招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 `\P:rn95;  
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以下是本次培训具体详情： 49Ue2=PP#  
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✦ 第一天 C5RDP~au  
光学和光线追迹的入门概念 E(U}$Zey  
ASAP 简介 (*fsv g~  
ASAP 新版本功能 k*c:%vC!  
程序检查和3D 查看器 1,`x1dcO!A  
ASAP 数据输入 @#H{nj Z  
单透镜辐射计示例 L{fP_DIa  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 .Na>BR\F  
照明系统示例 3]Lk}0atpL  
基本脚本操作 Ef`LBAfOO  
几何规范和通用几何设置 0_D~n0rq,v  
光学特性 X7c*T /  
光源设置 v V^GIWK  
光线追迹概念 3Yj}ra}  
系统分析与评价 X0Oq lAw  
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✦ 第二天 kdYl>M  
脚本和 ASAP 编辑器 RLHe;-*b]I  
几何可视化与验证 F5<{-{Ky  
显示模式 V!U[N.&$  
辐射强度分布 >;3c;nf  
光源切趾 )#ujF~w>  
光线分裂和接收属性 i
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ASAP 宏语言 }C&c=3V  
ASAP 优化功能 0~1P&Qs<  
散射模型和重点采样 S8)awTA9  
光线路径 ^&rbI,D  
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✦ 第三天 ( L6`_)  
杂散光术语 %-'U9e KN  
辐射度学基础 d|NNIf  
杂散光成因 .yP 3}Nl  
杂散光影响、杂散光控制 KnFbRhu[  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 5~"=Fm<uD  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 6kuSkd$.  
练习 1- 找关键和被照表面 er#=xqUY  
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✦ 第四天 zn~m;0Xi  
散光特性、散射模型 tQ}gBE63  
练习 2 - 散射模型拟合 YaT07X
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光学表面污染 M1M]]fT0ME  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 /(0d{  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 y d$37G|n  
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✦ 第五天 =
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衍射杂散光、PST 分析 Bm7GU
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练习 4 - PST 分析 Ji
[w; [qL  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 FTenXJ/c  
练习 5 - 鬼像分析 ^,5.vfES  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 k1H0hDE  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 ZF/KV\Ag)  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; ~Iu09t|a  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; t}FMBGo[  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 J?<L8;$s
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 ] 6gu  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) wm8x1+P  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 >D;hT*3  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; YC_^jRB8n  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; ckk[n  
3.食宿自理。 ES2qX]I  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 D.6dPzu`  
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