《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 r-s.i+\  
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第1章光刻工艺概述 ~4\J}Kn  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 rn7eY  
1.2光刻技术的发展史_3 [;/ydE=  
1.3投影光刻机的空间成像_5 `)5E_E3  
1.4光刻胶工艺_10 _>8ZL)NQQ  
1.5光刻工艺特性_12 i[_WO2  
1.6小结_18 1>1&NQ#}  
参考文献_18 25RFi24>D  
B`xrdtW  
第2章投影光刻的成像原理 ^-9g_5  
2.1投影光刻机_20 ruG5~dm>  
2.2成像理论_21 \s8j*  
2.2.1傅里叶光学描述_21 tk@ T-;  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 _h2axXFhT  
2.2.3其他成像仿真方法_30 P\B ]><!ep  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 j>(O1z7  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 P5Y:c@
u2  
2.3.2影响_36 0HA`  
2.4小结_39 |^^'GZ%a  
参考文献_39 TzT(aWP"  
/*)zQ?N  
第3章光刻胶 -s5j^U{h|  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 Wp"+\{@)  
3.1.1光刻胶的分类_42 I'Dc9&2  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 d7.}=E.L  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 (*>%^C?  
3.1.4现象学模型_48 $^F L*w  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 bhqBFiuhH  
3.2.1技术方面_50 88]V6Rm9[*  
3.2.2曝光_51 AM4lAq_  
3.2.3曝光后烘焙_54 kQ5mIJ9(  
3.2.4化学显影_58 |'B-^?;  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 *w>dT  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 .tv'`  
3.5小结_68 K}e%E&|>  
参考文献_69 'O%itCy)  
j\kT H  
第4章光学分辨率增强技术 a:*8S
ovI  
4.1离轴照明_74 ),ur!v  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 uURm6mVt9:  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 .gL%0  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 tI42]:z  
4.2光学邻近效应校正_81 zPzy0lx  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 $]v=2j  
4.2.2线端缩短补偿_84 J?]wA1
 
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 (gY3?&Ok*  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 By&T59  
4.3相移掩模_89 }^!8I7J.  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 F xek#  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 e :(7$jo  
4.4光瞳滤波_100 pZo:\n5o  
4.5光源掩模协同优化_102 3q'["SS  
4.6多重曝光技术_106 lyY\P6 X  
4.7小结_109 hk6(y?#  
参考文献_110 F|+Qi BO  
>Q5et1c  
第5章材料驱动的分辨率增强 g=)B+SY'  
5.1分辨率极限的回顾_115 HSXv_  
5.2非线性双重曝光_119 @|AHTf!  
5.2.1双光子吸收材料_119 N|JML  
5.2.2光阈值材料_120 MI^@p`s  
5.2.3可逆对比增强材料_121 -;NGS )RM  
5.3双重和多重成形技术_124 /V-uo(n< .  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 *0vq+C  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 63'Rw'g^|2  
5.3.3自对准双重成形_126 ,z4)A&F[c;  
5.3.4双色调显影_127 ~quof>  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 ~e|RVY,  
5.4定向自组装_129 4eFqD;  
5.5薄膜成像技术_133 R;mA2:W)x  
5.6小结_135 73Zx`00  
参考文献_135 <{ZDD]UGs0  
sfD@lW3  
第6章极紫外光刻
/!7    
6.1EUV光源_141 #)}K
,FDd  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 Pz\4#E]  
6.3EUV掩模_146 7+!FZo{?  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 rra|}l4Y  
6.5EUV光刻胶_156 )RUx  
6.6EUV掩模缺陷_157 JM&`&fsOC{  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 '80mhrEutG  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 58[=.rzD  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 2:5Go  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 ?04jkq&  
6.8小结_167 >W?i+,g  
参考文献_168 + d?p? v  
t=l@(%O 0_  
第7章投影成像以外的光刻技术 .(J~:U  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 e1<9:h+  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ! 3 ;;6  
7.1.2技术实现_179 YCPU84f  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 1tZ7%0R\g]  
7.2无掩模光刻_186
_cc37[  
7.2.1干涉光刻_186 *XUJv
&ZN  
7.2.2激光直写光刻_189 b=L4A,w~a  
7.3无衍射限制的光刻_194 MnLo{G]  
7.3.1近场光刻_195 7MbV|gM}  
7.3.2利用光学非线性_198 KPi_<LuK  
7.4三维光刻_203 b6%[?k  
7.4.1灰度光刻_203 K#%@4]jO3  
7.4.2三维干涉光刻_205 at|.Q*&a#  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 O*SJx
.  
7.5浅谈无光刻印_209 5'<J@3B  
7.6小结_210 iv!;gMco  
参考文献_211 7|@FN7]5NF  
A!$;pwn0  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 QBYY1)6S,  
8.1实际投影系统中的波像差_220 ?]%ZJd  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 WJlJD*3  
8.1.2波前倾斜_226 BT^Im=A  
8.1.3离焦像差_226 ZGw6Bd_I  
8.1.4像散_228 ,Gi%D3lA  
8.1.5彗差_229 $x/VO\Z{-  
8.1.6球差_231 (.J6>"K<  
8.1.7三叶像差_233 $RA+StF!]  
8.1.8泽尼克像差小结_233 n-he|u  
8.2杂散光_234 Y=?Tm,z4  
8.2.1恒定杂散光模型_235 ]."t  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 {i<L<Y(3  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 *b4W+E  
8.3.1掩模偏振效应_240 +Pc2`,pw|  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 %jo,
Gv  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 pzT,fmfk  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 F! [Gj%~I  
8.3.5偏振照明_248 6Z@?W  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 tjLG$M1z`  
8.5小结_250 ms&6N']  
参考文献_251 **CGkL  
/g>]J70  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 /[qLf:rGI  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 TVZf@U  
9.1.1时域有限差分法_257 \"a~~Koe  
9.1.2波导法_260 /pC60y}O0  
9.2掩模形貌效应_262 :sS4T&@1=  
9.2.1掩模衍射分析_263 +ovT?CMo  
9.2.2斜入射效应_266 jL{k!V`s  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 ok1w4#%,  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 ,`ba?O?*G  
9.2.5各种三维掩模模型_277 Ub{7Xk n  
9.3晶圆形貌效应_279 _oHxpeM  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 sB*!Nf^y  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 5FVmk5z]d  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 cte Wl/v  
9.4小结_283 58t_j
54  
参考文献_283 g;7W%v5wqk  
qL?$u07<9'  
第10章先进光刻中的随机效应 gg.lajX  
10.1随机变量和过程_288 BZa`:ah~x  
10.2现象_291 -bgj<4R$p  
10.3建模方法_294 0Q~\1D 9g  
10.4依存性及其影响_297 b w!  
10.5小结_299 t~|`RMn"  
参考文献_299 Jsa;pG=3&  
专业词汇中英文对照表 OYfRtfE  
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