《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 /}nq
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lfqsoIn;  
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!&pk^VFl+  
第1章光刻工艺概述 `_(N(dm  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 %!]CP1S  
1.2光刻技术的发展史_3 >w#&f
d  
1.3投影光刻机的空间成像_5 lKV7IoJ&;  
1.4光刻胶工艺_10 o_cAelI[!  
1.5光刻工艺特性_12 scZ&}Ni  
1.6小结_18 Dw.Pv)'$  
参考文献_18 )|KZGr  
fkD-mRKw
  
第2章投影光刻的成像原理 `h<>_zpjY  
2.1投影光刻机_20 LXm@h  
2.2成像理论_21 jm,:jkr  
2.2.1傅里叶光学描述_21 ww)ow\  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 `Db%:l^e  
2.2.3其他成像仿真方法_30 U,Th-
oU  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 )TwA?kj  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 }UqL2KXi4  
2.3.2影响_36 N\85fPSMG|  
2.4小结_39 56H~MnX  
参考文献_39 5E}!TL$  
tLM/STb6  
第3章光刻胶 )npvy>C'(  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 |v:fP;zc  
3.1.1光刻胶的分类_42 )zu m.6pT  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 IY}{1[<N  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 bM"d$tl$?'  
3.1.4现象学模型_48 U[NQ"  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 pPJE.[)V/  
3.2.1技术方面_50 A#nSK#wS61  
3.2.2曝光_51 DS0:^
TLI  
3.2.3曝光后烘焙_54 vUB*Qm]Y\  
3.2.4化学显影_58 *OHaqe(*  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 ,{BF`5bn|  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 a6hDw'8!  
3.5小结_68 J1Oe`my  
参考文献_69 " l>tFa  
hlFvm$P`M  
第4章光学分辨率增强技术 Os1=V  
4.1离轴照明_74 o^+g2;Ro  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 ~>S? m;  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 ab>>W!r@!  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 FH7l6b,^  
4.2光学邻近效应校正_81 `]5t'Ps  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 T5>'q;jM  
4.2.2线端缩短补偿_84 =Iy khrS  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ^-%O  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 1=mb2A  
4.3相移掩模_89 :@^
T^  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 nI,-ftMD-|  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 6&6t=  
4.4光瞳滤波_100 j0A9;AP;;C  
4.5光源掩模协同优化_102 3j/~XT  
4.6多重曝光技术_106 a4Y43n  
4.7小结_109 c='uyx  
参考文献_110 r~PVh?  
@MfZP~T+  
第5章材料驱动的分辨率增强 0t -=*7w%  
5.1分辨率极限的回顾_115 R'h.lX  
5.2非线性双重曝光_119 BZk0B?  
5.2.1双光子吸收材料_119 SFVqUg3"Z  
5.2.2光阈值材料_120 :F pt>g  
5.2.3可逆对比增强材料_121 j:[#eC  
5.3双重和多重成形技术_124 Jf@~/!m}'  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 i=\`
f& B  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 @c;:D`\p1C  
5.3.3自对准双重成形_126 B=|m._OL]n  
5.3.4双色调显影_127 oe{,-<yck  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 H+ 7Fw'u  
5.4定向自组装_129 %dq|)r  
5.5薄膜成像技术_133 hd#MV!ti  
5.6小结_135 MmD1@fW32#  
参考文献_135 Df=Xbf>jt9  
o=Ia{@  
第6章极紫外光刻 Wqas1yL_  
6.1EUV光源_141 T;{"lp.  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 C$^WW}S  
6.3EUV掩模_146 $mut v=IO  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 tWITr  
6.5EUV光刻胶_156 1_5]3+r_U-  
6.6EUV掩模缺陷_157 ~~{+?v6B]  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 )m>Y[)8!  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 -H"^;37T"  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 =90)=Pxd  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 sQ8kLS_q8  
6.8小结_167 pRFlmg@/}  
参考文献_168 @hOT< Uo  
"T' QbK
0  
第7章投影成像以外的光刻技术 ]ujXPK=t  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 Lo5CVl
K  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 lh*!f$2~  
7.1.2技术实现_179 Sv[$.^mb  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 ]TSzT"_r~~  
7.2无掩模光刻_186 |/~ISB  
7.2.1干涉光刻_186 xs$.EY:k  
7.2.2激光直写光刻_189 QR h %S{  
7.3无衍射限制的光刻_194 e6_`  
7.3.1近场光刻_195 T!QAcO  
7.3.2利用光学非线性_198 ,*g.?q@W2  
7.4三维光刻_203 0EBHRY_F  
7.4.1灰度光刻_203 :;N2hnHoG  
7.4.2三维干涉光刻_205 j&"GE':Y  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 =iE)vY,?"}  
7.5浅谈无光刻印_209 <&iLMb:%  
7.6小结_210 $im6v  
参考文献_211 3'6by!N,d  
VMJK9|JC[  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 8W}rSv+  
8.1实际投影系统中的波像差_220 cb%ML1c  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 o3a%u
(   
8.1.2波前倾斜_226 M`Q
K{$1p  
8.1.3离焦像差_226 jYnP)xX;  
8.1.4像散_228 |]tsf /SA  
8.1.5彗差_229 |jyD@Q,4  
8.1.6球差_231 \_AoG8B  
8.1.7三叶像差_233 KBwY _  
8.1.8泽尼克像差小结_233 0oo*F  
8.2杂散光_234 !b'!7p  
8.2.1恒定杂散光模型_235 ad`=A V]  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 V*1-wg5>  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 tS6r4d%~=  
8.3.1掩模偏振效应_240 c{wob%!>  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 eNFZ
D1mS  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 s|-g)  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 b%|6y  
8.3.5偏振照明_248 %p tw=Ju  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 ;Wig${  
8.5小结_250 BaOPtBYA:  
参考文献_251 hXQo>t-$  
[<IJ{yfx  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 2>Sr04Pt  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 `;z;=A*  
9.1.1时域有限差分法_257 yr34&M(a  
9.1.2波导法_260 `lN Z|U  
9.2掩模形貌效应_262 ?oQAxb&  
9.2.1掩模衍射分析_263 ;N!W|G  
9.2.2斜入射效应_266 4/E>k <MA  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 bVYsPS  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 hSU|rVi  
9.2.5各种三维掩模模型_277 !k=~a]  
9.3晶圆形貌效应_279 <x\I*%(  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 KAm$^N5  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 H?)?(t7@  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 Mx=L lC)  
9.4小结_283 }
BLT2]y0  
参考文献_283 Oy~X@A  
b"&1l2\ A  
第10章先进光刻中的随机效应  7K &j  
10.1随机变量和过程_288 -0Q^k\X-  
10.2现象_291 {iq)[)n  
10.3建模方法_294 %y R~dt'  
10.4依存性及其影响_297
uqK[p^{  
10.5小结_299 DK }1T  
参考文献_299 21.N+H'  
专业词汇中英文对照表 7G9o%!D5  
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