线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1317
时间地点 oyGO!j  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 as1ZLfN.  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 (R _#lRaQ  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ;}!hgyq  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 T~%}(0=m  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
Ih*}1D)7  
特邀专家介绍 |=C&JA  
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易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 j)K[A%(  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 b[Z5:[@\#  
课程概要 ~f&lQN'1  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 8}/v[8p  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 bT|N Z!V  
课程大纲 MHN?ZHC)  
1. Essential Macleod软件介绍 pyEi@L1p  
1.1 介绍软件 jseyT#2  
1.2 创建一个简单的设计 7\sJ=*  
1.3 绘图和制表来表示性能 k r0PL)$  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 o9dqHm  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 6Q<^,`/T  
1.6 特定设计的公式技术 si.A"\bm  
1.7 交互式绘图 CmaV>  
2. 光学薄膜理论基础 90)0\i+P  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 OhmKjY/}  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ?CB*MWjd  
3. 材料管理 F|K=].  
3.1 材料模型 +I$c+WfU  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 b#U nE  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Ri]7=.QI`  
3.4 基板光学常数的提取  _6a+" p  
4. 光学薄膜设计优化方法 I@VhxJh  
4.1 参考波长与g '=!@s1;{[;  
4.2 四分之一规则 L,*KgLG  
4.3 导纳与导纳图 `ReTfz;o  
4.4 斜入射光学导纳 6X(Yv2X&4%  
4.5 光学薄膜设计的进展 -%]O-'  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 <rUH\z5cP  
4.6.1 优化目标设置 ZV}"k_+-  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 1:<=zqh0  
4.6.3 膜层锁定和链接 9-;ujl?{  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 VeO$n*O  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 'P{0K?{H-4  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 qms+s~oA  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 %"GF+  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 9] /xAsD  
5.5 如何在Function中编写脚本 a.+2h%b  
6. 光学薄膜系统案例 -<kl d+  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 'Eds0"3  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 |FZ)5  
6.3 Stack应用范例说明 =a>a A Z  
7. 薄膜性能分析 fUQuEh5_  
7.1 电场分布 T'9I&h%\  
7.2 公差与灵敏度分析 <. j`n  
7.3 反演工程 '>[l1<d!G  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 7Iu^ l4=2  
8. 真空技术 OjxaA[$  
8.1 常用真空泵介绍 Qs2 E>C  
8.2 真空密封和检漏 s(*L V2fa  
9. 薄膜制备技术 M,]C(f>  
9.1 常见薄膜制备技术 b_= $W  
10. 薄膜制备工艺 &7* |rshZ  
10.1 薄膜制备工艺因素 USz |Rh  
10.2 薄膜均匀性修正技术 cW B>  
10.3 光学薄膜监控技术 oh+Q}Fa:  
11. 激光薄膜 $ o rN>M42  
11.1 薄膜的损伤问题 :uhU<H<,f  
11.2 激光薄膜的制备流程 Ed[ tmaEuV  
11.3 激光薄膜的制备技术 8A/;a{   
12. 光学薄膜特性测量 <p"[jC2zF;  
12.1 薄膜光谱测量 n1OxT"tD  
12.2 薄膜光学常数测量 ;,T3C:S?  
12.3 薄膜应力测量 6<sd6SM  
12.4 薄膜损伤测量 UM$\{$  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 lz>YjK:  
o>rsk 6lNi  
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i^j1 i  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
A4RA5N/}  
内容简介 OiI[w8  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 06@^knm  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 _`yd"0 Ux  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 }{>)2S  
\7W>3  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
z3!j>X_w  
目录 +a$'<GvP  
Preface 1 m0xL'g6F  
内容简介 2 r':wq   
目录 i 'n`+R~Kkh  
1  引言 1 mQ 1)d5  
2  光学薄膜基础 2 r* #ApM"L  
2.1  一般规则 2 (XtN3FTY  
2.2  正交入射规则 3 P:GAJ->;]>  
2.3  斜入射规则 6 $OI 6^  
2.4  精确计算 7 |l\&4/SJ  
2.5  相干性 8 2=Sv#  
2.6 参考文献 10 eF]`?AeWQ  
3  Essential Macleod的快速预览 10 }SL&Y`Y]  
4  Essential Macleod的特点 32 VO#x+u]/  
4.1  容量和局限性 33 @tQu3Rq@  
4.2  程序在哪里? 33 I9S=VFhZ`  
4.3  数据文件 35 P%?|V _m  
4.4  设计规则 35 ^%(HZ'$wC  
4.5  材料数据库和资料库 37 yV=Ku  
4.5.1材料损失 38 gO>XNXN{  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 5,/rh,?  
4.5.2 材料库 41 \Fd6Q_  
4.5.3导出材料数据 43 hY$gzls4  
4.6  常用单位 43 V<X[>C'  
4.7  插值和外推法 46 oNW.-gNT  
4.8  材料数据的平滑 50 Y ,1ZvUOB  
4.9 更多光学常数模型 54 uw'>tb@  
4.10  文档的一般编辑规则 55 5`su^  
4.11 撤销和重做 56 )8`7i{F  
4.12  设计文档 57 HgH\2QL3&  
4.10.1  公式 58 0#\K9|.  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 wOW#A}m'vj  
4.10.3  沉积密度 59 Z>=IP-,>  
4.10.4 平行和楔形介质 60 #2*l"3.$.R  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 +tsF.Is!t  
4.10.4  性能 61 5^kLNNum  
4.10.5  保存设计和性能 64 VaYL#\;c<  
4.10.6  默认设计 64 r\#_b4-v3h  
4.11  图表 64 UC3&:aQ!  
4.11.1  合并曲线图 67 f3,qDbQyJ  
4.11.2  自适应绘制 68 ?`9XFE~a!  
4.11.3  动态绘图 68 -D=J/5L#5  
4.11.4  3D绘图 69  Y j[M>v  
4.12  导入和导出 73 ' i- 6JG%  
4.12.1  剪贴板 73 Hzm<KQ g  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 M  ::  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 2~`lvx  
4.13  背景 77 GnAG'.t-Z  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 'G] P09`*)  
4.15  生成Rugate 84 T@K= * p  
4.16  参考文献 91 <x&0a$I  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 PE!/n6  
5.1  Jobs 92 Sq#AnD6To  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 4XL$I*;4  
5.3  输入材料 94 uD'yzR!]+  
5.4  设计数据文件夹 95 TA2HAMx)  
5.5  默认设计 95 n $Nw/Vm  
6  细化和合成 97 }kJfTsFS  
6.1  优化介绍 97 dO?zLc0f  
6.2  细化 (Refinement) 98 Q{+*F8%8V<  
6.3  合成 (Synthesis) 100 rV{:'"=y-  
6.4  目标和评价函数 101 DIsK+1  
6.4.1  目标输入 102 kSW=DE|#}  
6.4.2  目标 103 E[$"~|7|$  
6.4.3  特殊的评价函数 104 #@pgB:~lB  
6.5  层锁定和连接 104 DIqM\ ><  
6.6  细化技术 104 ?L K n  
6.6.1  单纯形 105 ^pB}eh.@U  
6.6.1.1 单纯形参数 106 /,C;fT<R  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 _#\e5bE=Z  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ! qVuhad.  
6.6.3  模拟退火算法 109 fnXYp !  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 -FOn%7r#Y  
6.6.4  共轭梯度 111 { ^J/S}L]  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 [zC1LTXe  
6.6.5  拟牛顿法 112 q?R^~r  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 x3>ZO.Q  
6.6.6  针合成 113 $Cgl$A  
6.6.6.1 针合成参数 114 [Sr^CY P(  
6.6.7 差分进化 114 bk(q8xR`  
6.6.8非局部细化 115 -JKl\E  
6.6.8.1非局部细化参数 115 nrBpq  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 8ln{!,j;  
6.7.1  细化 116 /EIQMZuYp  
6.7.2  合成 117 LoUHStt  
6.8  参考文献 117 h 8%(,$*  
7  导纳图及其他工具 118 MV{\:l}y  
7.1  简介 118 xNrPj8V<Y  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 jj,CBNo(  
7.2.1  四分之一波长规则 119 TS_5R>R3  
7.2.2  导纳图 120 `w6*(t:T  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 f]pHJVgFV  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 @$Xl*WT7  
7.5  斜入射导纳图 141 bmOK 8  
7.6  对称周期 141 /IxoS  
7.7  参考文献 142 cv{icz,%w  
8  典型的镀膜实例 143 bcR";cE  
8.1  单层抗反射薄膜 145 t!8(IR  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ; Sd== *  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Aaw]=8 OI  
8.4  W-膜层 148 @3w6 !Sgh  
8.5  V-膜层 149  ?v z[Zi  
8.6  V-膜层高折射基底 150 %jE0Z4\  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 8|LU=p`y'  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 xA'RO-a}h  
8.9  四层抗反射薄膜 153 =dT  #x  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 =Lh8#>T\h  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 kOE\.}~4  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 lC=-1*WH  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 dc dVB>D  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 Z<jC,r  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Y|l&mK?  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 $$ 9!4  
8.17  1/4波长堆栈 162 bhl9:`s  
8.18  陷波滤波器 163 Yu}[RXC(=  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Z=m5V(9  
8.20  褶皱 165 z"D0Th`S6  
8.21  消偏振分光器1 169 BvLC%  
8.22  消偏振分光器2 171 @CtnV|  
8.23  消偏振立体分光器 172 &s(mbpV  
8.24  消偏振截止滤光片 173 s$JO3-)  
8.25  立体偏振分束器1 174 w)XnMyD(P  
8.26  立方偏振分束器2 177 kt# t-N;}x  
8.27  相位延迟器 178 HEk{!Y  
8.28  红外截止器 179 R0#'t+7^  
8.29  21层长波带通滤波器 180 0;L.h|R T(  
8.30  49层长波带通滤波器 181 rQ-,mq  
8.31  55层短波带通滤波器 182 :caXQ)  
8.32  47 红外截止器 183 Z?<&@YQS  
8.33  宽带通滤波器 184 O@>ZYA%  
8.34  诱导透射滤波器 186 [w*]\x'S  
8.35  诱导透射滤波器2 188 a)8;P7  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 X%98k'h.y  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 AZE  
8.35  增益平坦滤波器 193 S-[S?&c`  
8.38  啁啾反射镜 1 196 kXgc'w6EhF  
8.39  啁啾反射镜2 198 [#SiwhF|  
8.40  啁啾反射镜3 199 m++=FsiX=  
8.41  带保护层的铝膜层 200 >|pN4FS  
8.42  增加铝反射率膜 201 hRNnj  
8.43  参考文献 202 6u9?  
9  多层膜 204 (]nX:t  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Y6`^E  
9.2  内部透过率 204 {pXqw'"1.  
9.3 内部透射率数据 205 T<%%f.x[s  
9.4  实例 206 yf2P6b\  
9.5  实例2 210 eUKl(  
9.6  圆锥和带宽计算 212 489xoP  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 48,uO !  
10  光学薄膜的颜色 216 2BO&OX|X  
10.1  导言 216 S "/-)_{  
10.2  色彩 216 n}dLfg *  
10.3  主波长和纯度 220 i~LY  
10.4  色相和纯度 221 GvBmh.  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ;YZ'd"0v  
10.6 色差 226 d[YG&.}+8j  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 2Z-QVwa*U  
10.8  颜色渲染指数 234 X4JSI%E  
10.9  色差计算 235 iB}*<~`.Eg  
10.10  参考文献 236 }"&Ye  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 T930tX6"h  
11.1  短脉冲 238 3 TRG] 5  
11.2  群速度 239 9 /=+2SZ  
11.3  群速度色散 241 WIN3*z7oW  
11.4  啁啾(chirped) 245 A*{CT>  
11.5  光学薄膜—相变 245 2;x+#D8  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Nj.;mr<  
11.7  色度色散 246 w8bvqTQ  
11.8  色散补偿 249 *#1J  
11.9  空间光线偏移 256 HLCI  
11.10  参考文献 258 Ab8Ke|fA  
12  公差与误差 260 P9x':I$  
12.1  蒙特卡罗模型 260 V0G[f}tm'  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 8H,k0~D  
12.2.1  误差工具 267 ?1**@E0  
12.2.2  灵敏度工具 271 A@eR~Kp ^  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ,Fn-SrB:  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 7M~/[f7Z{  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 `i!fg\qnK  
12.3  参考文献 276 T_d)1m fl  
13  Runsheet 与Simulator 277 J(SGaHm@  
13.1  原理介绍 277 wlEK"kKU  
13.2  截止滤光片设计 277 (o^?i2)g  
14  光学常数提取 289 iqFC~].)  
14.1  介绍 289 .vie#,la  
14.2  电介质薄膜 289 WtC&Qyuq  
14.3  n 和k 的提取工具 295 R+El/ya:6  
14.4  基底的参数提取 302 i]Bu7Fuu  
14.5  金属的参数提取 306 nG-DtG^z  
14.6  不正确的模型 306 k\r^GB  
14.7  参考文献 311 C#B|^A_  
15  反演工程 313  F##xVmR~  
15.1  随机性和系统性 313 V{ fG~19  
15.2  常见的系统性问题 314 Hzz v 6k  
15.3  单层膜 314 x.sC015Id  
15.4  多层膜 314 j9X|c7|  
15.5  含义 319 s{*bFA Z1F  
15.6  反演工程实例 319 L4ZB0PmN'  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 $&&+2?cx0  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 DPkH:X  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ?Iu=os>*  
16.1  光学性质的热致偏移 329 cdN=HM~I  
16.2  应力工具 335 G=LK irj(  
16.3  均匀性误差 339 &A=c[pc  
16.3.1  圆锥工具 339 99"8d^{z  
16.3.2  波前问题 341 {gxP_>  
16.4  参考文献 343 >I',%v\?@  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 FV{XPr%   
17.1  引言 345 n:f&4uKoG<  
17.2  操作数 345 Ro;I%j  
18  如何在Function中编写脚本 351 yq1 G6hw  
18.1  简介 351 '<>?gE0Cd  
18.2  什么是脚本? 351 c7.M\f P  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Gzs$0Ki=  
18.4  基础 352 Qkw?Q V-`k  
18.4.1  Classes(类别) 352 L2wX?NA  
18.4.2  对象 352 3#Iq5vT  
18.4.3  信息(Messages) 352 s5V|.R  
18.4.4  属性 352  M%g2UP  
18.4.5  方法 353 g+7j?vC{'  
18.4.6  变量声明 353 B*9?mcP\  
18.5  创建对象 354 ?<S fhjU  
18.5.1  创建对象函数 355 .Hk.'>YR  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 >nvnU`\  
18.5.3 丢弃对象 356 J/3$I  
18.5.4  总结 356 Xtloyph  
18.6  脚本中的表格 357 4dm0:, G  
18.6.1  方法1 357 Ktu~%)k%  
18.6.2  方法2 357 ^+0>,-)F  
18.7 2D Plots in Scripts 358 dkqyn"^  
18.8 3D Plots in Scripts 359 4P"XT  
18.9  注释 360 V(g5Gn?  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 UFC^ lv  
18.11  一个更高级的脚本 362 MTq/  
18.12  <esc>键 364 x 0K#-  
18.13 包含文件 365 qe22 kE#  
18.14  脚本被优化调用 366 GDb V y)&  
18.15  脚本中的对话框 368 KT7R0v  
18.15.1  介绍 368 7- C])9  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 g)!q4 -q  
18.15.3  输入框函数 370 1f'msy/  
18.15.4  自定义对话框 371 Wc,`L$Jx  
18.15.5  对话框编辑器 371 "d /uyS$6  
18.15.6  控制对话框 377 bAy\Sr #/  
18.15.7  更高级的对话框 380 s%8,'3&  
18.16 Types语句 384 A-J#$B  
18.17 打开文件 385 i29a1nD4Hm  
18.18 Bags 387  ;]bW  
18.13  进一步研究 388 4Xww(5?3  
19  vStack 389 TQPrOs?  
19.1  vStack基本原理 389 LFZ*mRiuKE  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 REh\WgV!u  
19.3  五棱镜 393 SBdd_Fn  
19.4 光束距离 396 f0R+Mz8{  
19.5 误差 399 `C$QR 8  
19.6  二向分色棱镜 399 EWY'E;0@5  
19.7  偏振泄漏 404 jc\y{I\  
19.8  波前误差—相位 405 Rg+# (y  
19.9  其它计算参数 405 1Dhu 5ht  
20  报表生成器 406 %|1s9?h7\  
20.1  入门 406 JT~Dr KI_  
20.2  指令(Instructions) 406 \ H#"  
20.3  页面布局指令 406 _Vf>>tuW  
20.4  常见的参数图和三维图 407 vp9wRGd  
20.5  表格中的常见参数 408 ggm'9|  
20.6  迭代指令 408 2E`mbT,v&  
20.7  报表模版 408 )jt?X}  
20.8  开始设计一个报表模版 409 kP5G}Bp  
21  一个新的project 413  cV_-Bcb  
21.1  创建一个新Job 414 x34GRe!!  
21.2  默认设计 415 Jr= fc*f  
21.3  薄膜设计 416 ^~6gkS }  
21.4  误差的灵敏度计算 420 c-!3wvt)  
21.5  显色指数计算 422 =+I-9=  
21.6  电场分布 424 a.RYRq4o  
后记 426 %<'.c9u5  
P2| +7D:  
qQ6@43TC  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 jSRi  
5uOz#hN  
《Essential Macleod中文手册》
3+vVdvu%  
Q1x15pVku/  
目  录 x9S9%JG :  
9\T9pjdZE  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 @K}h4Yok  
第1章 介绍 ..........................................................1 `e?~c'a@  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 wZW\r!Us  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 {`T^&b k  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 }T AG7U*  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 /L5:/Z  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 3-)}.8F  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 e&Q w\Ze  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 NV@$\ <  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 (<-m|H};  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 g+c%J#F=  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 l4(FM}0X5}  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 & 9 c^9<F  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 n}fV$qu  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 i}i >ho-8  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 jUgx ;=  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 I0=L_&`)  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 c&{= aIe w  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 gW9`k,U  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 5zkj ;?s  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 xU}J6 Tv  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 (/!@ -]1  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 qDz[=6BF  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 }UQ,B  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 C*B5"s"  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301  -T-yt2h(  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 X8?@Y@  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 v&3" (fp  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 JnIG;/  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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