招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 X6j:TF  
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以下是本次培训具体详情： 2|&SG3e+(I  
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✦ 第一天 o?^Rw*u0/  
光学和光线追迹的入门概念 *;F:6p4_  
ASAP 简介 0]zMb^wo  
ASAP 新版本功能 5z:#Bl
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程序检查和3D 查看器 o+Mc%O Z  
ASAP 数据输入 V{fG~19  
单透镜辐射计示例 W![~"7?  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 0es\ j6c  
照明系统示例 HM#|&_gV  
基本脚本操作 tns4e\  
几何规范和通用几何设置 {&a6<y#-  
光学特性 ZSr!L@S  
光源设置 ,b:~
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光线追迹概念 )iJv?Y\]  
系统分析与评价 xW7[VTXc^  
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✦ 第二天 ;0`IFtz  
脚本和 ASAP 编辑器 y#
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几何可视化与验证 ZZ T 9t#~  
显示模式 dkeMiLm  
辐射强度分布 q7I!wD9Cff  
光源切趾 |7Qe{  
光线分裂和接收属性 !L<z(dV|(  
ASAP 宏语言 5vLA)Al3  
ASAP 优化功能 Qkw?QV-`k  
散射模型和重点采样 L2wX?NA  
光线路径 'dqecmB  
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✦ 第三天 =MvB9gx@r  
杂散光术语 5hh6;)  
辐射度学基础 )Cat$)I#,  
杂散光成因 =\mJ5v"hA  
杂散光影响、杂散光控制 $R+rB;=a
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杂散光分析、评价方法、分析软件对比 d%RH]j4  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 [7NO !^  
练习 1- 找关键和被照表面 $<"I*l@  
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✦ 第四天 Z:^ S-h  
散光特性、散射模型 ~SmFDg$/m  
练习 2 - 散射模型拟合 0{I-x^FI  
光学表面污染 Xq<_r^  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 +~=j3U  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 R&$fWV;'  
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✦ 第五天 -wf>N:  
衍射杂散光、PST 分析 m4yWhUi(o  
练习 4 - PST 分析 9Q*:II  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 m77!i>V)  
练习 5 - 鬼像分析 G(ZEP.h`u  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 L$rr:^J  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 T%;NW|mH&  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; yb)qg]2  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; PIdGis5G  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 !Rgj'{  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 t<j_` %`8  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) 4Xww(5?3
  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 TQPrOs?  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; &|#,Bsk"@  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; @= =)  
3.食宿自理。 PS=q):R|  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 ;lSsy  
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