线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1143
时间地点 h\s/rZg=r  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 L^J4wYFTO  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 2qMiX|Y  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 inP2y?j  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 222 Y?3>@D  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
Y },E3<  
特邀专家介绍 |z-f 8$  
*ap,r&]#F  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 /6x&%G:m#  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 !09)WtsEfx  
课程概要 C@(@n!o:!  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 {)YbksrJ{  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 !_QI<=X  
课程大纲 ;pnF%co9  
1. Essential Macleod软件介绍 mdi!Q1pS  
1.1 介绍软件 'aSsyD!?<  
1.2 创建一个简单的设计 0PzSp ]  
1.3 绘图和制表来表示性能 KVi6vdgD  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 rrD6x>  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 727#7Bo  
1.6 特定设计的公式技术 K'A+V  
1.7 交互式绘图 ~_THvx1  
2. 光学薄膜理论基础 UXm_-/&b9  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 -y`Pm8  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 fSo8O  
3. 材料管理 ]OAU&t{  
3.1 材料模型 \CB^9-V3  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Cbbdq%ySI  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 uGU 2  
3.4 基板光学常数的提取 x:SjdT  
4. 光学薄膜设计优化方法 )CGQ}  
4.1 参考波长与g 7 N}@zPAZ  
4.2 四分之一规则 [2:d@=%.  
4.3 导纳与导纳图 Yuv(4a<M%  
4.4 斜入射光学导纳 +a,SP   
4.5 光学薄膜设计的进展 ,@*5x'auK  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 (zhZ}C,VF  
4.6.1 优化目标设置 O=K lc+Oo  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Z{8%Cln  
4.6.3 膜层锁定和链接 NdK`-RT  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 $^x=i;>aK.  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 `M@ESA (e  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟  f<o|5r  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 o&JoeKXor  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 gtKih  
5.5 如何在Function中编写脚本 >,6  
6. 光学薄膜系统案例 ?QP>rm  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 " ityx?  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 kZ9Gl!g  
6.3 Stack应用范例说明 7qC /a c  
7. 薄膜性能分析 snbXAx1L  
7.1 电场分布 $tlBI:ay1  
7.2 公差与灵敏度分析 :ez76oGyc  
7.3 反演工程 q <}IO  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 :zW? O#aL-  
8. 真空技术 Agd"m4!  
8.1 常用真空泵介绍 {O+T`; =)L  
8.2 真空密封和检漏 g *5_m(H  
9. 薄膜制备技术 <IrhR,@M,L  
9.1 常见薄膜制备技术 4LSs WO<@  
10. 薄膜制备工艺 !@C-|=9G  
10.1 薄膜制备工艺因素 xQR/Xp!h  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ^-%'ItVO  
10.3 光学薄膜监控技术 T;u;r@R/  
11. 激光薄膜 s}zR@ !`  
11.1 薄膜的损伤问题 Y3@+aA  
11.2 激光薄膜的制备流程 3.movkj  
11.3 激光薄膜的制备技术 xI,3(A.  
12. 光学薄膜特性测量 "rdpA[>L  
12.1 薄膜光谱测量 L7ae6#5.  
12.2 薄膜光学常数测量 2)EqqX[D  
12.3 薄膜应力测量 3MQHoxX  
12.4 薄膜损伤测量 Csyh 'v  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 2j f!o  
fR1L VLU  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
"8Dm7)nB  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
'IU3Xu[-.  
内容简介 yp~z-aRa  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ^"Bhp:o2  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 r'noB<| e  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 O%%Q./oh  
65Z}Hf  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
QRQ{Bq}#  
目录 F`KXG$  
Preface 1 (-ELxshd  
内容简介 2 <gPM/ 4$G  
目录 i 1_7p`Gxt[/  
1  引言 1 p,=IL_  
2  光学薄膜基础 2 =2q#- ,t  
2.1  一般规则 2 Up Z 9g"  
2.2  正交入射规则 3 4EYD5  
2.3  斜入射规则 6 z/#,L!Z3  
2.4  精确计算 7 E"}%$=yK  
2.5  相干性 8 !S~)U{SSK  
2.6 参考文献 10 7,)E1dx -V  
3  Essential Macleod的快速预览 10 A":=-$)  
4  Essential Macleod的特点 32 8B ,S_0!  
4.1  容量和局限性 33 IAA_Ft  
4.2  程序在哪里? 33 j6s j2D  
4.3  数据文件 35 ?* ~4~ZE E  
4.4  设计规则 35 Ztk%uc8_lM  
4.5  材料数据库和资料库 37 Zl[EpXlZ  
4.5.1材料损失 38 t!4 (a0\$F  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ,b^Y8_ltoT  
4.5.2 材料库 41 Ew4D'; &;  
4.5.3导出材料数据 43 ,`U>BBBLv  
4.6  常用单位 43 B<~AUf*y  
4.7  插值和外推法 46 !bzWgD7j  
4.8  材料数据的平滑 50 |keU+De  
4.9 更多光学常数模型 54 #@nPB.  
4.10  文档的一般编辑规则 55 F=&,=r' Q8  
4.11 撤销和重做 56 Q>[{9bI4QP  
4.12  设计文档 57 [ `|t(E'  
4.10.1  公式 58 i`YZ;L L  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 |Ja5O  
4.10.3  沉积密度 59 Ri"rT] '  
4.10.4 平行和楔形介质 60 `D3q!e  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 0aq{Y7sYU  
4.10.4  性能 61 ]G&[P8hz B  
4.10.5  保存设计和性能 64 .|"E:qTD  
4.10.6  默认设计 64 W +Piqf*  
4.11  图表 64 C!_=L?QT^  
4.11.1  合并曲线图 67 `]]m$  
4.11.2  自适应绘制 68 [-`s`g-  
4.11.3  动态绘图 68 ^?|4<Rm  
4.11.4  3D绘图 69 *56j'FX  
4.12  导入和导出 73 zM8 jjB  
4.12.1  剪贴板 73 0rX%z$D+@  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ;=0-B&+v  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 QlVj#Jv;~  
4.13  背景 77 DI/d(oFv`  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Z9H2! Cp  
4.15  生成Rugate 84 r}Vr_  
4.16  参考文献 91 Ag3+z+uS  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 C-_u`|jQ  
5.1  Jobs 92 j*?E~M.'1K  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 f:nXE&X[  
5.3  输入材料 94 G(A7=8vW  
5.4  设计数据文件夹 95 ?AO=)XV2  
5.5  默认设计 95 aeYz;&K  
6  细化和合成 97 8/B8yY-O  
6.1  优化介绍 97 DZ`,QWuA  
6.2  细化 (Refinement) 98  Z a,o  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Ur[ai6LNG  
6.4  目标和评价函数 101  vWW Q/^  
6.4.1  目标输入 102 I+Y Z+  
6.4.2  目标 103 ; p+C0!B2  
6.4.3  特殊的评价函数 104 \7UeV:3Ojn  
6.5  层锁定和连接 104 @Nm{H  
6.6  细化技术 104 j0F& WKk  
6.6.1  单纯形 105 J;V#a=I  
6.6.1.1 单纯形参数 106 X+;#^A3  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 %U<lS.i  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ! qtj1.w  
6.6.3  模拟退火算法 109 Mu.tq~b >  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 8eCh5*_$  
6.6.4  共轭梯度 111 `&)  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 .|:(VG$MfI  
6.6.5  拟牛顿法 112 $/u.F;  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 V1i^#;  
6.6.6  针合成 113 ?!tO'}?  
6.6.6.1 针合成参数 114 ?t;,Nk`jx  
6.6.7 差分进化 114 YY>&R'3[  
6.6.8非局部细化 115 [ P*L`F  
6.6.8.1非局部细化参数 115 >0:=<RW  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 Qm[ )[M  
6.7.1  细化 116 4X:mb}(  
6.7.2  合成 117 u#ocx[  
6.8  参考文献 117 I_c?Ky8J_|  
7  导纳图及其他工具 118 ()Img.TIt  
7.1  简介 118 .dc|?$XV  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Qc Xw -  
7.2.1  四分之一波长规则 119 pm}_\_  
7.2.2  导纳图 120 qP/McH?  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 qe uc^+P;  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ?Rh[S  
7.5  斜入射导纳图 141 (6)|v S  
7.6  对称周期 141 b^~4k; <  
7.7  参考文献 142 t,~feW,  
8  典型的镀膜实例 143 ;%AY#b4m  
8.1  单层抗反射薄膜 145 [MAvU?;  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 REOWSs$'  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 meD83,L~N  
8.4  W-膜层 148 h?QGJ^#8  
8.5  V-膜层 149 Vvn~G.&)  
8.6  V-膜层高折射基底 150 `j6O  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Z4k'c+  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 uY&t9L8  
8.9  四层抗反射薄膜 153 w\JTMS$  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 t4zKI~cO  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 s_!F`[  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 :K*/  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 9KL)5_6 M  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 9*a"^  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 {ZUgyGE{  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 7U)w\A;~  
8.17  1/4波长堆栈 162 9 KU3)%U  
8.18  陷波滤波器 163 @ &GA0;q0t  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 cS",Bw\  
8.20  褶皱 165 . N5$s2t  
8.21  消偏振分光器1 169 1mv8[^pF  
8.22  消偏振分光器2 171 'V4B{n7 h  
8.23  消偏振立体分光器 172 *Fd(  
8.24  消偏振截止滤光片 173 wem hP8!gc  
8.25  立体偏振分束器1 174 ZyrVv\'  
8.26  立方偏振分束器2 177 q$B|a5a?  
8.27  相位延迟器 178 .A7ON1lc^C  
8.28  红外截止器 179 g|{Ru  
8.29  21层长波带通滤波器 180 W> $mU&ew[  
8.30  49层长波带通滤波器 181 K!tM "`a  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ,/-DAo~O  
8.32  47 红外截止器 183 \`?4PQ  
8.33  宽带通滤波器 184 /,9n1|FrG  
8.34  诱导透射滤波器 186 8J0#lu  
8.35  诱导透射滤波器2 188 6 Znt   
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 xQs._YY  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 n?NUnFA  
8.35  增益平坦滤波器 193 JF9r[%  
8.38  啁啾反射镜 1 196 =nUzBL%~  
8.39  啁啾反射镜2 198 p v*f]Yzx  
8.40  啁啾反射镜3 199 i7O8f^|  
8.41  带保护层的铝膜层 200 NHD`c)Q  
8.42  增加铝反射率膜 201 (7|!%IO.  
8.43  参考文献 202 N}\3UHtO  
9  多层膜 204 ]L!:/k,=S  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ^%RIz!}  
9.2  内部透过率 204 )#Id=c  
9.3 内部透射率数据 205 eq4Yc*|9  
9.4  实例 206 d?jzh 1  
9.5  实例2 210 `6Yk-5  
9.6  圆锥和带宽计算 212 z#srgyLt  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 TxmKmZ u  
10  光学薄膜的颜色 216 xU;Q ~(  
10.1  导言 216 !@f!4n.e|I  
10.2  色彩 216 7HQ|3rt  
10.3  主波长和纯度 220 *qw//W   
10.4  色相和纯度 221 ?_@Mg\Hc  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 jGKI|v4U(  
10.6 色差 226 z?g\w6  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 TE@bV9a  
10.8  颜色渲染指数 234 C <q@C!A  
10.9  色差计算 235 QzD8 jk#  
10.10  参考文献 236 +`~kt4W  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 l\t<_p/I)^  
11.1  短脉冲 238 iR{*X E   
11.2  群速度 239 dJ=z '?|%g  
11.3  群速度色散 241 `>\>'V<&  
11.4  啁啾(chirped) 245 ?`=r@  
11.5  光学薄膜—相变 245 QR[i9'`<  
11.6  群延迟和延迟色散 246 0`kaT ?>  
11.7  色度色散 246 Q|nGY:98  
11.8  色散补偿 249 )C#b83  
11.9  空间光线偏移 256 hdy N   
11.10  参考文献 258 Y2P%0  
12  公差与误差 260 ck#MpQ!An  
12.1  蒙特卡罗模型 260 aF:|MTC(~  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 u|M_O5^  
12.2.1  误差工具 267 Nr0}*8#j  
12.2.2  灵敏度工具 271 G>j4b}e  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 sEEyN3 N  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 yxL(mt8  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 rL<a^/b/=  
12.3  参考文献 276 1zJ)x?  
13  Runsheet 与Simulator 277 ;Km74!.e7  
13.1  原理介绍 277 qBcwM=R3P  
13.2  截止滤光片设计 277 yq\p%z$:  
14  光学常数提取 289 K|sx"u|?  
14.1  介绍 289 %j2ZQ/z  
14.2  电介质薄膜 289 4xzoA'Mb@  
14.3  n 和k 的提取工具 295 o_on/{qz  
14.4  基底的参数提取 302 "/$2oYNy+  
14.5  金属的参数提取 306 (@;=[5+  
14.6  不正确的模型 306 9*j$U$:'  
14.7  参考文献 311 K_ [B@( Xl  
15  反演工程 313 {K>}eO:K  
15.1  随机性和系统性 313 E@92hB4D"  
15.2  常见的系统性问题 314 H+F>#  
15.3  单层膜 314 Q*8=^[x  
15.4  多层膜 314 "/qm,$  
15.5  含义 319 @0U={qX  
15.6  反演工程实例 319 Eh/Z4pzT  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 s|o+ Im  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 2H2Yxe7?-  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 oTLpq:9J  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Xi81?F?[  
16.2  应力工具 335 y6N }R  
16.3  均匀性误差 339 KVZ-T1K  
16.3.1  圆锥工具 339 fFJu]  
16.3.2  波前问题 341 oS Apa  
16.4  参考文献 343 S_dM{.!Z(,  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 M Qlx&.>  
17.1  引言 345 vC>8:3Z aq  
17.2  操作数 345 ]U)Yg  
18  如何在Function中编写脚本 351 &BS*C} },  
18.1  简介 351 e)A-.SRiO$  
18.2  什么是脚本? 351 kNrN72qg  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 yZw5?{g@  
18.4  基础 352 6z ,nt  
18.4.1  Classes(类别) 352 WHKe\8zWq  
18.4.2  对象 352  mPS27z(  
18.4.3  信息(Messages) 352 F%^)oQT+c  
18.4.4  属性 352 QeNN*@ ='i  
18.4.5  方法 353 V"DilV$v  
18.4.6  变量声明 353 Uy5G,!  
18.5  创建对象 354 9@yi UX  
18.5.1  创建对象函数 355 vvmG46IgZ  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 #f-pkeaeq  
18.5.3 丢弃对象 356 d@e2+3<  
18.5.4  总结 356 P1IL ]  
18.6  脚本中的表格 357 ~3,k8C"pRq  
18.6.1  方法1 357 n,8bQP=&  
18.6.2  方法2 357 n>\2_$uDI  
18.7 2D Plots in Scripts 358 =&"x6F.`  
18.8 3D Plots in Scripts 359 9HBRWh6  
18.9  注释 360 B`?}jJa9*  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ]x:>!y  
18.11  一个更高级的脚本 362 X &s"}Hf  
18.12  <esc>键 364 EaUO>S  
18.13 包含文件 365 ds;c\x  
18.14  脚本被优化调用 366 g8L{xwx<  
18.15  脚本中的对话框 368 c01i !XS  
18.15.1  介绍 368 cyPJ( &;  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 32x[6"T  
18.15.3  输入框函数 370 ZYo?b"6A  
18.15.4  自定义对话框 371 ]@A}v\wa  
18.15.5  对话框编辑器 371 crl"Ec  
18.15.6  控制对话框 377 q!4eVg*  
18.15.7  更高级的对话框 380 ]mT2a8`c.r  
18.16 Types语句 384 .-4]FGg3  
18.17 打开文件 385 L. DD  
18.18 Bags 387 4I!g?Moh  
18.13  进一步研究 388 j`:D BO&)\  
19  vStack 389 2pmqP-pKd  
19.1  vStack基本原理 389 Y4Y~e p  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 8"yZS)09  
19.3  五棱镜 393 H?cJ'Q, 5  
19.4 光束距离 396 #b wGDF  
19.5 误差 399 :b`ywSp`  
19.6  二向分色棱镜 399 |*n B2  
19.7  偏振泄漏 404 "< })X.t  
19.8  波前误差—相位 405 ><i: P*ht  
19.9  其它计算参数 405 /_qW?LKG/  
20  报表生成器 406 NE4 }!I  
20.1  入门 406 9>9,   
20.2  指令(Instructions) 406 ]8/g[Ii  
20.3  页面布局指令 406 6<mlx'  
20.4  常见的参数图和三维图 407 vo>i36  
20.5  表格中的常见参数 408 = :BTv[lv  
20.6  迭代指令 408 }*?,&9/_)  
20.7  报表模版 408 X+kgx!u'y  
20.8  开始设计一个报表模版 409 \- 8S"  
21  一个新的project 413 > PK 6CR  
21.1  创建一个新Job 414 %00cC~}4  
21.2  默认设计 415 )=pa*  
21.3  薄膜设计 416 Q)Q1a;o  
21.4  误差的灵敏度计算 420 3@42u G>  
21.5  显色指数计算 422 / }Pj^^6A<  
21.6  电场分布 424 c<,R,D R  
后记 426 K$I`&M(  
y}1Pc*  
Y49&EQ  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 +t%1FkI\  
3 #"!Hg  
《Essential Macleod中文手册》
0Ua&_D"  
Vw]!Kb7tA  
目  录 bs0[ a 1/  
(0E<Fz V  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 U^8S@#1Q  
第1章 介绍 ..........................................................1 NG_7jZzXA9  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 hBi/lHu'  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 eZBC@y  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 72ZoN<c  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 K[yP{01  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 {mUt|m 7!  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 +{0v@6<(02  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 .$fSWlM;  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 cx]H8]ch7  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 u|LDN*#DW  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ohjl*dw  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 RsYMw3)G  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149  +;-ZU  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 (hEg&@  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 \FIM'EKzu!  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 td7Of(k'  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 yLPP6_59$  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 }bSDhMV;  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 bYO['ORr @  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 @C%6Wo4l3  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 UA|\D]xe  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 O?ODfO+>  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 1'N<ITb  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 v: veKA  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 yi:}UlO  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 XFYa+]B2q  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 e_"m\e#N  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 QQHQ3 \  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:广告合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
网站维护:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1