线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:918
时间地点 uo`zAKM&A  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 g|TWoRx:  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 /:B2-4>Q!  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ghU~H4[xD  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 L _D#  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
cY]BtJ#  
特邀专家介绍 D,\hRQ  
FRhHp(0}5  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 -kzp >=  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 BD ,J4xH;  
课程概要 9$f%  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ij5|P4Eka  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 4ibOVBG:*,  
课程大纲 OMf w#  
1. Essential Macleod软件介绍 56o(gCj?y  
1.1 介绍软件 *47HN7  
1.2 创建一个简单的设计 HjCe/J ;  
1.3 绘图和制表来表示性能 WeZ?L|&%w0  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 (1e,9!?  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) T].Xx`  
1.6 特定设计的公式技术 dk/f_m  
1.7 交互式绘图 >=1Aa,_tc  
2. 光学薄膜理论基础 m`BE{%  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 uA4x xY  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 qr4.s$VGs*  
3. 材料管理 (T!#7  
3.1 材料模型 !LM9  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 p(>D5uN_}5  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 w?V;ItcL  
3.4 基板光学常数的提取 x3:d/>b  
4. 光学薄膜设计优化方法 ~jJF&*)  
4.1 参考波长与g qh|fq b  
4.2 四分之一规则 J\Db8O-/x4  
4.3 导纳与导纳图 K;7ea47m N  
4.4 斜入射光学导纳 i&KBMx   
4.5 光学薄膜设计的进展 Dy&{PeE!  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 &$bcB]C\3  
4.6.1 优化目标设置 KwNOB _  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) > -,$  
4.6.3 膜层锁定和链接 h0] bIT{  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 [gGo^^aW#  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 (QTQxZ  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 l6- n{zG  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 {ub'   
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 .On3ZN  
5.5 如何在Function中编写脚本 3aw-fuuIb  
6. 光学薄膜系统案例 Q[c:A@oW  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 +w?-#M#  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 rn]F97v@]  
6.3 Stack应用范例说明 cJ\ 1ndBH  
7. 薄膜性能分析 e(I;[G +%,  
7.1 电场分布 iUbcvF3aP  
7.2 公差与灵敏度分析 VIaj])m  
7.3 反演工程 Z.`0  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 N6Dv1_c,  
8. 真空技术 E~c>j<'-"<  
8.1 常用真空泵介绍 `ff@f]|3^  
8.2 真空密封和检漏 %Z8wUG  
9. 薄膜制备技术 Bk] `n'W  
9.1 常见薄膜制备技术 F. I\?b  
10. 薄膜制备工艺 BCO (,k  
10.1 薄膜制备工艺因素 7^;-[? l  
10.2 薄膜均匀性修正技术 BoXPX2:  
10.3 光学薄膜监控技术 oT|:gih5  
11. 激光薄膜 YZAQt* x  
11.1 薄膜的损伤问题 drvz [ 9;  
11.2 激光薄膜的制备流程 558!?kx$  
11.3 激光薄膜的制备技术 wlQ @3RN>  
12. 光学薄膜特性测量 85q!FpuH  
12.1 薄膜光谱测量 3:<[;yo  
12.2 薄膜光学常数测量 >`^;h]Q  
12.3 薄膜应力测量 #r,!-;^'p  
12.4 薄膜损伤测量 fZ(k"*\MZ  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 }zIWagC6  
MO? }$j  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
H vHy{S4  
内容简介 b'I@TLE')  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 J3XG?' }  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @YVla !5O@  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 &UVqF o  
QRx9;!~b}  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
fymmA faR  
目录 wb%4f6i  
Preface 1 >%5GMx>m  
内容简介 2 l3+G]C&<  
目录 i T+PERz(  
1  引言 1 o=-Af|#b  
2  光学薄膜基础 2 %_G '#Bn<  
2.1  一般规则 2 8K@e8p( y  
2.2  正交入射规则 3 qoZe<jW (  
2.3  斜入射规则 6 8g=];@z  
2.4  精确计算 7 ,."wxP2u  
2.5  相干性 8 !hE F.S  
2.6 参考文献 10 a5(9~. 9  
3  Essential Macleod的快速预览 10 %.wx]:o  
4  Essential Macleod的特点 32 ?BbEQr  
4.1  容量和局限性 33 efuiFN;  
4.2  程序在哪里? 33 3BAQ2S}  
4.3  数据文件 35 '$VP\Gj.  
4.4  设计规则 35 [ {HTGz@(  
4.5  材料数据库和资料库 37 3EH@tlTl  
4.5.1材料损失 38 ^Nt^.xi7  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 'UTMEN&  
4.5.2 材料库 41 VF+g+~  
4.5.3导出材料数据 43 '3~m},0  
4.6  常用单位 43 s@g _F  
4.7  插值和外推法 46 '*EKi  
4.8  材料数据的平滑 50 -X3CrW  
4.9 更多光学常数模型 54 %zR5q  Lb  
4.10  文档的一般编辑规则 55 WqS$C;]%  
4.11 撤销和重做 56 sGh TP/  
4.12  设计文档 57 \tA@A  
4.10.1  公式 58 VA`VDUG,  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;Zc0imYL  
4.10.3  沉积密度 59 X5-[v(/]  
4.10.4 平行和楔形介质 60 +:Nz_l  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 e.Jaq^Gw|  
4.10.4  性能 61 9ph>4u(R  
4.10.5  保存设计和性能 64 ZXf& pqmG  
4.10.6  默认设计 64 C' WX$!$d  
4.11  图表 64 zn0%%x+!g  
4.11.1  合并曲线图 67 ?0-3J )kW  
4.11.2  自适应绘制 68 ,|]k4F  
4.11.3  动态绘图 68 EpTc{  
4.11.4  3D绘图 69 j3S!uA?  
4.12  导入和导出 73 q"WfKz!U  
4.12.1  剪贴板 73 x_<,GE@  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 YgtW(j[  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Q'Uv5p"X  
4.13  背景 77 I0;gTpt9  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 crx%;R   
4.15  生成Rugate 84 cY+n 6k5  
4.16  参考文献 91 `uqe[u;`6  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 I|2dV9y  
5.1  Jobs 92 J3/e;5w2Z  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 iG"1~/U  
5.3  输入材料 94 W}|k!_/  
5.4  设计数据文件夹 95 b?2 \j}  
5.5  默认设计 95 p9!jM\(  
6  细化和合成 97 G7KOJZb+D  
6.1  优化介绍 97 xCyD0^KY  
6.2  细化 (Refinement) 98 #Fgybokm  
6.3  合成 (Synthesis) 100 7\H_9o0$  
6.4  目标和评价函数 101 bIzBY+P  
6.4.1  目标输入 102 5A%Uv*  
6.4.2  目标 103 ;y)3/46S  
6.4.3  特殊的评价函数 104 :H]MMe  
6.5  层锁定和连接 104 F^lau f  
6.6  细化技术 104 yNG|YB;  
6.6.1  单纯形 105 iQgr8[ SFf  
6.6.1.1 单纯形参数 106 BQv*8Hg B6  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 "|N0oEG&  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Tt_QAIl  
6.6.3  模拟退火算法 109 .3SP# mI  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 bU}l*"  
6.6.4  共轭梯度 111 +x?8\  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ] pv!Ll  
6.6.5  拟牛顿法 112 bn=7$Ax  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 0Ag2zx  
6.6.6  针合成 113 8hMy$  
6.6.6.1 针合成参数 114 %6&c3,?U\n  
6.6.7 差分进化 114 qZlL6  
6.6.8非局部细化 115 &#9HV  
6.6.8.1非局部细化参数 115 DD6K[\  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 /N")uuv  
6.7.1  细化 116 \_)mWK,h  
6.7.2  合成 117 @lqI,Ce5  
6.8  参考文献 117 H1 i+j;RN  
7  导纳图及其他工具 118 ^e80S^  
7.1  简介 118 *8/cd0  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Y$fF"p G?  
7.2.1  四分之一波长规则 119 z)R\WFBW  
7.2.2  导纳图 120 ^a|  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "b"|ay  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ']H*f2y  
7.5  斜入射导纳图 141 d7Z$/ $  
7.6  对称周期 141 A>)W6|m|  
7.7  参考文献 142 Y+EwBg)co  
8  典型的镀膜实例 143 _+Uf5,.5yU  
8.1  单层抗反射薄膜 145 #?Ob->v  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 #9A*BbY  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 mAe)Hy %  
8.4  W-膜层 148 :Z6l)R+V  
8.5  V-膜层 149  ~!e(e2  
8.6  V-膜层高折射基底 150 =7S\-{  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 @y|JIBBRc  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 " "CNw-^t  
8.9  四层抗反射薄膜 153 >/.Ae8I)  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 N`vPt?@  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Pb7-pu5 X  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 )>pIAYCVP  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 A8ClkLC;I  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 g&/r =U  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 )-i(%;,*e  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 , lBHA+@  
8.17  1/4波长堆栈 162 x139Ckn  
8.18  陷波滤波器 163 ciN*gwI)  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 QD 0p  
8.20  褶皱 165 R1/mzPG  
8.21  消偏振分光器1 169 !A+jX7Nb  
8.22  消偏振分光器2 171 NH,4>mV$!  
8.23  消偏振立体分光器 172 C-(O*hK  
8.24  消偏振截止滤光片 173 3IoN.  
8.25  立体偏振分束器1 174 h 3p~\%^  
8.26  立方偏振分束器2 177 !6J+#  
8.27  相位延迟器 178 * [b~2  
8.28  红外截止器 179 V)mi1H|m  
8.29  21层长波带通滤波器 180 I.1(qbPkF+  
8.30  49层长波带通滤波器 181 KPa@~rU  
8.31  55层短波带通滤波器 182 D)eRk0iC  
8.32  47 红外截止器 183 }jL4F$wC  
8.33  宽带通滤波器 184 T 6=~vOzTJ  
8.34  诱导透射滤波器 186 sb%l N   
8.35  诱导透射滤波器2 188 [t]q#+Zs  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 D Z=OZ.v  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 l YjPrA]TC  
8.35  增益平坦滤波器 193 |YrvY1d!  
8.38  啁啾反射镜 1 196 %vU*4mH  
8.39  啁啾反射镜2 198 92^Dn`g  
8.40  啁啾反射镜3 199 *C(q{|f  
8.41  带保护层的铝膜层 200 i6k~j%0m  
8.42  增加铝反射率膜 201 .j`8E^7<  
8.43  参考文献 202 oN(F$Nvk  
9  多层膜 204 f/i[? gw  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 FNXVd/{M3  
9.2  内部透过率 204 uJJP<mDgA  
9.3 内部透射率数据 205 U> {CG+X  
9.4  实例 206 22D,,nC0+=  
9.5  实例2 210 tBE-:hX*  
9.6  圆锥和带宽计算 212 (FOJHjtkM  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 h6e,w$IL  
10  光学薄膜的颜色 216 sV`XJ9e|  
10.1  导言 216 1 <wolTf  
10.2  色彩 216 ^bXCYkx  
10.3  主波长和纯度 220 'WoB\y569  
10.4  色相和纯度 221 2*0n#" L  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ,>I_2mc  
10.6 色差 226 vpu   
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 L$}'6y/@  
10.8  颜色渲染指数 234 C,5Erb/  
10.9  色差计算 235 Cta!"=\  
10.10  参考文献 236 PML84*K -  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 2Zi&=Zj"  
11.1  短脉冲 238 Y67i\U>?  
11.2  群速度 239 [&{NgUgu"  
11.3  群速度色散 241 zfUkHL6  
11.4  啁啾(chirped) 245 fq0[7Yb  
11.5  光学薄膜—相变 245 s *<T5Z  
11.6  群延迟和延迟色散 246 =L}$#Y8?  
11.7  色度色散 246 .%mjE'  
11.8  色散补偿 249 "C9.pdP\8  
11.9  空间光线偏移 256 @%#!-wC-5  
11.10  参考文献 258 v0 |"[qGb  
12  公差与误差 260 E=~Ahkg  
12.1  蒙特卡罗模型 260 #pX+~ {  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 t($z+ C<  
12.2.1  误差工具 267 9!Vp-bo  
12.2.2  灵敏度工具 271 w7_2JS  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 8?k.4{?  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 hFt~7R  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 XO J@-^BX  
12.3  参考文献 276 "C [uz&  
13  Runsheet 与Simulator 277 X]t *  
13.1  原理介绍 277 ,NQ>,}a0  
13.2  截止滤光片设计 277 c# WIB 4  
14  光学常数提取 289 NKw}VW'|  
14.1  介绍 289 w7h=vy n?  
14.2  电介质薄膜 289 w3peG^4D_  
14.3  n 和k 的提取工具 295 +@K8:}lOW  
14.4  基底的参数提取 302 rD U"l{cg  
14.5  金属的参数提取 306 \fD[Ej  
14.6  不正确的模型 306 Vq#_/23=$y  
14.7  参考文献 311 !)'|Y5 o  
15  反演工程 313 4$b9<:M_  
15.1  随机性和系统性 313 Cl3hpqv1I  
15.2  常见的系统性问题 314 ak;S Ie  
15.3  单层膜 314 }#U3vMx(  
15.4  多层膜 314 gc{5/U9H*  
15.5  含义 319 G3t 4$3|  
15.6  反演工程实例 319 E{6X-C[)v  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 *g/@-6  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 9:6d,^X  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 MFLw^10(T  
16.1  光学性质的热致偏移 329 `pd1'5Hm  
16.2  应力工具 335 -<B{?D  
16.3  均匀性误差 339 @?"t&h  
16.3.1  圆锥工具 339 ' k[gxk|d2  
16.3.2  波前问题 341 a fhZM$  
16.4  参考文献 343 MBH/,Yd  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 <x2 F5$@  
17.1  引言 345 _d/ZaCx'i  
17.2  操作数 345 VR0#"  
18  如何在Function中编写脚本 351 )d-{#  
18.1  简介 351 SvGs?nUU  
18.2  什么是脚本? 351 uu582%tiG  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 prg8Iq'w  
18.4  基础 352 a'ODm6#  
18.4.1  Classes(类别) 352 6 _\j_$  
18.4.2  对象 352 ~j2=hkS  
18.4.3  信息(Messages) 352 n;Etn!4M  
18.4.4  属性 352 > jDx-H.N  
18.4.5  方法 353 XD\Z$\UJE  
18.4.6  变量声明 353 v;@-bED(Qs  
18.5  创建对象 354 iP~dH/B|v  
18.5.1  创建对象函数 355 wY j~(P"  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 3 ,?==?  
18.5.3 丢弃对象 356 i<Be)Y-'  
18.5.4  总结 356 /1q] D8  
18.6  脚本中的表格 357 }ZWeb#\  
18.6.1  方法1 357 > ak53Ij$  
18.6.2  方法2 357 3 e9fziQ~  
18.7 2D Plots in Scripts 358 7eg//mL"6  
18.8 3D Plots in Scripts 359 lCyp&b#(L  
18.9  注释 360 &Wup 7  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 {m%X\s;ni  
18.11  一个更高级的脚本 362 5K*-)F ]  
18.12  <esc>键 364 AFSFXPl "  
18.13 包含文件 365 /aB9pD+%  
18.14  脚本被优化调用 366 5&r2a}K  
18.15  脚本中的对话框 368 lEC58`Ws  
18.15.1  介绍 368 ~L'}!' &.  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 XJ;JDch  
18.15.3  输入框函数 370 ico(4KSk  
18.15.4  自定义对话框 371 V-w[\u  
18.15.5  对话框编辑器 371 2v<[XNX  
18.15.6  控制对话框 377 ,uP1U@Cas  
18.15.7  更高级的对话框 380 N7xkkAS{  
18.16 Types语句 384 ^MWfFpJV!]  
18.17 打开文件 385 7>m#Y'ppl@  
18.18 Bags 387 qEpP%p  
18.13  进一步研究 388 P( W8XC  
19  vStack 389 G#! j`  
19.1  vStack基本原理 389 `v)-v<  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 E 2DTE  
19.3  五棱镜 393 \(LHcvbb  
19.4 光束距离 396 6X:- Z 3  
19.5 误差 399 VMW ?[j  
19.6  二向分色棱镜 399 f:TC;K  
19.7  偏振泄漏 404 |C S[>0mV!  
19.8  波前误差—相位 405 y o[!q|z  
19.9  其它计算参数 405 -K/' }I  
20  报表生成器 406 m-a _<xo  
20.1  入门 406 <_H0Q_/(  
20.2  指令(Instructions) 406 0nz k?iP  
20.3  页面布局指令 406 B%9[  
20.4  常见的参数图和三维图 407 o=_4v ^  
20.5  表格中的常见参数 408 ? F f w'O  
20.6  迭代指令 408 W.n@  
20.7  报表模版 408 wy_TFV  
20.8  开始设计一个报表模版 409 mI in'M  
21  一个新的project 413 .?S#DS )  
21.1  创建一个新Job 414 J\   
21.2  默认设计 415 BoIe<{X(9  
21.3  薄膜设计 416 #D+Fq^="P  
21.4  误差的灵敏度计算 420 a+mq=K  
21.5  显色指数计算 422 zAB-kE\ )  
21.6  电场分布 424 qBX<{[  
后记 426 ;Xgy2'3  
sS(^7GARa  
Ok({Al1A,w  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 !1"~tA!+p=  
{ Rw~G&vQ  
《Essential Macleod中文手册》
K{>O. 5  
+Mm0bqNN  
目  录 |_[mb(<|  
7X}_yMxc  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Punbw\9!d,  
第1章 介绍 ..........................................................1 OR"ni  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 W {dx\+  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 S^D ~A8u  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 rzaEVXbz1  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ~P6K)V|@<  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 6o A0a\G'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 9fl !CG  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ~T4 =Id  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 !8=uBS%  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 $ 9QVl  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ( v ~/glf  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 &<^@/osi  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 FT (EH  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 1NOz $fW  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 l]v *h0!  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 7 cIVK}&  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 H V   
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 dnIBAe  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 B~PF<8h5  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 Fx3VQ'%J  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 #{ Uk4  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 6o1.?t?  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 +Qc^A  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 3?5 ~KxOE(  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 =$`DBLX   
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ? ! 1uw  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 1;:2=8  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 1@nR.v"$  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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