线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1393
时间地点 0f4 y"9m  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 :6n4i$  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 |5>Tf6 $(  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ,e'r 0  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 4s{=/,f  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
9>{fsy  
特邀专家介绍 'IU3Xu[-.  
Xl=RaV^X"  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 u<j;+-]8h  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 SX,$ $43  
课程概要 ]ty$/{hx'  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 C\{A|'l!x  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 0MpW!|E  
课程大纲 a>C;HO  
1. Essential Macleod软件介绍 dr)*.<_+a(  
1.1 介绍软件 (~Z&U  
1.2 创建一个简单的设计 olv&K(-ccI  
1.3 绘图和制表来表示性能 0 Rb3| te  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 }a OBQsnO  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Pk&=\i<  
1.6 特定设计的公式技术 hq"n RH  
1.7 交互式绘图 uV|F 3'jT  
2. 光学薄膜理论基础 F]RPM(!5O)  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 1<:5b%^c  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 (YJ2- X~  
3. 材料管理 23|JgKuA  
3.1 材料模型 f0eQq;D$K  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 f (C:J[;Z  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 5]mH.{$x$?  
3.4 基板光学常数的提取 1G A.c:  
4. 光学薄膜设计优化方法  /$93#$  
4.1 参考波长与g 7(5d$W  
4.2 四分之一规则 uj;iE 9  
4.3 导纳与导纳图 5NkF_&S_1  
4.4 斜入射光学导纳 y%|Ez  
4.5 光学薄膜设计的进展 L@RnLaoQ  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 xlcCL?qQj  
4.6.1 优化目标设置 !UT!PX)  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 46M=R-7=  
4.6.3 膜层锁定和链接 RrLj5Jq  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 `D3q!e  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 0aq{Y7sYU  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ]G&[P8hz B  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 .|"E:qTD  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 lB2 F09`  
5.5 如何在Function中编写脚本 i=5!taxu}E  
6. 光学薄膜系统案例 `]]m$  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 [-`s`g-  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Qraq{'3  
6.3 Stack应用范例说明 #++:`Z  
7. 薄膜性能分析 wo62R&ac  
7.1 电场分布 qAp <OJ  
7.2 公差与灵敏度分析 l`75BR  
7.3 反演工程 6x5Q*^w  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 K}q5,P(  
8. 真空技术 <=!t!_  
8.1 常用真空泵介绍 DmWa!5  
8.2 真空密封和检漏 +dCR$<e9r  
9. 薄膜制备技术 alxIc.[  
9.1 常见薄膜制备技术 5~>j98K  
10. 薄膜制备工艺 GQ85ykky  
10.1 薄膜制备工艺因素 b4$g$()  
10.2 薄膜均匀性修正技术 9k4z__Ke  
10.3 光学薄膜监控技术 ys)  
11. 激光薄膜 1z; !)pG.  
11.1 薄膜的损伤问题 ;Ym6ey0t  
11.2 激光薄膜的制备流程 -5os0G80  
11.3 激光薄膜的制备技术 i Ya)*,  
12. 光学薄膜特性测量 3p-SpUvp  
12.1 薄膜光谱测量 ^-Ks_4  
12.2 薄膜光学常数测量 oGXcu?ft  
12.3 薄膜应力测量 ui"`c%2n  
12.4 薄膜损伤测量 { zL4dJw  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 "1dpv \  
@<OsTF L  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 <}mA>c'k  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 A\"4[PXpQ  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 J>hjIN  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 H>\l E2  
1)e[F#|  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
\HMuV g'Q  
目录 M"-53|#:w\  
Preface 1 t& yuo E  
内容简介 2 %YuFw|wO  
目录 i C9Cl$yZ  
1  引言 1 9e;{o,r@  
2  光学薄膜基础 2 7wrRIeES  
2.1  一般规则 2 lBG5~<NT  
2.2  正交入射规则 3 G]-\$>5R  
2.3  斜入射规则 6 < A`srmS?  
2.4  精确计算 7 (e 2.Ru  
2.5  相干性 8 aTaL|&(  
2.6 参考文献 10 1mv5B t  
3  Essential Macleod的快速预览 10 <0/)v J- 9  
4  Essential Macleod的特点 32 !bW^G} <t  
4.1  容量和局限性 33 n>o=RQ2  
4.2  程序在哪里? 33 pBVzmQF  
4.3  数据文件 35 @q|c|X:I  
4.4  设计规则 35 ip|l3m$Mi  
4.5  材料数据库和资料库 37 $?&distJ  
4.5.1材料损失 38 (^ J2(  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 >'3nsR  
4.5.2 材料库 41 47 &p*=  
4.5.3导出材料数据 43 }Zp[f6^Q  
4.6  常用单位 43 O/l/$pe  
4.7  插值和外推法 46 N]I::  
4.8  材料数据的平滑 50 t,5AoK/NL9  
4.9 更多光学常数模型 54 =4/K#cQ  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ~:b5UIAk  
4.11 撤销和重做 56 M\08 7k  
4.12  设计文档 57 B .?@VF  
4.10.1  公式 58 9WL$3z'*  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 rB =c  
4.10.3  沉积密度 59 f 0/q{*  
4.10.4 平行和楔形介质 60 m*AiP]Qu  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 [xDn=)`{V  
4.10.4  性能 61 m7cG ]a~a  
4.10.5  保存设计和性能 64 |pT[ZT|}G  
4.10.6  默认设计 64 J32"Ytdo<  
4.11  图表 64 aqP"Y9l  
4.11.1  合并曲线图 67 . N5$s2t  
4.11.2  自适应绘制 68 1mv8[^pF  
4.11.3  动态绘图 68 'V4B{n7 h  
4.11.4  3D绘图 69 *Fd(  
4.12  导入和导出 73 wem hP8!gc  
4.12.1  剪贴板 73 1?y QjW,  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 #!j wn^yq  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 `$] ZT>&  
4.13  背景 77 w!l*!G  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 7] >z e  
4.15  生成Rugate 84 .|LY /q\A  
4.16  参考文献 91 p+F>+OQ*  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 c*V/2" 5  
5.1  Jobs 92 kI~; 'M  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 xf3/J{n3  
5.3  输入材料 94 GS,}]c=  
5.4  设计数据文件夹 95 _lw:lZM?  
5.5  默认设计 95 jrO{A3<E  
6  细化和合成 97 KhNE_. Z  
6.1  优化介绍 97 )tx!BJiZ[  
6.2  细化 (Refinement) 98 %hA0  
6.3  合成 (Synthesis) 100 i7O8f^|  
6.4  目标和评价函数 101 FQB6` M  
6.4.1  目标输入 102  :D  
6.4.2  目标 103 m>^#:JK  
6.4.3  特殊的评价函数 104 EE~DU;p;]  
6.5  层锁定和连接 104 !F)BTB7{<  
6.6  细化技术 104 Nf9$q| %!  
6.6.1  单纯形 105 9t{Iv({6p  
6.6.1.1 单纯形参数 106 _^NL{R/  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 KD8,a+GL  
6.6.2.1 Optimac参数 108 T:VFyby\w  
6.6.3  模拟退火算法 109 IoxdWQ4]A  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 b59NMGn  
6.6.4  共轭梯度 111 M~*o =t  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 10..<v7  
6.6.5  拟牛顿法 112 3W@ta1  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 M~djX} #\  
6.6.6  针合成 113 Nk$OTDwP  
6.6.6.1 针合成参数 114 82w=t  
6.6.7 差分进化 114 =R||c  
6.6.8非局部细化 115 Y'x+! &H  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Z:<6Ck  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 '8"$:y  
6.7.1  细化 116 l\t<_p/I)^  
6.7.2  合成 117 iR{*X E   
6.8  参考文献 117 6iJ\7  
7  导纳图及其他工具 118 w*IDL0#  
7.1  简介 118 ?`=r@  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 QR[i9'`<  
7.2.1  四分之一波长规则 119 0`kaT ?>  
7.2.2  导纳图 120 Q|nGY:98  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 )C#b83  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 _iZ9Ch\  
7.5  斜入射导纳图 141 y (=$z/  
7.6  对称周期 141 l#!6 tw+e?  
7.7  参考文献 142 ),4c b  
8  典型的镀膜实例 143 K`twbTU  
8.1  单层抗反射薄膜 145 4w(#`'I>  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 /\UFJ  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 2!g7F`/B  
8.4  W-膜层 148 \t%rIr  
8.5  V-膜层 149 4 JDk ()  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ,I8[tiR"b  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 "' ]|o~B  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 f]]UNS$AYQ  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Et+WLQ6)  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 (b;*8  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 |Fp+9U  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 tF~D!t@  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 nY50dFA,  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 P^& =L&U  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 n_MY69W  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 "DU1k6XC  
8.17  1/4波长堆栈 162 rCgoU xW`  
8.18  陷波滤波器 163 NT<vs"<B  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 /nVGr]t_pj  
8.20  褶皱 165 b&E9xD/;r  
8.21  消偏振分光器1 169 45$F cK  
8.22  消偏振分光器2 171 - DE?L,9X9  
8.23  消偏振立体分光器 172 Gil mJ2<  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ;TTH  
8.25  立体偏振分束器1 174 _Xzl=j9[  
8.26  立方偏振分束器2 177 <~R{U> zO  
8.27  相位延迟器 178 ad,pHJ`  
8.28  红外截止器 179 f,'9Bj. ~  
8.29  21层长波带通滤波器 180 >m4Q*a4M  
8.30  49层长波带通滤波器 181 clO9l=g  
8.31  55层短波带通滤波器 182 -5sKJt]+i  
8.32  47 红外截止器 183 b*W01ist  
8.33  宽带通滤波器 184 IO}53zn<l  
8.34  诱导透射滤波器 186 T6fm`uL&L  
8.35  诱导透射滤波器2 188 }q D0-  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 aXRf6:\%  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 } +ZZO0  
8.35  增益平坦滤波器 193 {<y.G1<.  
8.38  啁啾反射镜 1 196 < r7s,][&  
8.39  啁啾反射镜2 198 (bo-JOOdY(  
8.40  啁啾反射镜3 199 g]E>e v{`  
8.41  带保护层的铝膜层 200 H&E3RU> `  
8.42  增加铝反射率膜 201 #Zt(g(T  
8.43  参考文献 202 B4 +A  
9  多层膜 204 _0EKE  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 yHjuT+/wM,  
9.2  内部透过率 204 |.Vs(0O  
9.3 内部透射率数据 205 vvmG46IgZ  
9.4  实例 206  mB<*we  
9.5  实例2 210 (hFyp}jkk  
9.6  圆锥和带宽计算 212 |h* rkLY  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 {'$+?V"&  
10  光学薄膜的颜色 216 .}ePm(  
10.1  导言 216 XAw0Nn   
10.2  色彩 216 O 6Mxp -  
10.3  主波长和纯度 220 kYnp$8  
10.4  色相和纯度 221 $ v0beN6MG  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 }`^D O Ar  
10.6 色差 226 3T84f[CFJ  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 6&s" "J)3  
10.8  颜色渲染指数 234 #d;/Me  
10.9  色差计算 235 /YHAU5N/}  
10.10  参考文献 236 1%`Nu ]D  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 s{ dgUX  
11.1  短脉冲 238 iTIYq0u|#R  
11.2  群速度 239 {dXmSuO  
11.3  群速度色散 241 lNba[;_  
11.4  啁啾(chirped) 245 R8C#D B  
11.5  光学薄膜—相变 245 xnvG5  
11.6  群延迟和延迟色散 246 pRH'>}rtuH  
11.7  色度色散 246 $~r_&1  
11.8  色散补偿 249 dBNx2T}_0  
11.9  空间光线偏移 256 S\R5SRE  
11.10  参考文献 258 3:"w"0[K3  
12  公差与误差 260 C q)Cwc[H  
12.1  蒙特卡罗模型 260 `Y_G*b.Rm  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Qs\*r@6?  
12.2.1  误差工具 267 8~ w P?  
12.2.2  灵敏度工具 271 B&>z&!}  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 gi #dSd1\&  
12.2.2.2 灵敏度分布 275  KGJ *h  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 "< })X.t  
12.3  参考文献 276 ><i: P*ht  
13  Runsheet 与Simulator 277 (d>}Fp  
13.1  原理介绍 277 NE4 }!I  
13.2  截止滤光片设计 277 9>9,   
14  光学常数提取 289 ]8/g[Ii  
14.1  介绍 289 d3"QCl  
14.2  电介质薄膜 289 7(l>Ck3B#  
14.3  n 和k 的提取工具 295 TX).*%f [r  
14.4  基底的参数提取 302 L%;[tu(*  
14.5  金属的参数提取 306 E{BX $R_8  
14.6  不正确的模型 306 dCpDA a3  
14.7  参考文献 311 0)rayzv  
15  反演工程 313 8F9x2CM-[C  
15.1  随机性和系统性 313 qT~a`ou:  
15.2  常见的系统性问题 314 6_g:2=6S  
15.3  单层膜 314 #7['M;_  
15.4  多层膜 314 MFQyB+Z  
15.5  含义 319 b} FhC"'i  
15.6  反演工程实例 319 2{<o1x,Ym  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 'Y0h w  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 -car>hQq  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ?azcWf z0  
16.1  光学性质的热致偏移 329 qP BOt;N  
16.2  应力工具 335 c8LMvL  
16.3  均匀性误差 339 <b:xyHS  
16.3.1  圆锥工具 339 7~Z(dTdSG  
16.3.2  波前问题 341 >R}G  
16.4  参考文献 343 mgMa)yc!dp  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 A DVUx}  
17.1  引言 345 h43py8v  
17.2  操作数 345 |y pX O3  
18  如何在Function中编写脚本 351 IG&twJR  
18.1  简介 351 0.)q5B`  
18.2  什么是脚本? 351 |k^C-  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 >&ENrvaJ  
18.4  基础 352 HD'adj_,  
18.4.1  Classes(类别) 352 JOH\K0=e  
18.4.2  对象 352 0D Lw  
18.4.3  信息(Messages) 352 RM;Uq >l  
18.4.4  属性 352 P$Q,t2$A  
18.4.5  方法 353 25 cJA4  
18.4.6  变量声明 353 :b] \*  
18.5  创建对象 354 \/64Xv3L0  
18.5.1  创建对象函数 355 8u%,5GV>Xr  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Y#QXvo%  
18.5.3 丢弃对象 356 mLx=Zes:.  
18.5.4  总结 356 QBh*x/J  
18.6  脚本中的表格 357 #\ uB!;Q  
18.6.1  方法1 357 [bw1!X3  
18.6.2  方法2 357 (eAz nTU  
18.7 2D Plots in Scripts 358 b gxk:$E  
18.8 3D Plots in Scripts 359 #Vu;R5GZ}  
18.9  注释 360 P\WFm   
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 \SoT^PW  
18.11  一个更高级的脚本 362 nxB[T o*P  
18.12  <esc>键 364 D|*yeS4>  
18.13 包含文件 365 HX)]@qL  
18.14  脚本被优化调用 366 zhJ0to[%?  
18.15  脚本中的对话框 368 70'gVCb  
18.15.1  介绍 368 a@J/[$5  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 xS>vmnW  
18.15.3  输入框函数 370 sF>O=F-7  
18.15.4  自定义对话框 371 a?yU;IKJ  
18.15.5  对话框编辑器 371 c8Q}m(bhWI  
18.15.6  控制对话框 377 w3z'ZCcr;"  
18.15.7  更高级的对话框 380 ,Js-'vX  
18.16 Types语句 384 M4D @G  
18.17 打开文件 385 '4_c;](W  
18.18 Bags 387 P aeq  
18.13  进一步研究 388 \KzH5?  
19  vStack 389 cK >^8T^  
19.1  vStack基本原理 389 &>B"/z  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 I\x9xJ4x  
19.3  五棱镜 393 ,`02fMOLc  
19.4 光束距离 396 d14n>  
19.5 误差 399 ALV(fv$cD  
19.6  二向分色棱镜 399 3H0B+F2XQ  
19.7  偏振泄漏 404 no W]E}nN  
19.8  波前误差—相位 405 T:@7EL  
19.9  其它计算参数 405 :Nv7Wt!  
20  报表生成器 406 hNhEA $X5  
20.1  入门 406 ,<Z,-0S  
20.2  指令(Instructions) 406 M9""(`U  
20.3  页面布局指令 406 ) P>/g*  
20.4  常见的参数图和三维图 407 \A,zwdt P  
20.5  表格中的常见参数 408 /&<V5?1|  
20.6  迭代指令 408 lZuH:AH  
20.7  报表模版 408 o.kDOqd  
20.8  开始设计一个报表模版 409 m[KmXPFht1  
21  一个新的project 413 PZ`11#bbm  
21.1  创建一个新Job 414 Q4hY\\Hi  
21.2  默认设计 415 *c [^/  
21.3  薄膜设计 416 ma+AFCi  
21.4  误差的灵敏度计算 420 cdh0b7tj n  
21.5  显色指数计算 422 d#]hqy  
21.6  电场分布 424 =JW-EQ6[T  
后记 426 Gw\..O  
)UM^#<-  
5A*&!1T  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 8Y.9%@  
2aX*|DGpw  
《Essential Macleod中文手册》
dJ m9''T')  
`CH,QT7e  
目  录 ZZ!">AN`^  
%T\hL\L?  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 (wM` LE(Ks  
第1章 介绍 ..........................................................1 yk)]aqic  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 QF\nf_X  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 (S?Y3l|  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 rv(?%h`  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 P!E2.K,  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 F-,chp  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62  u\L}B!  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 XC)9aC@s  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ,!b<SQ5M  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 pITF%J@_]  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 <JH,B91  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 z-606g  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 w $6Z}M1d  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 3,Yr%`/5'  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 n\l?+)S *  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 |[IyqWG9  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Y55u -9|N  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 P|bow+4  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 QJRnpN/  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 .WqqP  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 >*8V]{f9  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 )\=xPfs  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 >e>3:~&2  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 =I546($  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 kuy?n-1g  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ZQ_6I}i")  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 T5."3i  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 L|T?,^  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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