《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 u
:|^L]{  
7ihcjyXB  
j
d
JTOT  
46D`h!7L  
'4i8&p`/  
第1章光刻工艺概述 i;9X_?QF  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 tcXXo&ZS  
1.2光刻技术的发展史_3 b-VtQ%Q  
1.3投影光刻机的空间成像_5 u>9` ?O44  
1.4光刻胶工艺_10 6ScB:8M  
1.5光刻工艺特性_12 vx($o9  
1.6小结_18 yYJ_;Va  
参考文献_18 Pp!4Ak4TT9  
*1["x;A  
第2章投影光刻的成像原理 <!>\ n\A  
2.1投影光刻机_20 X$6NJ(2G  
2.2成像理论_21 Rmmu#-{Y  
2.2.1傅里叶光学描述_21 e&ysj:W5 "  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ]Pe>T&  
2.2.3其他成像仿真方法_30 7!cLTq  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 P05`DX}r,  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 ;@qS#7SRB  
2.3.2影响_36 I9G^T' W  
2.4小结_39 .
8s-)I  
参考文献_39 ]P wS3:x  
3E;@
.jD  
第3章光刻胶 !i-t6f  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 8&8!(\xv  
3.1.1光刻胶的分类_42 (CIcM3|9C  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 f:+/=MW  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 8_4!Ar>2
 
3.1.4现象学模型_48 kQbZ!yl>[  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 G!$~'o%/  
3.2.1技术方面_50 Z}!'fX."  
3.2.2曝光_51 _2G _Io  
3.2.3曝光后烘焙_54 %:`v
.AG  
3.2.4化学显影_58 =>5Lp  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 rwXpB<@l@  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 `$JvWN,kB  
3.5小结_68 EP@u4F  
参考文献_69 KX9IC5pR  
$Ah p4oiE  
第4章光学分辨率增强技术 :lo5,B;k  
4.1离轴照明_74 P _fCb  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 s9sl*1n1m`  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 bT 42G[x  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 xS_;p9{E  
4.2光学邻近效应校正_81 aXj UDu7  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 wJ2cAX;"  
4.2.2线端缩短补偿_84 &v .S_Ym  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 Z(|$[GZP[  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 YSGE@  
4.3相移掩模_89 BH {z
]a  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 0,RY
O :`  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 <e BmCrJ  
4.4光瞳滤波_100 dQ{qA(m  
4.5光源掩模协同优化_102 hOk
9y=  
4.6多重曝光技术_106 2{=D)aC$f  
4.7小结_109 \0 h>!u  
参考文献_110 x+4K,r;  
dT'}:2  
第5章材料驱动的分辨率增强 c>D~MCNxg  
5.1分辨率极限的回顾_115 W8^A{l4  
5.2非线性双重曝光_119 &j:prc[W  
5.2.1双光子吸收材料_119 | CFG<]  
5.2.2光阈值材料_120 (.

!9  
5.2.3可逆对比增强材料_121 3@x[M?$  
5.3双重和多重成形技术_124 q]: 72+  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 79>x/jZka  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 A)9]^@,  
5.3.3自对准双重成形_126 B(Yg1jAe  
5.3.4双色调显影_127 w~Q\:<x&~Z  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 qc,EazmU  
5.4定向自组装_129 YQ:$m5ai  
5.5薄膜成像技术_133 &q|
vvF<G  
5.6小结_135 Vn5%%?]J  
参考文献_135 xSN;vrLHR  
DI8I'c-P  
第6章极紫外光刻 9{fP.ifdv7  
6.1EUV光源_141 BEb?jRMjLg  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 YM;ro5_KF  
6.3EUV掩模_146 -S]ercar  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 @Un/,-ck  
6.5EUV光刻胶_156 X~VI}dJ  
6.6EUV掩模缺陷_157 axC{azo|  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 Ld_uMe?Z  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 p9i7<X2&  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 x/{-U05  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 )R `d x  
6.8小结_167 gKTCfD~
 
参考文献_168 2&S^\kf  
0);5cbV7i  
第7章投影成像以外的光刻技术 ?&:N|cltD  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ^n~Kr1}nj  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 YvG$2F|_)  
7.1.2技术实现_179 X_X7fRC0  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 ]~ N.  
7.2无掩模光刻_186 Hz,Gn9:p  
7.2.1干涉光刻_186 =AaF$R  
7.2.2激光直写光刻_189 }*!L~B!  
7.3无衍射限制的光刻_194 g5 *E\T%8  
7.3.1近场光刻_195
m$[:J  
7.3.2利用光学非线性_198 /xgC`]-  
7.4三维光刻_203 t9<BQg  
7.4.1灰度光刻_203 $9\8?gS  
7.4.2三维干涉光刻_205 l5^Q
  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 `_LQs9J0J  
7.5浅谈无光刻印_209 Bkq4V$D_  
7.6小结_210 lW-G]V  
参考文献_211 /z^v%l  
^[[@P(e>  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 .6[8$8c  
8.1实际投影系统中的波像差_220 v,Kum<oi?  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 !2AD/dtt  
8.1.2波前倾斜_226 AiR#:r  
8.1.3离焦像差_226 BIMX2.S1o  
8.1.4像散_228 rJf{YUZe  
8.1.5彗差_229 _^{RtP#=  
8.1.6球差_231 tC1'IE-h  
8.1.7三叶像差_233 IG}yGGn  
8.1.8泽尼克像差小结_233 -TH(Z(pB  
8.2杂散光_234 fGj66rMGw  
8.2.1恒定杂散光模型_235 =
4x6v<  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 ecl6>PS$'  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 aC9iNm8w  
8.3.1掩模偏振效应_240 NlhC7  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 h] )&mFiE"  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 k:/Z6TLk3  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 (oiQ5s^f  
8.3.5偏振照明_248 ,>(X}Q  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 6&E[hvu  
8.5小结_250 gmTBp}3  
参考文献_251 se3EI1
e  
,e
OZv=:  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 ,%/F,O+#  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 yAGQD[ih  
9.1.1时域有限差分法_257 E}w5.1  
9.1.2波导法_260 hb
1h.F  
9.2掩模形貌效应_262 VZamR}x  
9.2.1掩模衍射分析_263 }<
2|6 {  
9.2.2斜入射效应_266 9gK1Gx:  
9.2.3掩模引起的成像效应_268
[xfg6  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 c;29GHs2  
9.2.5各种三维掩模模型_277 B[&l<*O-y  
9.3晶圆形貌效应_279 n~>b}DY  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 k%-y\WM  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 0:`YY8j1k  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 kSge4?&  
9.4小结_283 OI/]Y7D[Oq  
参考文献_283 4u2_xbT  
XkW@"pf&Fh  
第10章先进光刻中的随机效应 vcy(!r  
10.1随机变量和过程_288 (Ww SisC~  
10.2现象_291 o2YHT \P n  
10.3建模方法_294 $y<`Jy]+)~  
10.4依存性及其影响_297 fe6Op  
10.5小结_299 #\="^z6  
参考文献_299 TgRG6?#^l  
专业词汇中英文对照表 uRuu!{$  
\Ym$to