《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 .IsOU  
pI1g<pe  
1*f/Y9 Z  
!Ld[`d.|R!  
^e]h\G  
第1章光刻工艺概述 E_0i9  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 y,6KU$G  
1.2光刻技术的发展史_3 NOFH  
1.3投影光刻机的空间成像_5 Q$5%9  
1.4光刻胶工艺_10 N+vsQ!Qz  
1.5光刻工艺特性_12 jw)c|%r>  
1.6小结_18 CropHB/t  
参考文献_18 xg4wtfAbS  
./<giTR:p  
第2章投影光刻的成像原理 {5 3#Xd  
2.1投影光刻机_20 EgRuB@lw76  
2.2成像理论_21 T[-Tqi NT  
2.2.1傅里叶光学描述_21 \0)2 u[7  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 F5+!Gb En  
2.2.3其他成像仿真方法_30 /Ri-iC >  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 ($!g= 7  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 dFZh1*1  
2.3.2影响_36 9R:?vk4  
2.4小结_39 )>N=B2P  
参考文献_39 Z ?ATWCa  
(rQ)0g@  
第3章光刻胶 >ktekO:H  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 Icx)+Mq  
3.1.1光刻胶的分类_42 (e32oP"  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 'X
~CrgQl  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 N_p^DP  
3.1.4现象学模型_48 Gw#z:gX2  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 S-79
uo  
3.2.1技术方面_50 Pa{b
kr  
3.2.2曝光_51 FX+^S?x.  
3.2.3曝光后烘焙_54 `a8&7J(  
3.2.4化学显影_58 {D
X1/49  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 G{.A5{  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 AQPzId*z  
3.5小结_68 b(A;mt#N  
参考文献_69 GPAz#0p  
p]6/1&t="  
第4章光学分辨率增强技术 F~3 &@TWi  
4.1离轴照明_74 kZQ$Iv+^(  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 rUmnv%qTS  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 ,%KMi-w]q,  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 R7Ns5s3X  
4.2光学邻近效应校正_81 9abn6S(XpJ  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 _<jccQ  
4.2.2线端缩短补偿_84 XRn+6fn|  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 6MbMAh5>  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 7mYBxE/  
4.3相移掩模_89 ;_1>nXh  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 Ifj%"RI  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 9QkIMJf0e  
4.4光瞳滤波_100 ; zfBe%Uf  
4.5光源掩模协同优化_102 R[2h!.O8  
4.6多重曝光技术_106 >H?~2O  
4.7小结_109 xKoNo^FF  
参考文献_110 Rp.FG   
!Op18hP$  
第5章材料驱动的分辨率增强 9R|B 5.  
5.1分辨率极限的回顾_115 1F?ylZ|~  
5.2非线性双重曝光_119 \JGRd8S[  
5.2.1双光子吸收材料_119 (<#Ns W!z  
5.2.2光阈值材料_120 r<.*:]L
 
5.2.3可逆对比增强材料_121 @3>nVa  
5.3双重和多重成形技术_124 nb|"dK|  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 |)Sx"B)  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 dUpOg{I.x  
5.3.3自对准双重成形_126 )h(yh50 B  
5.3.4双色调显影_127 4JjO.H  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 zyFbu=d|O:  
5.4定向自组装_129 ,lw<dB@7"5  
5.5薄膜成像技术_133 ?T:$:IHw  
5.6小结_135 %suXp,j  
参考文献_135 Y&DC5T]  
9rQpKq:# E  
第6章极紫外光刻 U_e e3KKA  
6.1EUV光源_141 J""N:X!1  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 _:9-x;0H2  
6.3EUV掩模_146 d:=:l?  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 QX393v!  
6.5EUV光刻胶_156 yO09NQ 5u  
6.6EUV掩模缺陷_157 f5QJj<@  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 zgHF-KEV  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 pmi`Er  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 atWAhN  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 rDWqJ<8  
6.8小结_167 4S#q06=Xe  
参考文献_168 Ic&Jhw;]z  
[+v}V ,jb  
第7章投影成像以外的光刻技术 %+Khj@aX  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 =9vmRh?8  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 xo*[ g`N  
7.1.2技术实现_179 b."1p7'  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 D*#r V P  
7.2无掩模光刻_186 Qw
s#v}x
F  
7.2.1干涉光刻_186 r`(U3EgP  
7.2.2激光直写光刻_189 &tE#1<k  
7.3无衍射限制的光刻_194 )|@UY(VZ^  
7.3.1近场光刻_195 ur2`.dY>3"  
7.3.2利用光学非线性_198 &za~=+  
7.4三维光刻_203 L`{EXn[  
7.4.1灰度光刻_203 v><uHjP  
7.4.2三维干涉光刻_205 - '5OX/Szq  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 Bx32pY  
7.5浅谈无光刻印_209 675x/0}GO  
7.6小结_210 bbU{ />yW  
参考文献_211 L3-tD67oa  
$?u ^hMU=  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 W:16qbK  
8.1实际投影系统中的波像差_220 u)fmXoQ  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 @rVBL<!o,  
8.1.2波前倾斜_226 #wZ:E,R  
8.1.3离焦像差_226 ]gQ4qu5  
8.1.4像散_228 ]n:)W.|`R  
8.1.5彗差_229 UN}jpu<h  
8.1.6球差_231 Pc4FEH/  
8.1.7三叶像差_233 [UHDN:y  
8.1.8泽尼克像差小结_233 nP>*0Fq  
8.2杂散光_234 cEd!t6Z  
8.2.1恒定杂散光模型_235 W@x UR-}51  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 (U |[C*  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 =/rIXReY  
8.3.1掩模偏振效应_240 fH7o,U|  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 5E/z.5 q  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 mSzBNvci  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 -)tu$W*  
8.3.5偏振照明_248 @M-+-6+  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 A8R}W=  
8.5小结_250 ,]'?Gd  
参考文献_251 :,=no>mMx  
]64mSB  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 wKCHG/W  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 8]N+V:  
9.1.1时域有限差分法_257 h*Y);mc$#  
9.1.2波导法_260 5"5D(  
9.2掩模形貌效应_262 V(Ps6jR"BS  
9.2.1掩模衍射分析_263 %
Y` @>P'  
9.2.2斜入射效应_266 ,"u-V<>6O  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 4l$(#NB<  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 :hG?} [-2  
9.2.5各种三维掩模模型_277 8_K22]c5  
9.3晶圆形貌效应_279 _e=R[  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 1Q6WpS  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 XnQo0 R.PW  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 oO|zRK1;/  
9.4小结_283 Yo c N
@s
 
参考文献_283 }xHoitOD  
_{o=I?+]  
第10章先进光刻中的随机效应 31y=Ar""  
10.1随机变量和过程_288 *Ri?mEv hF  
10.2现象_291 /)xG%J7H  
10.3建模方法_294 p IXBJk  
10.4依存性及其影响_297 JI}(R4uV  
10.5小结_299
k|,pj^  
参考文献_299 OedL?4  
专业词汇中英文对照表 DA@YjebP'  
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