《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 w,j!%N  
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第1章光刻工艺概述 Kn$E{F\  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 z.
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1.2光刻技术的发展史_3 ]SA/KV   
1.3投影光刻机的空间成像_5 81|[Y'f  
1.4光刻胶工艺_10 ]Whv%  
1.5光刻工艺特性_12 G2wSd'n*y  
1.6小结_18 C<a&]dN/  
参考文献_18 H?r~% bh  
vqT)=ZC1  
第2章投影光刻的成像原理 <ndY6n3  
2.1投影光刻机_20 +pq=i  
2.2成像理论_21 ?H_@/?  
2.2.1傅里叶光学描述_21 _X?_|!;J  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 %u9Q`  
2.2.3其他成像仿真方法_30 Xmmj.ZUr  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 |qQ6>IZ  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 qmnl  
2.3.2影响_36 <Af&Q0J  
2.4小结_39 j-/$e,xX  
参考文献_39 ]Gm4gd`  
TW1`{SM  
第3章光刻胶 3<)][
<Ud  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 VSUWX1k4%  
3.1.1光刻胶的分类_42 |a7Kn/[`,  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ZGh6- /  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 H'$H@Kn]-  
3.1.4现象学模型_48 \>oy2{=;'  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 _M8'~$Sg  
3.2.1技术方面_50 e9'0CH<  
3.2.2曝光_51 9f& !Uw_W  
3.2.3曝光后烘焙_54 6X'0 T}  
3.2.4化学显影_58 nvQX)Xf  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 %=K[C  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 J=kf KQV  
3.5小结_68 Y#9bM$x7  
参考文献_69 GK6~~ga=  
M7Xn=jc  
第4章光学分辨率增强技术 _ j'm2BAO  
4.1离轴照明_74 {C]tS5$Z  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 w `d9" n  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 w?"M  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 'HV@i)h0%V  
4.2光学邻近效应校正_81 Lf<urIF  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 QaE!?R  
4.2.2线端缩短补偿_84 @>ys,dy  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 WyB^b-QmDh  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 5sEk rT '  
4.3相移掩模_89 By[M|4a  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 _'y`hKeI[  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 W4P\HM>2  
4.4光瞳滤波_100 +,7vbs3  
4.5光源掩模协同优化_102 Fku<|1}&y  
4.6多重曝光技术_106 8yOhKEPX  
4.7小结_109 uTO%O}D N  
参考文献_110 b$ 8R  
u!+;Iy7  
第5章材料驱动的分辨率增强 m%;LJ~R  
5.1分辨率极限的回顾_115 b!J?>du  
5.2非线性双重曝光_119 @|w/`!}9q  
5.2.1双光子吸收材料_119 /`#JM  
5.2.2光阈值材料_120 q
TWQ!  
5.2.3可逆对比增强材料_121 Z{ 9
Io/  
5.3双重和多重成形技术_124 -#4QY70H t  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 >bmdu\j5R  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 i;qij[W.z  
5.3.3自对准双重成形_126 1x##b[LC  
5.3.4双色调显影_127 4kV$JV.l  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 Ue`Y>T7+!  
5.4定向自组装_129 7#
Fcn  
5.5薄膜成像技术_133 [ gR,nJH.  
5.6小结_135 M
=3w  
参考文献_135 c*R\fQd  
}=gD,]2x8  
第6章极紫外光刻 5K&A2zC|  
6.1EUV光源_141 nHF~a?|FT  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 Ed_Fx'  
6.3EUV掩模_146 <dXeP/1w`  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 Tk 'Pv  
6.5EUV光刻胶_156 ,|#biT-<T  
6.6EUV掩模缺陷_157 |RXXj[z  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 I^n,v) 8  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 eqOT@~H  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 >s.y1Vg~C  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 _T805<aUW\  
6.8小结_167 ~`$P-^u88X  
参考文献_168 V`c,U7[/  
f"AT@Ga]  
第7章投影成像以外的光刻技术 @S5HMJ2=  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 #l9sQ-1Q  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ]j*uD317  
7.1.2技术实现_179  
-V"W  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 jWvi%Iqi  
7.2无掩模光刻_186 9`^(M^|c  
7.2.1干涉光刻_186 k3Pu
q1H  
7.2.2激光直写光刻_189 )3f\H  
7.3无衍射限制的光刻_194 f4f)9n  
7.3.1近场光刻_195 NP4u/C<  
7.3.2利用光学非线性_198 u35"oLV6}#  
7.4三维光刻_203 2o1WXE %$  
7.4.1灰度光刻_203 VT~%);.#  
7.4.2三维干涉光刻_205 `6#s+JA[  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 +T,A^(&t  
7.5浅谈无光刻印_209 ])?h~  
7.6小结_210 E1w8d4P,G  
参考文献_211 7.)_H  
OOABn*  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 g2M1zRm;  
8.1实际投影系统中的波像差_220 RHbbj}B  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 FKhgUnw  
8.1.2波前倾斜_226 @W==)S%O  
8.1.3离焦像差_226 /9Qr1@&v  
8.1.4像散_228 JFNjc:4{0  
8.1.5彗差_229 SL+n y(y  
8.1.6球差_231 cBOt=vg,5  
8.1.7三叶像差_233 ~*^o[~x]\  
8.1.8泽尼克像差小结_233 Cy5iEI#  
8.2杂散光_234  =Uo*-EH  
8.2.1恒定杂散光模型_235 XJwgh y?(  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 d6??OO=~>M  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 tqpi{e  
8.3.1掩模偏振效应_240 ?s)6 YF  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 Ul 85-p  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 iO18FfM_  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 +9yMtR  
8.3.5偏振照明_248 497l2}0  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 ,[dvs&-*  
8.5小结_250 QvOl-Lfc  
参考文献_251 0=40}n&`  
kK:Wr&X0H  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 w`M`F<_\:  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 b+
f '  
9.1.1时域有限差分法_257 8|L5nQ  
9.1.2波导法_260 +Oo-8f*  
9.2掩模形貌效应_262 KilN`?EJ  
9.2.1掩模衍射分析_263 )Q}Q -Zt  
9.2.2斜入射效应_266 J{XRltI+  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 T@zp'6\H  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 8f%O
Pcr&  
9.2.5各种三维掩模模型_277 ?zVE7;r4U  
9.3晶圆形貌效应_279 \.P#QVuQ  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 vv5rA 6+  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 0r!F]Rm-^  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 N_+D#Z.g  
9.4小结_283 7,uD7R_  
参考文献_283 G_ ~qk/7mF  
NH=@[t)P,  
第10章先进光刻中的随机效应 MFWkJbZV  
10.1随机变量和过程_288 2$o\`^dy  
10.2现象_291 f3.oc9G  
10.3建模方法_294 CalWJ  
10.4依存性及其影响_297 K05T`+N,  
10.5小结_299 Li 9$N"2  
参考文献_299 iHQ$L# 7  
专业词汇中英文对照表 2Ib 1D  
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