VbOQ{8  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Sf r&p>{,  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?^N3&ukkyo  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 nqf,4MR  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 \7*`}&  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ,\@O(; mF  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ^,]B@ t2  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 BXyo  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 QNl'ZB \  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 *<!oHEwkN  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 )K2HK&t:  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 &@3H%DP}Ql  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 %D[0nt|X  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 uAWM \?  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 uDZT_c'Y  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 9 '2_  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 )[Yv?>ib  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 >i6yl5s  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 /Js7`r=Rx  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 9rA=pH%<>B  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 gatB QwJb9  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 "V}[':fen  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 h3;bxq!q  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 [#sz WNfU  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 J^g!++|2P  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 9tqF8pb7v  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Xp}Yw"7  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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