《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 3pzp6o2  
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第1章光刻工艺概述 $-J0ou8

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1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ,@\$PyJ  
1.2光刻技术的发展史_3 /$z(BX/  
1.3投影光刻机的空间成像_5 =nVEd
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1.4光刻胶工艺_10 B//2R)HS  
1.5光刻工艺特性_12 A7`+XqG  
1.6小结_18 -
0I]Sm;$  
参考文献_18 VVd9VGvh  
=3~5I&  
第2章投影光刻的成像原理 +#;t.&\80N  
2.1投影光刻机_20 Gy]ZYo(  
2.2成像理论_21 Jw+k=>  
2.2.1傅里叶光学描述_21 QPD[uJ(I  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ]'.D@vFGO  
2.2.3其他成像仿真方法_30 @IXvp3r  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 `@_jDo  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 ES4[@RX  
2.3.2影响_36 j7
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=  
2.4小结_39 MH0xD  
参考文献_39 q0m>NA   
u5'jIq
lU  
第3章光刻胶 R!+_mPb=Q*  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 9Sb[5_Q  
3.1.1光刻胶的分类_42 pW7#&@AR  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 jqzG=/0~{  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 x(]Um
!  
3.1.4现象学模型_48 ln1QY"g  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 r(ZMZ^  
3.2.1技术方面_50 lH%%iYBM  
3.2.2曝光_51 w/1Os!p  
3.2.3曝光后烘焙_54 6_=t~9sY  
3.2.4化学显影_58 1B0+dxN`  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 -:V0pb  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 hZwbYvu  
3.5小结_68 (drDC1\  
参考文献_69 9K:ICXm  
>)j`Q1Qc\  
第4章光学分辨率增强技术 srGF=1_  
4.1离轴照明_74 %ij,xN  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 n40&4n  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 n:8<Ijrh  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 h,fC-+H5  
4.2光学邻近效应校正_81 3oQ?
VP  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 (i.7\$4  
4.2.2线端缩短补偿_84 w(N$$  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ]aZ3_<b  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 I1)t1%6"vJ  
4.3相移掩模_89 Lz/{ q6>  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 Dk^T_7{  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 l+r3|b  
4.4光瞳滤波_100 4(D1/8  
4.5光源掩模协同优化_102 PR2;+i3  
4.6多重曝光技术_106 bSkr:|A7  
4.7小结_109 sK/Z'h{|  
参考文献_110 VkD}gJY  
x4N*P  
第5章材料驱动的分辨率增强 K})w  
5.1分辨率极限的回顾_115 Zsto8wuf#  
5.2非线性双重曝光_119 dcH@$D@~S  
5.2.1双光子吸收材料_119 QFg{.F?3q>  
5.2.2光阈值材料_120 /=@V5)  
5.2.3可逆对比增强材料_121 cna/?V  
5.3双重和多重成形技术_124 \LYNr
L~?J  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 e6i m_ Tk  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 Vpe\Okt:  
5.3.3自对准双重成形_126 ws([bS2h  
5.3.4双色调显影_127 \"|7o8  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 08qM?{zo^  
5.4定向自组装_129 kKs}E| T  
5.5薄膜成像技术_133 oIv\Xdc81  
5.6小结_135 ^JY,K  
参考文献_135 M`49ydh&  
nc9sfH3  
第6章极紫外光刻 /4YxB,  
6.1EUV光源_141 7m.>2U  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 FT Ytf4t  
6.3EUV掩模_146 =5q_aK#i  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 %
hVI*p3  
6.5EUV光刻胶_156 W}P9I&3  
6.6EUV掩模缺陷_157  jAxrU  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 fo_*Uva_  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 +lhnc{;WJv  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 ?_j]w%Hz  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 D$fWeG{f  
6.8小结_167 :I(d-,C  
参考文献_168 ho%G  
Zo#c[9IaC  
第7章投影成像以外的光刻技术 (2(y9r*1  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 )
?<V-,D  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 .OZ\s%h;  
7.1.2技术实现_179 i'3)5  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 ;$g?W"  
7.2无掩模光刻_186 ^ pNA_s!S  
7.2.1干涉光刻_186 -u^f;4|u  
7.2.2激光直写光刻_189 ^IqD^(Kb  
7.3无衍射限制的光刻_194 $QnsP#ePN  
7.3.1近场光刻_195 YM&i  
7.3.2利用光学非线性_198 xp 
F(de  
7.4三维光刻_203 
3XIL; 5  
7.4.1灰度光刻_203 ddwokXx (  
7.4.2三维干涉光刻_205 ^[.Z~>3!\q  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 u,JUMH]@  
7.5浅谈无光刻印_209 6
T6UIq  
7.6小结_210 /kV5~i<1S  
参考文献_211 Y'Yu1mH)  
OU[ FiW-E  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 xm0(U0 >  
8.1实际投影系统中的波像差_220 w3FEX$`_  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 d0 mfqP=  
8.1.2波前倾斜_226 tR<L9h  
8.1.3离焦像差_226 +R',
$YzD  
8.1.4像散_228 #F#M<d3-2  
8.1.5彗差_229 ;{1
ws  
8.1.6球差_231 59H~qE1Md  
8.1.7三叶像差_233 N=j$~,yG  
8.1.8泽尼克像差小结_233 P\%aJ'f~  
8.2杂散光_234 Tbj}04;I  
8.2.1恒定杂散光模型_235 !X\aZ{}Q  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 yL_\&v  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 h*V~.H  
8.3.1掩模偏振效应_240 sMcN[r  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 rw#?NI:  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 5P[urOvV  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 {yM@3v~  
8.3.5偏振照明_248 k1fX-2H  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 /0r6/ _5-.  
8.5小结_250 7!JBF{,=  
参考文献_251 >M7(<V  
fv:&?gc  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 "QmlW2ysi  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 87rHW@\](  
9.1.1时域有限差分法_257 <f;Xs(  
9.1.2波导法_260 2+|U!X  
9.2掩模形貌效应_262 w01u~"E  
9.2.1掩模衍射分析_263 [Uw3.CVh  
9.2.2斜入射效应_266 #kp+e)F  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 YJ>P+e\o9  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 vk<4P;
A(G  
9.2.5各种三维掩模模型_277 KMXd  
9.3晶圆形貌效应_279 FSb4RuD9  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 wu3p2#-Z  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 OE2r2ad  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 8aI^vP"7`=  
9.4小结_283 -H$C3V3]  
参考文献_283 ,f$ftn\~j/  
W];l[D<S*  
第10章先进光刻中的随机效应 T^S$|d  
10.1随机变量和过程_288 6*s:I&  
10.2现象_291 V82hk0*j  
10.3建模方法_294 |3Bmsd/3  
10.4依存性及其影响_297 aK--D2@}i  
10.5小结_299 q{pa _  
参考文献_299 i!+0''i{#  
专业词汇中英文对照表 |H;+9(  
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