招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 5gH'CzU?  
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以下是本次培训具体详情： :my@Oxx4@  
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✦ 第一天 Su/}OS\R  
光学和光线追迹的入门概念 .q_SA-!w>  
ASAP 简介 fhbILg  
ASAP 新版本功能 UVaz,bXla  
程序检查和3D 查看器 !)h?2#V8;  
ASAP 数据输入 9<6Hs3|.!  
单透镜辐射计示例 *kKdL  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 AW
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照明系统示例 Mp)|5<%  
基本脚本操作 nQM7@"R  
几何规范和通用几何设置 n8 e4`-cY  
光学特性 ~R\U1XXyUY  
光源设置 g@IYD  
光线追迹概念 o>oZh1/\T,  
系统分析与评价 @ )m9#F  
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✦ 第二天 O>sE~~g]?  
脚本和 ASAP 编辑器 V9<CeTl'  
几何可视化与验证 {uji7
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显示模式 kJ:zMVN  
辐射强度分布 Q2K)Nl >_  
光源切趾 'w!8`LPu  
光线分裂和接收属性 6jo+i[h  
ASAP 宏语言 wVY;)1?  
ASAP 优化功能 ts~$'^K[-  
散射模型和重点采样 "RMvWuNt  
光线路径 W.VyH|?  
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✦ 第三天  =[G)  
杂散光术语 Ehf3L |9  
辐射度学基础 N6*v!M+  
杂散光成因 +Y|HO[  
杂散光影响、杂散光控制 )uIHonXU  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 W(&9S[2  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 vV+>JM6<K  
练习 1- 找关键和被照表面 &yQM8J~  

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✦ 第四天 
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散光特性、散射模型 QW1d&Gb.(  
练习 2 - 散射模型拟合 5,1q%  
光学表面污染  gC}D0l[  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 *) ?Fo  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 ~\D H[Mt  
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✦ 第五天 JdW:%,sv  
衍射杂散光、PST 分析 FWzf8*^  
练习 4 - PST 分析 l\Or.I7n  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 Z,bvD'u  
练习 5 - 鬼像分析 %xWscA%^u  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 %*wOJx  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 zO07X*Bw  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; Q&Ox\*sMK  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; 9p5{,9.3*  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 9AROvq|#  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 Y8yRQzu  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) LYY|8)Nj2"  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 Q9 *N/2+  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; `X7ns?  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; )!``P?3?  
3.食宿自理。 (W l5F  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 uY;2tZldf=  
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