《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 z'j4^Xz?%$  
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5{L~e>oS9  
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第1章光刻工艺概述 EWrIDZi  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ;M1#M:  
1.2光刻技术的发展史_3 nD{o8;  
1.3投影光刻机的空间成像_5 Jx!#y A;  
1.4光刻胶工艺_10 W2&o'(P\  
1.5光刻工艺特性_12 F}wy7s2i  
1.6小结_18 T]HeS(  
参考文献_18 B/0Xqyu  
jEVDz  
第2章投影光刻的成像原理 2Jo|]>nl}u  
2.1投影光刻机_20 [0qe ?aI  
2.2成像理论_21 TkBHlTa"=  
2.2.1傅里叶光学描述_21 Y 3h`uLQ  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 Py y!B  
2.2.3其他成像仿真方法_30 I() =Ufs5z  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30  k
{d]  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 [;t-XC?[nk  
2.3.2影响_36 uGOED-@  
2.4小结_39 9kHVWDf  
参考文献_39 ~t^ Umx"Ew  
SMoJKr(:w#  
第3章光刻胶 ,sI<AFI  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 ;x%"o[[>  
3.1.1光刻胶的分类_42 /#jH#f[  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 0$JH5RC  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 `,QcOkvbC  
3.1.4现象学模型_48 KW-GVe%8f  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 |W_;L6)  
3.2.1技术方面_50 2,aH1Xbex  
3.2.2曝光_51 o=J-Ju
 
3.2.3曝光后烘焙_54 ~I6N6T Z  
3.2.4化学显影_58 lg"aB  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 _NefzZWUJ  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 !6!Gx:  
3.5小结_68 )G#mC0?PV  
参考文献_69 =' uePM")  
*:bexDH  
第4章光学分辨率增强技术 bd]9kRq1K  
4.1离轴照明_74 0vX4v)-^u  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 JTIt!E}P  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 Xii>?sA5Z"  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 "i#aII+T  
4.2光学邻近效应校正_81 0civXZgj  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 \?SvO  
4.2.2线端缩短补偿_84 <qg4Rz\c]  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 TZ *>MySiF  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 vd?Bk_d9k,  
4.3相移掩模_89 ?4A/?Z]ub  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 hw$!LTB2  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 L!>nl4O>`  
4.4光瞳滤波_100 m g,1
*B'  
4.5光源掩模协同优化_102 i.k7qclL`  
4.6多重曝光技术_106 b7XB l  
4.7小结_109 o]EL=j  
参考文献_110 k&2=-qgVR  
JIhEkY  
第5章材料驱动的分辨率增强 ]{oZn5F  
5.1分辨率极限的回顾_115 ~)^'5^  
5.2非线性双重曝光_119 5r`rstV  
5.2.1双光子吸收材料_119 SE'!j]6jI  
5.2.2光阈值材料_120 `^52IkM)  
5.2.3可逆对比增强材料_121 6<2H 7'  
5.3双重和多重成形技术_124 LH)XD[  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 QF)\\D[  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 (`S^6-^  
5.3.3自对准双重成形_126 k,[*h-{8  
5.3.4双色调显影_127 MB!9tju  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 -8xf}v~u  
5.4定向自组装_129 u<Y#J,p`e  
5.5薄膜成像技术_133 W#S82  
5.6小结_135  V\o7KF  
参考文献_135 zw['
hqW  
`J1HQ!Z  
第6章极紫外光刻 .4p3~r?=S  
6.1EUV光源_141 'C/yQvJ  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 wqhktgG  
6.3EUV掩模_146 } vmRm*8z  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 #0>xa]S  
6.5EUV光刻胶_156 ]QhTxrF"  
6.6EUV掩模缺陷_157 &'SD1m1P  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 &E_a0*)e  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 )V\@N*L`ik  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 7 !$[XD  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 h:nybLw?  
6.8小结_167 7~ PL8  
参考文献_168 OvtE)ul@  
sU"%,Q5  
第7章投影成像以外的光刻技术 DcW?L^Mst  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 G 5;6q  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 >> zd  
7.1.2技术实现_179 VG);om7`PD  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 O\6U2b~  
7.2无掩模光刻_186 >#w;67he2  
7.2.1干涉光刻_186 !R=@Nr>  
7.2.2激光直写光刻_189 $@>0;i::  
7.3无衍射限制的光刻_194 #;$]M4  
7.3.1近场光刻_195 j{@6y  
7.3.2利用光学非线性_198 TxX=(7V  
7.4三维光刻_203 ){*+s RBW  
7.4.1灰度光刻_203 u= NLR\  
7.4.2三维干涉光刻_205 &EfQ%r}C  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 bC/":+s& p  
7.5浅谈无光刻印_209 @1MnJP  
7.6小结_210 +!/ATR%Uci  
参考文献_211 ]mTBD<3\  
FQ]/c#J  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 jN\u
}!\O  
8.1实际投影系统中的波像差_220 <s9?9^!!V^  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 ;]u9o}[ 2  
8.1.2波前倾斜_226 Rff F:,b  
8.1.3离焦像差_226 *.DC(2:
o!  
8.1.4像散_228 5~L]zE  
8.1.5彗差_229 u^1#9bAW8  
8.1.6球差_231 }yz>(Pq  
8.1.7三叶像差_233 <kak9 6A  
8.1.8泽尼克像差小结_233 uM-,}7f7  
8.2杂散光_234 D|N4X`T`  
8.2.1恒定杂散光模型_235 !+eH8  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 0cd_l 2f#g  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 Zh=arlk  
8.3.1掩模偏振效应_240 ^[M{s(b  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 7?$?Yu  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 \$ytmtf5  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 F5h/>  
8.3.5偏振照明_248 i[v4[C=WB!  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 [nTI\17iA  
8.5小结_250 =p+y$  
参考文献_251 &mwd0%4  
/Mqhx_)>A  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 S<tw5!tJ  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ?sf<cFF  
9.1.1时域有限差分法_257 KdkA@>L!;  
9.1.2波导法_260 lW+mH=  
9.2掩模形貌效应_262 $[ {5+*  
9.2.1掩模衍射分析_263 6b2UPI7m~  
9.2.2斜入射效应_266 lQn" 6o1  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 Zf'*pp T&q  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 IH]9%d)  
9.2.5各种三维掩模模型_277 *
'%V}R[>  
9.3晶圆形貌效应_279 %FO{:@CH  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 v}G^+-?  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 i5'&u:  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 UUah5$Iy  
9.4小结_283 YW7W6mWspS  
参考文献_283 $></%S2g  
;]{ee?Q^ld  
第10章先进光刻中的随机效应 YuXJT*  
10.1随机变量和过程_288 Nwvlv{k'  
10.2现象_291 kv+%  
10.3建模方法_294 ]Bhy=1  
10.4依存性及其影响_297 IG781:,/  
10.5小结_299 2jsbg{QS#_  
参考文献_299 j(;^XO Y#  
专业词汇中英文对照表 #36QO  
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