《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 .X](B~\!  
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第1章光刻工艺概述 &ra2(S45  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 WZ6'"Cz`  
1.2光刻技术的发展史_3 \WPy9kRU  
1.3投影光刻机的空间成像_5 !+V."*]l  
1.4光刻胶工艺_10 dzRnI*  
1.5光刻工艺特性_12 ]VcuD05"C  
1.6小结_18 ?[!_f$50]P  
参考文献_18 =_=0l+\}  
o5;|14O  
第2章投影光刻的成像原理 3'zL,WW  
2.1投影光刻机_20 jb83Y>  
2.2成像理论_21 &WJ;s*  
2.2.1傅里叶光学描述_21 ym;I(TC+  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ~oX`Gih  
2.2.3其他成像仿真方法_30 j^)=<+Q;=  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 C1w6[f1+  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 #DA,*  
2.3.2影响_36 Ov~vK\  
2.4小结_39 H.]p\UY9  
参考文献_39 S|  
fJK;[*&Y  
第3章光刻胶 -,qGEJ  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 !IC@^kkh{  
3.1.1光刻胶的分类_42 ql I1<Jx  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 9WT{~PGj  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 sUk&NM%>  
3.1.4现象学模型_48 DCSmEy`.  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 cXIuGvE&=  
3.2.1技术方面_50 95.s,'0  
3.2.2曝光_51 k[a5D/b  
3.2.3曝光后烘焙_54 ?`3G5at)9f  
3.2.4化学显影_58 Z\S'HNU  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 _Rk>yJD7s  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 RV>n Op}R  
3.5小结_68 PnJA'@x  
参考文献_69 *],=!  
9/PX~j9O?  
第4章光学分辨率增强技术 *(o^w'5  
4.1离轴照明_74 xzb{g,c   
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 xMA2S*%ca  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 "P!zu(h4  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 0~Iq9}{*P  
4.2光学邻近效应校正_81 IXU~&5&J  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 gJg%3K~,  
4.2.2线端缩短补偿_84 c|F26$rv  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 |]'gd)%S\  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 3^`.bm4 ^  
4.3相移掩模_89 A",Xn/d  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 !|-:"hE1h  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 q@d6P~[-gj  
4.4光瞳滤波_100 SD.c9  
4.5光源掩模协同优化_102 M5`wfF,j  
4.6多重曝光技术_106 vpP8'f.  
4.7小结_109 /rnP/X)T  
参考文献_110 CA3`Ee+rD  
@5\/L6SRfL  
第5章材料驱动的分辨率增强 4`p[t;q  
5.1分辨率极限的回顾_115 1Ba.'~:  
5.2非线性双重曝光_119 Qy\Koo  
5.2.1双光子吸收材料_119 jTN!\RH9NF  
5.2.2光阈值材料_120 r?R!/`f  
5.2.3可逆对比增强材料_121 xz){RkVzP  
5.3双重和多重成形技术_124 7,ffY/  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 fvM|Jb  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 G\Q0{4w8  
5.3.3自对准双重成形_126 0c]3 
,#  
5.3.4双色调显影_127 eXCH*vZY  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 p}lFV,V  
5.4定向自组装_129 18JAca8Zs  
5.5薄膜成像技术_133 x<>In"QV
 
5.6小结_135 E|ZLz~  
参考文献_135 ePY69!pO5e  
J72YZrc  
第6章极紫外光刻 'cf8VD  
6.1EUV光源_141 KTjf2/  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 p} i5z_tS  
6.3EUV掩模_146 !po29w:S  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 )5l9!1j  
6.5EUV光刻胶_156 NplkhgSj  
6.6EUV掩模缺陷_157 bEl)/z*gy/  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 ?q hme   
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 (\ Gs7  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 fMIKA
72>{  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 Q);^gV  
6.8小结_167 22"/|S  
参考文献_168 so }Kb3n  
[(/IV+  
第7章投影成像以外的光刻技术 <m+$@:cO  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ]`}R,'P  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 &&($LnyA]  
7.1.2技术实现_179 j~`rc2n%  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 q/^&si  
7.2无掩模光刻_186 <rFKJ^B  
7.2.1干涉光刻_186 pYaq1_<+  
7.2.2激光直写光刻_189 ntEf-x<  
7.3无衍射限制的光刻_194 '>"-e'1m(  
7.3.1近场光刻_195 ^r0mx{i&  
7.3.2利用光学非线性_198 ccJ!N  
7.4三维光刻_203 +)-`$N  
7.4.1灰度光刻_203 AV^Sla7|_  
7.4.2三维干涉光刻_205 %yP*Vp,W  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 e X q}0-*f  
7.5浅谈无光刻印_209 VU 8~hF  
7.6小结_210 or..e  
参考文献_211 3bPF+(`J  
Zv)x-48  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 "jEf$]  
8.1实际投影系统中的波像差_220 $.-\2;U  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 psZ #^@>mJ  
8.1.2波前倾斜_226 nK5FPFz8  
8.1.3离焦像差_226 Oj^qh+r  
8.1.4像散_228 VJ$UpqVm  
8.1.5彗差_229 :s`\j
J  
8.1.6球差_231 |HMpVT-;j  
8.1.7三叶像差_233 xk$U+8K  
8.1.8泽尼克像差小结_233 63n<4VSH  
8.2杂散光_234 s6J`i&uu  
8.2.1恒定杂散光模型_235 B&RgUIrFoY  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 #OVf2
"  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 #iAEcC0k5  
8.3.1掩模偏振效应_240 V+2C!)f(  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 5rx;?yvn  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 B M$+r(#t  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 W
a+q[E  
8.3.5偏振照明_248 M;K%=l$NG  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 GV T[)jS  
8.5小结_250 smN|r  
参考文献_251 qg#|1J6e  
c})f&Z@<  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 I?!7]Sn$  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ]~1Xx:X-  
9.1.1时域有限差分法_257 {`M 'ruy.%  
9.1.2波导法_260 D!d1%hac  
9.2掩模形貌效应_262 26Jb{o9Z<  
9.2.1掩模衍射分析_263 _M;M-hk/  
9.2.2斜入射效应_266 -r!sY+Z>  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 bI"_hvcFp  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 >2w^dI2  
9.2.5各种三维掩模模型_277 a2'f#[as
 
9.3晶圆形貌效应_279 ,aBo
p#  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 o
)pso\;  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 3.?kxac  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282
pZg}7F{$  
9.4小结_283 a{FCg%vD)  
参考文献_283 $06[D91'  
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第10章先进光刻中的随机效应 1SGLA"r  
10.1随机变量和过程_288 oX #WT  
10.2现象_291 K7CrRT3>6  
10.3建模方法_294 V"`t*m$  
10.4依存性及其影响_297 3/i_?G  
10.5小结_299 *P.Dbb8vn  
参考文献_299 ?|;q=p`t-  
专业词汇中英文对照表 }[gk9uM_7  
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