《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 o/o:2p.  
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第1章光刻工艺概述 CVXytS?@x  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 KjB/.4lLq  
1.2光刻技术的发展史_3 nW?R"@Zm  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ]IJv-(  
1.4光刻胶工艺_10 G%u9+XV1#  
1.5光刻工艺特性_12 c-j_INGm  
1.6小结_18  8RwX=  
参考文献_18 @6o]chJo  
DG;y6#|p  
第2章投影光刻的成像原理 fRTo.u  
2.1投影光刻机_20 bl/,*Wx:4.  
2.2成像理论_21 /NF#+bx  
2.2.1傅里叶光学描述_21 dV8iwI  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ;1DdjETr  
2.2.3其他成像仿真方法_30 uHNpfKnZ  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 jw6Tj;c  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 (P6vOo  
2.3.2影响_36 v[<Bjs\q5  
2.4小结_39 GbU@BN+_  
参考文献_39 5+X_4lEJK(  
NBl __q  
第3章光刻胶 5,b]V)4  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 K X]oE+:  
3.1.1光刻胶的分类_42 V:bV ?lt  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 o07IcIo  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 }fhHXGK.  
3.1.4现象学模型_48 2Ohp]G  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 +?`b=6e(`  
3.2.1技术方面_50 !d9AG|  
3.2.2曝光_51 'PdmI<eXQ  
3.2.3曝光后烘焙_54 2H?d+6Pt3  
3.2.4化学显影_58 3]E(mRX  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 J7-^F)lu-  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 $M"0BZQ?y!  
3.5小结_68 kReG:  
参考文献_69 e&X>F"z2  
ST8!i`Q$  
第4章光学分辨率增强技术 :
cp   
4.1离轴照明_74 dYOF2si~%  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 g8pm2o@S  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 2Eh@e([PMs  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 :,*eX' fH  
4.2光学邻近效应校正_81 J.M.L$  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 k ~6-cx  
4.2.2线端缩短补偿_84 Ri?\m!o  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 1
"K*._K  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 [ug,jEH"S  
4.3相移掩模_89 [^PCm Z6n  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 }WP-W  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 p4/$EPt)lY  
4.4光瞳滤波_100
.?#uxd~>  
4.5光源掩模协同优化_102 WO%h"'iJ  
4.6多重曝光技术_106 !eD+GDgE]  
4.7小结_109 Nh)[rx  
参考文献_110 w;`m- 9<Y  
hH+bt!aH  
第5章材料驱动的分辨率增强 q/6UK =  
5.1分辨率极限的回顾_115 @Y'I,e  
5.2非线性双重曝光_119 m7 XjP2  
5.2.1双光子吸收材料_119 9d[qhkPu)  
5.2.2光阈值材料_120 k7bl'zic  
5.2.3可逆对比增强材料_121 ,@Z_{,b  
5.3双重和多重成形技术_124 ^Qh-(u`  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 j|'R$|  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 q9}2  
5.3.3自对准双重成形_126 -gKpL\  
5.3.4双色调显影_127 B7"Fp  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 \K`jCsT  
5.4定向自组装_129 l`rC0kJ]  
5.5薄膜成像技术_133 8&a_A:h  
5.6小结_135 *PB/iVH%6  
参考文献_135 =l|>.\-  
R+. Nn  
第6章极紫外光刻 5t'Fv<g  
6.1EUV光源_141 cCng5Nq,c  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 lYQtv=q  
6.3EUV掩模_146 x1DVD!0~{  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151  ~u/@rqF  
6.5EUV光刻胶_156 H%.zXQ4}n  
6.6EUV掩模缺陷_157 TU%"jb5  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 p5SX1PPQ  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 tyXl}$)y  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 Dt {')  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 2YIF=YWO},  
6.8小结_167 FX 1C e  
参考文献_168  <qn,  
mmN|F
$;r  
第7章投影成像以外的光刻技术 tP]q4i
 
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 |a(Q4 e/,  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 4[
l^0  
7.1.2技术实现_179 |e"/Mf[  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 ?Y!^I2Y6  
7.2无掩模光刻_186 y*KC*/'"  
7.2.1干涉光刻_186 4hNwKe"Ki  
7.2.2激光直写光刻_189 /W9 &Ke  
7.3无衍射限制的光刻_194 %AgA -pBp  
7.3.1近场光刻_195 9UmBm#"  
7.3.2利用光学非线性_198 ;vUxO<cKFq  
7.4三维光刻_203 00,9azs  
7.4.1灰度光刻_203 5vGioO  
7.4.2三维干涉光刻_205 lu3.KOD/  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 {*__B} ,N  
7.5浅谈无光刻印_209 T/7vM6u  
7.6小结_210 3jg'1^c  
参考文献_211 x)\V lR  
7%opzdS#  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 4f  jC  
8.1实际投影系统中的波像差_220 q4k`)?k9  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 w7ZG oh(  
8.1.2波前倾斜_226 zkG>u,B}  
8.1.3离焦像差_226 O99mic  
8.1.4像散_228 5l&jPk!=  
8.1.5彗差_229 [edH%S}\  
8.1.6球差_231 /.2u.G  
8.1.7三叶像差_233 AI R{s7N  
8.1.8泽尼克像差小结_233 #ZF>WoC@e?  
8.2杂散光_234 -=>U =|  
8.2.1恒定杂散光模型_235 Lv3XYZ
gW~  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 w#
<^RKk  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 kyK'  
8.3.1掩模偏振效应_240 OT%V{hD  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 ,$PFI(Whk  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 'oCm.~;_  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 @jKDj]\  
8.3.5偏振照明_248 5R"
2Wd  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 rx}*u3x=  
8.5小结_250 c G*(C
  
参考文献_251 4D GY6PS  
fo;6huz  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 t,1in4sN  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 zw< 4G[u  
9.1.1时域有限差分法_257 OuNj:  
9.1.2波导法_260 jF4csO=E  
9.2掩模形貌效应_262 |""=)-5N  
9.2.1掩模衍射分析_263 }!=gP.Zu^  
9.2.2斜入射效应_266 j;G[%gi6{  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 H)`@2~Y  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 [Ek42%  
9.2.5各种三维掩模模型_277 hRRkFz/0&  
9.3晶圆形貌效应_279 _o&94&  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 2aFT<T0  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 PE|PwqX  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 /=q.tDH=I  
9.4小结_283 UDVf@[[hN  
参考文献_283 Hw y5G;  
xl3zy~;M  
第10章先进光刻中的随机效应 jp%+n  
10.1随机变量和过程_288 ia_Z\q  
10.2现象_291 Y+5"uq<'  
10.3建模方法_294 ZWFG?8lJ  
10.4依存性及其影响_297 f.J9) lfb  
10.5小结_299 E*OG-r   
参考文献_299 })KJ60B  
专业词汇中英文对照表 M5F(<,n;  
u]P03B