《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 Anpp`>}N  
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第1章光刻工艺概述 Z+EZ</'(a  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ,'t&L]  
1.2光刻技术的发展史_3 bG*l_  
1.3投影光刻机的空间成像_5 uPN^o.,/.  
1.4光刻胶工艺_10 C`3XOth  
1.5光刻工艺特性_12 &'i>d&  
1.6小结_18 ZAeJTCCk  
参考文献_18 $!!y v'K  
]\>MDH  
第2章投影光刻的成像原理 !>!jLZ0  
2.1投影光刻机_20 ;14Q@yrZ0  
2.2成像理论_21 -:Fr($^  
2.2.1傅里叶光学描述_21 i$}G[v<4  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 7<(U`9W/q  
2.2.3其他成像仿真方法_30 #K$0%0=M  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 q o-|.I  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 dD'KP4Io@  
2.3.2影响_36 zL50|U0H  
2.4小结_39 $Jn.rX0}$  
参考文献_39 Y#-c<o}f  
vl}}h%BC  
第3章光刻胶 `WxGU  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42  tj8o6N#  
3.1.1光刻胶的分类_42 F.(e}EMyNh  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 1cMdoQ  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 ygm6(+  
3.1.4现象学模型_48 QkTU@T6>o  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 NU{eoqaT  
3.2.1技术方面_50
=%>E8)Jb  
3.2.2曝光_51 ?$<~cD" Sw  
3.2.3曝光后烘焙_54 < 0S\P=\  
3.2.4化学显影_58 $ntC{a>&  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 ,,IK}  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 =*6frC~  
3.5小结_68 i?#U>0!  
参考文献_69 0|0IIgy  
j\Fbi3H  
第4章光学分辨率增强技术 H.l WHM+H4  
4.1离轴照明_74 ;F71f#iY  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 0lcwc"_DZX  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 ov\%*z2=  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 c^&:':Z%'  
4.2光学邻近效应校正_81 QZO<'q`L  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 &@2`_%QtA  
4.2.2线端缩短补偿_84 K&=6DvfR  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 v] Xy^7?  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 $SniQ  
4.3相移掩模_89 i !SN"SY  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 ^;\6ju2  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 rXe+#`m2
 
4.4光瞳滤波_100 d)$seZB  
4.5光源掩模协同优化_102 jlUT9Zp  
4.6多重曝光技术_106 Ur""&@  
4.7小结_109 F:0 E- z'  
参考文献_110 b+CvA(*  
Na.e1A&?j  
第5章材料驱动的分辨率增强 xFp9H'j{  
5.1分辨率极限的回顾_115  f|yq~3x)  
5.2非线性双重曝光_119 REk^pZ3B  
5.2.1双光子吸收材料_119 XFww|SG$  
5.2.2光阈值材料_120 Fy_~~nI0  
5.2.3可逆对比增强材料_121 x^pHP
|<3`  
5.3双重和多重成形技术_124 5(Xq58nhxI  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 g^\>hjNX  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 
x_4{MD^%  
5.3.3自对准双重成形_126 J+hifO  
5.3.4双色调显影_127 (1Jc-`  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 . vea[  
5.4定向自组装_129 BT5~MYBl  
5.5薄膜成像技术_133 |B),N f|a  
5.6小结_135 $'
)Uie<!8  
参考文献_135 
zfGr1;  
~@D!E/
hZx  
第6章极紫外光刻 O0mQHpi:  
6.1EUV光源_141 OnE~0+  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 y#lg)nB  
6.3EUV掩模_146 ADA*w 1  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 g8Zf("  
6.5EUV光刻胶_156 %BRll  
6.6EUV掩模缺陷_157 !
/e8x
;_  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 k~$}&O  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 u$x'P <b  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 KVpQ,x&q~  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 Pj*"2 LBW#  
6.8小结_167 ]#$rTWMl'  
参考文献_168 #}'sknvM}  
8.' THLI  
第7章投影成像以外的光刻技术 yfe4}0}  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 7I{rhA  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 Ymg,NkiP0  
7.1.2技术实现_179 gAy"W$F  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 X.ZY1vO  
7.2无掩模光刻_186 ~NO'8Mr  
7.2.1干涉光刻_186 "I[uD)$  
7.2.2激光直写光刻_189 V"sm+0J  
7.3无衍射限制的光刻_194 e= _7Q.cn  
7.3.1近场光刻_195 J)=Ts({  
7.3.2利用光学非线性_198 6J\A%i  
7.4三维光刻_203 K%>3ev=y.s  
7.4.1灰度光刻_203 dxWG+S  
7.4.2三维干涉光刻_205 D4QLlP  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 i}ti  
7.5浅谈无光刻印_209 t3aDDu  
7.6小结_210 DYL\=ya1  
参考文献_211 Jb`yK@x  
f<2<8xS  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 Csx??T_>r  
8.1实际投影系统中的波像差_220 @LDu08lr  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 %0Ke4
c  
8.1.2波前倾斜_226 zzyD'n7D  
8.1.3离焦像差_226 @)Sd3xw[  
8.1.4像散_228 TZS:(MJ9M  
8.1.5彗差_229 )'t&LWS~  
8.1.6球差_231 P;lDri  
8.1.7三叶像差_233 =:v5` :  
8.1.8泽尼克像差小结_233 C]%}L%,  
8.2杂散光_234 $PKUcT0N9  
8.2.1恒定杂散光模型_235 hc5iIJ]  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 j2,w1f}T  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 %KmhR2v  
8.3.1掩模偏振效应_240 KH76Vts  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 >WW5;7$  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 83YQ c  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 [5jXYqD=vj  
8.3.5偏振照明_248 g2&P  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 hvU\l`m  
8.5小结_250 Qx}hiv/  
参考文献_251 l(
0:CM  
u1i ?L'  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 &$E.rgtg  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 BZWGXzOFh  
9.1.1时域有限差分法_257 _^u^@.Q'i<  
9.1.2波导法_260 Y^J/jA0\B  
9.2掩模形貌效应_262 W&Gt^5  
9.2.1掩模衍射分析_263 dRnO5 7+{  
9.2.2斜入射效应_266 \jThbCb  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 91j.%#[v'  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 k8ej.  
9.2.5各种三维掩模模型_277 ( G#W6  
9.3晶圆形貌效应_279 XYsU)(;j  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 =OF]xpI'&a  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 @c#M^:9Dc  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 [i)G:8U  
9.4小结_283 /2e,,)4g  
参考文献_283 AwO'%+Bv  
lC(g&(\{  
第10章先进光刻中的随机效应 K yFR;.F-  
10.1随机变量和过程_288 (J/!9NS:  
10.2现象_291 
G .k\N(l  
10.3建模方法_294 Z:s:NvFX  
10.4依存性及其影响_297 WL/9r *jW  
10.5小结_299 b_j8g{/9  
参考文献_299 |F^h>^ x  
专业词汇中英文对照表 AIa#t#8${  
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