招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 :FX'[7;p  
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以下是本次培训具体详情： 3q~":bpAp  
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✦ 第一天 yt/20a  
光学和光线追迹的入门概念 '1>g=Ic0  
ASAP 简介 !ol hZ  
ASAP 新版本功能 `jD8(}_  
程序检查和3D 查看器 @A~B ,  
ASAP 数据输入 KKx&UKjV  
单透镜辐射计示例 Uv @!i0W  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 e.)yV'%L  
照明系统示例 baUEsg[~V  
基本脚本操作 ?$"x^=te7  
几何规范和通用几何设置 Hrd5p+j  
光学特性 |'V<>v.v  
光源设置 wQo6!
H"K  
光线追迹概念 VfL]O8P>  
系统分析与评价 Q{J"`d2  
T[Z <bW~0  
✦ 第二天 N>&{Wl'y\  
脚本和 ASAP 编辑器 VYl_U?D
 
几何可视化与验证 ?G~/{m.  
显示模式 ZYwBw:y}y  
辐射强度分布 h/0<:eZ*  
光源切趾 .c=$ bQ>^  
光线分裂和接收属性 WL IDw@fv  
ASAP 宏语言 xh+AZ3  
ASAP 优化功能 Lu8%qcC  
散射模型和重点采样 UA69_E{JCH  
光线路径  |0C|$2  
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✦ 第三天 
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杂散光术语 x*loACee.  
辐射度学基础 xWenKY,  
杂散光成因 .NV)hg)|cZ  
杂散光影响、杂散光控制 }<5\O*kX4  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 7':5  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 *@bg/S K%  
练习 1- 找关键和被照表面 /?.r!Cp  
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✦ 第四天 `'G),{ j  
散光特性、散射模型 haEZp6Z  
练习 2 - 散射模型拟合 d+YVyw.z  
光学表面污染 )RAv[U1  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 )E[ Q  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 ??$i*  
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✦ 第五天 fw(j6:p  
衍射杂散光、PST 分析 OUBgBr  
练习 4 - PST 分析 xoz*UA
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鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 %mB!|'K%  
练习 5 - 鬼像分析 Azq#}Oe)u  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 J]=aI>Ow  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 D*d 3w  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; T9<H%iF  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; JL]k:i^`A  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 dFI.`pB  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 ~u?x{[  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) :uT fhr  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。
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1.提供服务性发票，项目“培训费”; %~B)~|h  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; Q8DQ .C  
3.食宿自理。 eBSn1n  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 WoClT
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