《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 qPK*%Q<;  
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YeL#jtC  
BWa,f8  
X6X $Pve  
第1章光刻工艺概述 QB uMJm  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 =pO^7g  
1.2光刻技术的发展史_3 jDfC=a])  
1.3投影光刻机的空间成像_5
&*,#5.  
1.4光刻胶工艺_10 wC+u73599  
1.5光刻工艺特性_12 HY*Kb+[  
1.6小结_18 u#$]?($}d  
参考文献_18 *boR`[Ond  
@7]yl&LZ  
第2章投影光刻的成像原理 u@UMP@"#  
2.1投影光刻机_20 -t'jNR'  
2.2成像理论_21 xb~yM%*c  
2.2.1傅里叶光学描述_21 EStB#V^  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 Y0@"fU35  
2.2.3其他成像仿真方法_30 O)*+="Rg  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 HGs $*  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 4#xDgxg\f  
2.3.2影响_36 3g,`.I_  
2.4小结_39 `l ^9/_g'6  
参考文献_39 R6Km\N  
x(6SG+Kr  
第3章光刻胶 <I\/n<*  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 kR-SE5`Jk  
3.1.1光刻胶的分类_42 5|j<`()H :  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ^R7lom.  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 EF[@$j   
3.1.4现象学模型_48 5y[Oj^  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 ^e_hLX\SW  
3.2.1技术方面_50 feDlH[$  
3.2.2曝光_51 H9`)BbR  
3.2.3曝光后烘焙_54 IqaT?+O\?r  
3.2.4化学显影_58 N=5a54!/  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 !Vn\
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3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 Bi3<7  
3.5小结_68 s4y73-J^.v  
参考文献_69 pYZmz  
KE5kOU;  
第4章光学分辨率增强技术 WUe{vV#S'0  
4.1离轴照明_74 +US!YU  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 6 l|DU7i  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 @]%IK
(|  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 .\ULbN3Z  
4.2光学邻近效应校正_81 (&F}/s gbi  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 }%ojw |  
4.2.2线端缩短补偿_84 0WW2i{7`U  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 }(J}f)  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 rxvx  
4.3相移掩模_89 D&&9^t9S  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 #4Rx]zW^%  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 kzQ+j8.,U  
4.4光瞳滤波_100 en4k/w_  
4.5光源掩模协同优化_102 y1eWpPJa  
4.6多重曝光技术_106 r[`9uVT/  
4.7小结_109 )hn6sXo+  
参考文献_110 *eTqVG.  
D09Sg%w  
第5章材料驱动的分辨率增强 ~?Qe?hB  
5.1分辨率极限的回顾_115 jjB~G^n  
5.2非线性双重曝光_119 OhQgF  
5.2.1双光子吸收材料_119 UJAv`yjG  
5.2.2光阈值材料_120 K( c\wr\6  
5.2.3可逆对比增强材料_121 n`B:;2X,
 
5.3双重和多重成形技术_124 17%,7P9pg  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 |PCm01NU!  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 p?%y82E  
5.3.3自对准双重成形_126 Olt?~}  
5.3.4双色调显影_127 8`B3;Zmm  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 36&e.3/#  
5.4定向自组装_129 q.^;!f1  
5.5薄膜成像技术_133 Mlg0WrJ|2  
5.6小结_135 T\6dm/5  
参考文献_135 |/|5UiX7  
5,lEx1{_  
第6章极紫外光刻 WtsFz*`)y  
6.1EUV光源_141 g#pr yYz  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 T9E+\D  
6.3EUV掩模_146 93
)sk/j  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 5FPM`hLT  
6.5EUV光刻胶_156 F`9xVnK=  
6.6EUV掩模缺陷_157 :\`o8`
 
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 #>("CAB02T  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 6xx<Y2@  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 A7Cm5>Y_S  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166
lV3x*4O=  
6.8小结_167 #K_
ii)n  
参考文献_168 y4 #>X  
K^)Eb(4  
第7章投影成像以外的光刻技术 1APe=tJ  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 $D~0~gn~  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 #'nr Er <  
7.1.2技术实现_179 DZ3wCLQtK  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 a{'vN93  
7.2无掩模光刻_186 Fo (fWvz  
7.2.1干涉光刻_186 [: n'k  
7.2.2激光直写光刻_189 x}wG:K  
7.3无衍射限制的光刻_194 z3{G9Np  
7.3.1近场光刻_195 kr^P6}'  
7.3.2利用光学非线性_198 :".ARCg  
7.4三维光刻_203 Y!aSs3c  
7.4.1灰度光刻_203 L:$ ,v^2  
7.4.2三维干涉光刻_205 u"r`3P`  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 WH#1zv  
7.5浅谈无光刻印_209 bI7Vwyz  
7.6小结_210 

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参考文献_211 &)# ihK_  
jodIv=C  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 TM_
_I\+Q  
8.1实际投影系统中的波像差_220 L81ZbNU?$  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 ;RZ )  
8.1.2波前倾斜_226 58}U^IW  
8.1.3离焦像差_226 R"/GQ`^AqA  
8.1.4像散_228 KC*e/J  
8.1.5彗差_229 x xHY+(m  
8.1.6球差_231 5zK4Fraf  
8.1.7三叶像差_233 >mbHy<<  
8.1.8泽尼克像差小结_233 v ,i%Q$  
8.2杂散光_234 t4."/.=+  
8.2.1恒定杂散光模型_235 ih-#5M@  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 m+`cS=-.  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 NR$3%0 nC6  
8.3.1掩模偏振效应_240 <`8n^m*  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 p%up)]?0  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 OR P\b  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 XW2b|%T  
8.3.5偏振照明_248 o"s)eh  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 Y,qI@n<  
8.5小结_250 j7Yu>cr  
参考文献_251 f=+
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;}I:\P  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 S3C]AhW;  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 gi3F` m  
9.1.1时域有限差分法_257 sU<Wnz\[  
9.1.2波导法_260 >.Pnkx*  
9.2掩模形貌效应_262 ^`i#$  
9.2.1掩模衍射分析_263 [Q~#82hBhY  
9.2.2斜入射效应_266 MVpGWTH@F  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 X;+sUj8  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 xJpA0_xfG  
9.2.5各种三维掩模模型_277 B6+khuG(  
9.3晶圆形貌效应_279 B B{$&Oh  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 L?b~k=  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ql Ax  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 $j%'{)gK  
9.4小结_283 RXMISt3+{y  
参考文献_283 tH@Erh|%  
^cC,.Fdw  
第10章先进光刻中的随机效应 l K{hVqpt  
10.1随机变量和过程_288 etDk35!h~,  
10.2现象_291 BiLY(1,  
10.3建模方法_294 +yG~T  
10.4依存性及其影响_297 >a<.mU|#  
10.5小结_299 6D;Sgc5"  
参考文献_299 vQG5*pR*w  
专业词汇中英文对照表 UkwP  
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