《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 )/Ul"QF  
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第1章光刻工艺概述 SxH b76 ;  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 rtC.!].;%  
1.2光刻技术的发展史_3 ;jS~0R  
1.3投影光刻机的空间成像_5 `Fnt#F}  
1.4光刻胶工艺_10 iku) otUc  
1.5光刻工艺特性_12 r6JdF!\d  
1.6小结_18 usX aT(K  
参考文献_18 ~^ Q`dJL  
d/N&bTg:  
第2章投影光刻的成像原理 n-0RA~5z  
2.1投影光刻机_20 ]|'Mf;  
2.2成像理论_21 ?X~Keb  
2.2.1傅里叶光学描述_21 ^GHA,cSf  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 %,1bh  
2.2.3其他成像仿真方法_30 \$W>@w0  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 }GRZCX>  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 6]1cy&SG  
2.3.2影响_36 <S<@V?h  
2.4小结_39 oYI7 .w  
参考文献_39 rK7m(  
[AA'Ko  
第3章光刻胶 *;5P65:u$>  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 XcD$xFDZ  
3.1.1光刻胶的分类_42 4'_PLOgnX  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 x(ue |UG  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 s8Bbet  
3.1.4现象学模型_48 tUaDwIu#  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 2guWWFS  
3.2.1技术方面_50 <xv@us7  
3.2.2曝光_51 Bs:INvhYW  
3.2.3曝光后烘焙_54 lpi^<LQ@l  
3.2.4化学显影_58 -T$%MX  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 /N>f#:}  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 AU0pJB'  
3.5小结_68 !,WO]Ov  
参考文献_69 8&t3a+8l  
`o4alK\  
第4章光学分辨率增强技术 cdY|z]B  
4.1离轴照明_74 js^+{~
 
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 K8,Q^!5]"  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 ]6#bp,  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 VI_8r5o  
4.2光学邻近效应校正_81 @A?Ss8p'  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 D;
nm~O%  
4.2.2线端缩短补偿_84 Jvac|rN  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 h0ml#A`h  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 #k?uYg8
 
4.3相移掩模_89 kn9ul3c  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 &BxDS .  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 ~*NG~Kn"s  
4.4光瞳滤波_100 Fp=O:]  
4.5光源掩模协同优化_102 /h6K"w=='!  
4.6多重曝光技术_106 pg0Sq9qCN  
4.7小结_109 dA03,s  
参考文献_110 IPHZ~'M  
xNAX)v3Z  
第5章材料驱动的分辨率增强 [P_@-:(O  
5.1分辨率极限的回顾_115 ,#?iu?i/  
5.2非线性双重曝光_119 1xBgb/+  
5.2.1双光子吸收材料_119 mQd L"caA  
5.2.2光阈值材料_120 9:
9gam  
5.2.3可逆对比增强材料_121 J> Z.2  
5.3双重和多重成形技术_124 h$`zuz  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 XSOSy2:  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 9^+8b9y  
5.3.3自对准双重成形_126 sH_B*cr3  
5.3.4双色调显影_127 j{&*]QTN  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 ;+;%s D  
5.4定向自组装_129 lf2Q  
5.5薄膜成像技术_133 !a9`]c  
5.6小结_135 >a%C'H.A9  
参考文献_135 ^]n:/kZ5"[  
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YSOs  
第6章极紫外光刻 ^L?2y/  
6.1EUV光源_141 1Y+g^Z;G  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 xw
Si.~.  
6.3EUV掩模_146 b%wm-p  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 |X47&Y  
6.5EUV光刻胶_156 ;X;q8J^_K_  
6.6EUV掩模缺陷_157 }t%2giJ  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 BZP{{  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 [x[nTIg  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 X+
7@8)1(  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 nG4}8  
6.8小结_167 (/$a*$  
参考文献_168 Q'~3Ik  
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B#  
第7章投影成像以外的光刻技术 /< -+*79G  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 328gTP1  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 _=YHO.  
7.1.2技术实现_179 O&g$dK!Rad  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 T/$hN hQK  
7.2无掩模光刻_186 Xte"tf9(C  
7.2.1干涉光刻_186 sI<PYi={-6  
7.2.2激光直写光刻_189 >xCc#]v&  
7.3无衍射限制的光刻_194 Xn6'*u>+;[  
7.3.1近场光刻_195 Vw";< <0HZ  
7.3.2利用光学非线性_198 9f #6Q*/  
7.4三维光刻_203 H:
 rrY  
7.4.1灰度光刻_203 i87+9X  
7.4.2三维干涉光刻_205 +'V ,z  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 Ihy76_OZ  
7.5浅谈无光刻印_209 ,V &RpKek  
7.6小结_210 #-7w|  
参考文献_211 \5DOp-2  
>NJ`*M  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 |2!cPf^8  
8.1实际投影系统中的波像差_220 M _e^KF  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 tB#-}Gf  
8.1.2波前倾斜_226 ? t_$C,A+  
8.1.3离焦像差_226 Z(c2F]  
8.1.4像散_228 3?r?)$Jk  
8.1.5彗差_229 OM (D@up  
8.1.6球差_231 J_7&nIH7  
8.1.7三叶像差_233 ><w=  
8.1.8泽尼克像差小结_233 k.6(Q_TS  
8.2杂散光_234 dkAY%ztwo  
8.2.1恒定杂散光模型_235 cr>"LAi  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 O Ce;8^  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 #,;X2%c  
8.3.1掩模偏振效应_240 h e1=  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 nO;t5d  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 `KHP?lX  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 M]uO%2  
8.3.5偏振照明_248 b |JM4jgK  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 ;
t5e]  
8.5小结_250 8dCa@r&tz  
参考文献_251 dPb@[k  
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l8|  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 L
@x#:s=  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ByivV2qd{  
9.1.1时域有限差分法_257 Q}|QgN  
9.1.2波导法_260 !~QmY,R  
9.2掩模形貌效应_262 2>'/!/+R  
9.2.1掩模衍射分析_263 A[Pz&\@  
9.2.2斜入射效应_266 TKrh3   
9.2.3掩模引起的成像效应_268 xa?   
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 s\io9'Ec  
9.2.5各种三维掩模模型_277 Y~g*"J5j  
9.3晶圆形貌效应_279 |n*<H|  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 bFwc>  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 %Kc2n9W  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 a9niXy}a(  
9.4小结_283 1zWEK]2.R  
参考文献_283 @ZtDjxN &  
7!jbID~  
第10章先进光刻中的随机效应 X.FFBKjf[e  
10.1随机变量和过程_288 m8NKuhu  
10.2现象_291 ]x^v;r~  
10.3建模方法_294 +kZW:t!-  
10.4依存性及其影响_297 sY@x(qkIOc  
10.5小结_299 <p\iB'y  
参考文献_299 ofHe8a8  
专业词汇中英文对照表 \Ss6F]K]  
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