《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 ^N2N>^'&1.  
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P3u,)P&  
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第1章光刻工艺概述 I6B4S"Q5<  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 " +n\0j;  
1.2光刻技术的发展史_3 g#buy  
1.3投影光刻机的空间成像_5 'V-_3WWxU  
1.4光刻胶工艺_10 @ApX43U(  
1.5光刻工艺特性_12 FaVeP%v  
1.6小结_18 JAA{5@ST  
参考文献_18 Qk_`IlSd  
DTi\ 4&41  
第2章投影光刻的成像原理 m=.}}DcSs  
2.1投影光刻机_20 8/16<yZ  
2.2成像理论_21 !v`C-1}70  
2.2.1傅里叶光学描述_21 Wgr`)D  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ZUiInO  
2.2.3其他成像仿真方法_30 2B<0|EGtzw  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 Y#[>j4<T  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 xO nW~Z  
2.3.2影响_36 klqN9d9k  
2.4小结_39 <z+b88D  
参考文献_39 g\O&gNq<)-  
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第3章光刻胶 e_{!8u.+  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 gJv;{;%  
3.1.1光刻胶的分类_42 |Vq&IfP  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 h~zG*B5F  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 {95u^S=  
3.1.4现象学模型_48 fL7u419=  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 v7kR]HU[y  
3.2.1技术方面_50 -jJw wOm  
3.2.2曝光_51 vs|_l!n3  
3.2.3曝光后烘焙_54 5f'<0D;K  
3.2.4化学显影_58 ./!6M  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 mhXSbo9w-  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 _o-lNt+  
3.5小结_68 4EB&Zmg[K  
参考文献_69 *gxo!F}  
i8Y$cac!  
第4章光学分辨率增强技术 buv*qPO  
4.1离轴照明_74 EDkxRfY2/  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 =cN!h"C[  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 Es~|:$(N]|  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 `AO<r  
4.2光学邻近效应校正_81 :1O1I2L0  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 v1E=P7}\{s  
4.2.2线端缩短补偿_84 ]|y]?7  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 |y*-)t  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 xQetAYP`  
4.3相移掩模_89 E*F)jP,yo  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 DIU9Le
  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 sivd@7r\Fa  
4.4光瞳滤波_100  t=;84lA  
4.5光源掩模协同优化_102
az=(6PX  
4.6多重曝光技术_106 I )LO@  
4.7小结_109 ?(!<m'jEy  
参考文献_110 /#,3JU$w  
H"g$qSx  
第5章材料驱动的分辨率增强 q:9#Vcw  
5.1分辨率极限的回顾_115 clwJ+kku@  
5.2非线性双重曝光_119 YsHZFF  
5.2.1双光子吸收材料_119 Rt{`v<  
5.2.2光阈值材料_120 3w B03\P  
5.2.3可逆对比增强材料_121 ca!=D $  
5.3双重和多重成形技术_124 =`l).GnN2`  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 27NhYDo  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 $YM6}D@  
5.3.3自对准双重成形_126 y+PiH  
5.3.4双色调显影_127 { fmY_T[Q8  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 {0#p,l  
5.4定向自组装_129 ]-D;t~  
5.5薄膜成像技术_133 F9|\(St &  
5.6小结_135 L,XWX8  
参考文献_135 j9=QOq  
x\ pC&  
第6章极紫外光刻 nv9kl Q@  
6.1EUV光源_141 >+ZD 6l/  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 ( _{\tgSm  
6.3EUV掩模_146 <Y
(lRM{  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 G\?q{  
6.5EUV光刻胶_156 j3
W)5ZX  
6.6EUV掩模缺陷_157 &$vW  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 <u"h'e/oW_  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 pzMli^  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 B`/cKfg  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 Q6?}/p  
6.8小结_167 dtdz!'q)Y  
参考文献_168 K`9ph"(Z  
"z^&>#F  
第7章投影成像以外的光刻技术 !*?Ss  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 4}~zVT0'~  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ^}-(8~_en  
7.1.2技术实现_179 zlh}8Es  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 H n
Rd  
7.2无掩模光刻_186 ;(kU:b|j  
7.2.1干涉光刻_186 Y2DR oQ  
7.2.2激光直写光刻_189 4I>I  
7.3无衍射限制的光刻_194 0#}@-e  
7.3.1近场光刻_195 _%)v9}D  
7.3.2利用光学非线性_198 v;9VX   
7.4三维光刻_203 NC*h7  
7.4.1灰度光刻_203 ^XV=(k;~bX  
7.4.2三维干涉光刻_205 M.Fu>Xi  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 Om%
9 x  
7.5浅谈无光刻印_209 Lmy ^/P%  
7.6小结_210 *S).@j\{W  
参考文献_211 By t{3$  
ccWz,[  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 u"%i3%Yjh  
8.1实际投影系统中的波像差_220 E47U &xL  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 w%no6 ;  
8.1.2波前倾斜_226 N{]|
!#  
8.1.3离焦像差_226 w,\#)<boyb  
8.1.4像散_228 yTDlDOmV!
 
8.1.5彗差_229 <uugT9By  
8.1.6球差_231 |]5g+sd  
8.1.7三叶像差_233 ,3k"J4|d  
8.1.8泽尼克像差小结_233 *q8L$D  
8.2杂散光_234 x,\PV>  
8.2.1恒定杂散光模型_235
5-L?JD4&  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 W9{>.E?  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 NXvu}&H  
8.3.1掩模偏振效应_240 {]\QUXH  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 5Pis0fa  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 FTtGiGd|Zy  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 I9ga8mG4-'  
8.3.5偏振照明_248 ~;Ga65_6_  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 SC~cryb  
8.5小结_250 Tc6H%itV  
参考文献_251 Ix,`lFbH  
$1N_qu  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 qA<PF+f  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 #Nt?4T<  
9.1.1时域有限差分法_257 G)b6Rit  
9.1.2波导法_260 q%=`PCty  
9.2掩模形貌效应_262 UW+|1Bj_:  
9.2.1掩模衍射分析_263 eKlh }v  
9.2.2斜入射效应_266 )#9R()n!  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 cvpcadN[  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 #c V_p  
9.2.5各种三维掩模模型_277 nT0FonK>  
9.3晶圆形貌效应_279 sKhX0,s&  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 fbKL31PI  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 &|7pu=  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 P`HE3?r  
9.4小结_283 @|xcrEnP}B  
参考文献_283 $X~4J  
;T!mNKl  
第10章先进光刻中的随机效应 r%hnl9
  
10.1随机变量和过程_288 C,R_`%b%  
10.2现象_291 #/ 1  
10.3建模方法_294 M0<gea\ =  
10.4依存性及其影响_297 {~a=aOS  
10.5小结_299 Akf?BB3bC  
参考文献_299 " 1YARGu  
专业词汇中英文对照表 RsS?ibozl  
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