《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 (o`{uj{
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AK@9?_D  
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第1章光刻工艺概述 O%bEB g  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 }_ 9Cxji  
1.2光刻技术的发展史_3 ob8qe,_'  
1.3投影光刻机的空间成像_5 h$2</J"  
1.4光刻胶工艺_10 zCk^B/j sM  
1.5光刻工艺特性_12 %7|9sQ:  
1.6小结_18 ZHa"isl$e  
参考文献_18 @;"|@!l|  
}}59V&'t  
第2章投影光刻的成像原理 VVlr*`  
2.1投影光刻机_20 -fDnA4;  
2.2成像理论_21 q.;u?,|E/  
2.2.1傅里叶光学描述_21 /'/Xvm3  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 5 sX+~Q  
2.2.3其他成像仿真方法_30 JD|=>)  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 'dn]rV0(C  
2.3.1分辨率极限和焦深_31  094o'k  
2.3.2影响_36 W)bLSL]`E  
2.4小结_39 ?32&]iM oW  
参考文献_39 FYpzQ6s~  
s%W C/ZK  
第3章光刻胶 ~A\G
T$  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 fb~ytl<  
3.1.1光刻胶的分类_42 {z{bY\  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 o4Om}]Ti  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 tS6qWtE  
3.1.4现象学模型_48 %%[LKSTb  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 I`!<9OTBj  
3.2.1技术方面_50 LcTP#
 
3.2.2曝光_51 )P sY($ &  
3.2.3曝光后烘焙_54 2GDD!w#!j  
3.2.4化学显影_58 *_d7E   
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 9P+-#B  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 9w7n1k.  
3.5小结_68 koug[5T5  
参考文献_69 EFM5,gB.m  
eceP0x  
第4章光学分辨率增强技术 %WjXg:R  
4.1离轴照明_74 te-jfmu2  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 \XZ/v*d0  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 <<][hQs  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 9dx/hFA  
4.2光学邻近效应校正_81 RMdk:YvBg  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 asppRL||  
4.2.2线端缩短补偿_84 xqu}cz  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 X aMJDa|M  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 ;~m8;8)  
4.3相移掩模_89 k5'Vy8q  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 w9EOC$|Y  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 0Qf,@^zL*  
4.4光瞳滤波_100 3[Qxd{8r  
4.5光源掩模协同优化_102 zBzZxK>$  
4.6多重曝光技术_106 "ut39si  
4.7小结_109 )"7iJb<E  
参考文献_110 Pd_U7&w,5  
L0TFo_  
第5章材料驱动的分辨率增强 ivJ@=pd)B  
5.1分辨率极限的回顾_115 SE1=
>S%p  
5.2非线性双重曝光_119 qm/22:&v5  
5.2.1双光子吸收材料_119 k_rt&}e+Gi  
5.2.2光阈值材料_120 |ATvS2  
5.2.3可逆对比增强材料_121 D2Kp|F;  
5.3双重和多重成形技术_124 g}1B;zGf  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 ,l\-xSM  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 w;4<h8Wn5  
5.3.3自对准双重成形_126 nFHUy9q  
5.3.4双色调显影_127 mn"G_I  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 ;n*.W|Uph  
5.4定向自组装_129 6d<r= C=  
5.5薄膜成像技术_133 #A JDWelD  
5.6小结_135 l
Z]ZDb?P  
参考文献_135 (c=6yV@  
6 ob@[ @  
第6章极紫外光刻 Z>k#n'm^z  
6.1EUV光源_141 T $>&[f$6  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 dy%;W%   
6.3EUV掩模_146 |\pj;XU  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 <l
Pm1/8  
6.5EUV光刻胶_156 )Q&(f/LT  
6.6EUV掩模缺陷_157 |4;Fd9q^m  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 `EA\u]PwQ  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 ) j#`r/  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 `ts$(u.w  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 "c
%0P"u  
6.8小结_167 9<6;Hr,>G  
参考文献_168 {HltvO%8  
'CM|@Zz%  
第7章投影成像以外的光刻技术 Q4#m\KK;i9  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 LM<qT-/qs  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ?jv
/TBZX4  
7.1.2技术实现_179 &R'c.  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 O`IQ(,yef  
7.2无掩模光刻_186 t&C1Oo}=3  
7.2.1干涉光刻_186 _^Ubs>d=*  
7.2.2激光直写光刻_189 itt3.:y  
7.3无衍射限制的光刻_194 ;#W2|'HD  
7.3.1近场光刻_195 }c,}V  
7.3.2利用光学非线性_198 C!<Ou6}!b  
7.4三维光刻_203 6jD=F ^jw  
7.4.1灰度光刻_203 X:"i4i[}{9  
7.4.2三维干涉光刻_205 n,y ZRY  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 4#MtF'J  
7.5浅谈无光刻印_209 ^,TO#%$iE  
7.6小结_210 G:<aB  
参考文献_211 k_#ak%m/  
]g3JZF-  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 >C>.\  
8.1实际投影系统中的波像差_220 NZ:,ph  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 =7=]{Cx[  
8.1.2波前倾斜_226 pK>N-/?a  
8.1.3离焦像差_226 {BN#h[#B{  
8.1.4像散_228 ( Y[Q,  
8.1.5彗差_229 @Md/Q~>  
8.1.6球差_231 w3ResQ   
8.1.7三叶像差_233 ~g]Vw4pv  
8.1.8泽尼克像差小结_233 e'NJnPO  
8.2杂散光_234 0*3R=7_},o  
8.2.1恒定杂散光模型_235 VPJElRSH
 
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 {UI+$/v#  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 I5p? [  
8.3.1掩模偏振效应_240 Z"xvh81P  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 reu*53r]  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 UcHJR"M~c  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 -l*|M(
N\  
8.3.5偏振照明_248 -$ls(oot  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 B6DYZ+7A  
8.5小结_250 W:2( .?  
参考文献_251 6@5+m 0`u3  
`Y$4 H,8L  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 *Hn8)x}E  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 L,/%f<wd  
9.1.1时域有限差分法_257 %$Tji  
9.1.2波导法_260 eu-*?]&Di  
9.2掩模形貌效应_262 d7;um<%zn  
9.2.1掩模衍射分析_263 c7k~S-nU  
9.2.2斜入射效应_266 &DX! f  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 )mT<MkP  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 IM'r8
V  
9.2.5各种三维掩模模型_277 'n3uu1C  
9.3晶圆形貌效应_279 }o(-=lF  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 mO7
]9p  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 QA`sx
 
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 QZ  
9.4小结_283 B~ GbF*j  
参考文献_283 +7.',@8_V  
83_h J  
第10章先进光刻中的随机效应 Xl#ggub?  
10.1随机变量和过程_288 zTSTEOP}%Y  
10.2现象_291 f}P3O3Yv&  
10.3建模方法_294 vpr.Hn  
10.4依存性及其影响_297 +I|vzz`ZVr  
10.5小结_299 gR;i(81U  
参考文献_299 wlqksG[B  
专业词汇中英文对照表 tS=(}2Q  
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