《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 O%>FKU>(?  
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第1章光刻工艺概述 AP2BND9  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 )|Ho"VEmg  
1.2光刻技术的发展史_3 MFHc>O DA  
1.3投影光刻机的空间成像_5 SWrt4G  
1.4光刻胶工艺_10 :~% zX*  
1.5光刻工艺特性_12 #S*@RKSE|7  
1.6小结_18 4X()D {uR  
参考文献_18 "EE=j$
8u+  
uTX0lu;  
第2章投影光刻的成像原理 m^9[k,;K  
2.1投影光刻机_20 tH}$j  
2.2成像理论_21 7jf%-X  
2.2.1傅里叶光学描述_21 A3!xYG=+  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ssWSY(j]  
2.2.3其他成像仿真方法_30 B?-~f^*,jG  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 T##_?=22I  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 _(TYR
*  
2.3.2影响_36 t$*V*gK{  
2.4小结_39 ^T{ww=/v  
参考文献_39 <+/:}S4w)  
"%,KZI  
第3章光刻胶 [h3y8O  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 JyfWy  
3.1.1光刻胶的分类_42 a9w1Z4  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ^EG@tB $<  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 OE"r=is  
3.1.4现象学模型_48 !Q0aKkMfL  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 ,^>WCG  
3.2.1技术方面_50 1Ar6hA  
3.2.2曝光_51 ,)CRozC\}K  
3.2.3曝光后烘焙_54 z1WF@Ej  
3.2.4化学显影_58 Z,? T`[4B  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 RyJN=;5p  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 s-z*Lq*  
3.5小结_68 7wm9S4+|  
参考文献_69 gLH#UwfJ  
1l~(J:DT  
第4章光学分辨率增强技术 c'678!r9 P  
4.1离轴照明_74 .ZB/!WiF  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 tR;? o,T  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 L'*P;z7<  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 .&Vyo<9Ck  
4.2光学邻近效应校正_81 l5}b.B^w  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 %U4w@jp  
4.2.2线端缩短补偿_84 x;G~c5  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 '%D$|)  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 ]Q%|69H}B  
4.3相移掩模_89 UB4M=R|  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 T9c=As_EM  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 6*cY[R|q!  
4.4光瞳滤波_100 c T[.T#I  
4.5光源掩模协同优化_102 g#=~A&4q  
4.6多重曝光技术_106 f a9n6uT  
4.7小结_109 a9OJC4\  
参考文献_110 EK-Qa<[|  
mJ>@Dh3>G  
第5章材料驱动的分辨率增强 K)h\X~s  
5.1分辨率极限的回顾_115 o`!7~n  
5.2非线性双重曝光_119 <MPoDf?h  
5.2.1双光子吸收材料_119 T.=du$  
5.2.2光阈值材料_120 kH)JBx.  
5.2.3可逆对比增强材料_121 ~HR/FGe?N  
5.3双重和多重成形技术_124 <IX)D `mf  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 %?4G^f  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 LEUD6 M+~t  
5.3.3自对准双重成形_126 G?y'<+Awt  
5.3.4双色调显影_127 9O%4x"*PO  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 q$;'Fy%oy  
5.4定向自组装_129 _>/T<Db  
5.5薄膜成像技术_133 V?k"BU  
5.6小结_135 mNvK|bTUT  
参考文献_135 P p}N-me>_  
05|,-S  
第6章极紫外光刻 ~+y0UEtq7  
6.1EUV光源_141 iz2I4 _N  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 WF6'mg^^?  
6.3EUV掩模_146 ATeXOe
 
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 }x[d]fcC  
6.5EUV光刻胶_156 s1[_Pk;!  
6.6EUV掩模缺陷_157 .45XS>=z#  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 l
Z3o3"  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 #$vef  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 U2tsHm.O  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 $J~~.PUXQ  
6.8小结_167 H& #Od?  
参考文献_168 5>XrNc91  
O\5*p=v  
第7章投影成像以外的光刻技术 "hRY+{m  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 J.`z;0]op  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 3wS{@'  
7.1.2技术实现_179 F4m Q#YlrS  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 fs]9HK/@\  
7.2无掩模光刻_186 JJvf!]  
7.2.1干涉光刻_186 sFEkxZi<  
7.2.2激光直写光刻_189 cI)XXb4  
7.3无衍射限制的光刻_194 [\hk_(}  
7.3.1近场光刻_195 qM`XF32A$  
7.3.2利用光学非线性_198 $RQ7rL3g{  
7.4三维光刻_203 u5f+%!p  
7.4.1灰度光刻_203 ;w(]z  
7.4.2三维干涉光刻_205 oCLs"L-r{  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 =5P_xQx  
7.5浅谈无光刻印_209 QK5y%bTSA  
7.6小结_210 ."m6zq  
参考文献_211 !;SpQ28  
eJMD8#  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 I#Q Tmg.  
8.1实际投影系统中的波像差_220 LhZWK^!{S  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 &`a$n2ycy  
8.1.2波前倾斜_226 h(,SAY_  
8.1.3离焦像差_226 ;Yrg4/
Ipa  
8.1.4像散_228 n2bL-  
8.1.5彗差_229 2a;
vLc4  
8.1.6球差_231 DPfP)J:~  
8.1.7三叶像差_233 \?,'i/c-  
8.1.8泽尼克像差小结_233 W{OlJRX8  
8.2杂散光_234 }2Lh'0 xY  
8.2.1恒定杂散光模型_235 XpzdvR1  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 bQ-5uFe~$B  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 5Wj+ey^^w  
8.3.1掩模偏振效应_240 $+IE`(Ckf  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 ]E66'  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 8Ek<J+&|I  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 9=&e5Oq}  
8.3.5偏振照明_248 w5l:^^zF(  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 BoB2q(  
8.5小结_250 k
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参考文献_251 d"nz/$  
b#-5b%ON  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 i0uBb%GMT  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ^R.#n[-r2  
9.1.1时域有限差分法_257 3,j)PKf ;  
9.1.2波导法_260 0lNVQxG  
9.2掩模形貌效应_262 U,C L*qTF  
9.2.1掩模衍射分析_263 c=l 3Sz?  
9.2.2斜入射效应_266 L!E/ )#{  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 zCD?5*7  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 a z 7Vy-  
9.2.5各种三维掩模模型_277 p6[a"~y  
9.3晶圆形貌效应_279 pb`F_->uq  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 eI?<*  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 *b?C%a9  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 { p {a0*$5  
9.4小结_283 *LeFI%  
参考文献_283 (Q !4\Gy  
9`\hG%F  
第10章先进光刻中的随机效应 >_U)=q  
10.1随机变量和过程_288 4-[L^1%S[  
10.2现象_291 [~bfM6Jw  
10.3建模方法_294 |KF X0*70  
10.4依存性及其影响_297 vq*N  
10.5小结_299 SU"-%}~O#,  
参考文献_299 m~~_iz_*  
专业词汇中英文对照表 N<+ ><>9  
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