《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 O=G2bdY{,  
7f~DD8R  
_T<ney}Y<  
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0&$e:O'v  
第1章光刻工艺概述 LPvyfD;Zy  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ]nEN3RJ  
1.2光刻技术的发展史_3 m{I_E G  
1.3投影光刻机的空间成像_5 [}+0NGgR  
1.4光刻胶工艺_10 ;XZ5r|V}  
1.5光刻工艺特性_12 Wi'BX#xCB  
1.6小结_18 M%1-fd  
参考文献_18 /px*v<Aw1  
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"mpE+U*  
第2章投影光刻的成像原理 \#lh b  
2.1投影光刻机_20 3Yp_k  
2.2成像理论_21 =5+M]y E<  
2.2.1傅里叶光学描述_21 GmcxN<  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 9c}LG5  
2.2.3其他成像仿真方法_30 ?A
8Uf=  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 pz:$n_XC}  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 tI{pu}/"#  
2.3.2影响_36 49@ pA-  
2.4小结_39 L`V6\Ix(I  
参考文献_39 sYYg5vL9  
o%+KS5v!  
第3章光刻胶 ? Ls]k  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 T=ox;r  
3.1.1光刻胶的分类_42 ;^=eiurv  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 "a?k #!E  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 MVe5j+8  
3.1.4现象学模型_48 FwBktuS  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 a' .o  
3.2.1技术方面_50 s^AQJ{X  
3.2.2曝光_51 13}=;4O  
3.2.3曝光后烘焙_54 t/u
$Ts  
3.2.4化学显影_58 Fu^^Jex  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 XqyfeY5t  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 |*Z'WUv  
3.5小结_68 Njc3X@4=  
参考文献_69 "Y7RvL!U  
+G7A.d`V}  
第4章光学分辨率增强技术 Yn'XSV|g  
4.1离轴照明_74 ]W5s!T_  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 O8[dPmW  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 X`.4byqdK  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 BaR9X ?~O$  
4.2光学邻近效应校正_81 4TGg`$e;  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 Rdwr?:y(]  
4.2.2线端缩短补偿_84 +S<2d.&~  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ;k (}~_  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 vJtQ&,zG  
4.3相移掩模_89 WN?!(r<qA_  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 %Kw5b ;  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 Gvtd )9^<  
4.4光瞳滤波_100 Lyt6DvAp"  
4.5光源掩模协同优化_102 cd)<t8^KE  
4.6多重曝光技术_106 =y0!-y  
4.7小结_109 `axNeqM  
参考文献_110 zp% MK+x  
No=f&GVg  
第5章材料驱动的分辨率增强 3|/ ;`KfQ  
5.1分辨率极限的回顾_115 L6r&Y~+/  
5.2非线性双重曝光_119 !yojZG MB  
5.2.1双光子吸收材料_119 Q\m"n^XN  
5.2.2光阈值材料_120 y?_tSnDK  
5.2.3可逆对比增强材料_121 K4,VSy1byI  
5.3双重和多重成形技术_124 BL]!j#''KE  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 Pkc4=i,`A  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 cvn,&G-`  
5.3.3自对准双重成形_126 ?uk|x!Ko]  
5.3.4双色调显影_127 *Ty>-aS1  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 n." j0kc7=  
5.4定向自组装_129 h,TDNR<1L  
5.5薄膜成像技术_133 +&(sZFW5o  
5.6小结_135 XfViLBY( >  
参考文献_135 pC_2_,6$  
&|/C*2A  
第6章极紫外光刻 6CY_8/:zL  
6.1EUV光源_141 <0JW[m  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 nzhQ\'TC  
6.3EUV掩模_146 4&$hBn=!  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 _Xsn1  
6.5EUV光刻胶_156 p
1J%=  
6.6EUV掩模缺陷_157 khjW9Aa8t  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 ;2#7"a^  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 wQPjo!FEX  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 F'pD_d9]e  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 Vi5RkUY]  
6.8小结_167 N@tzYD|hA  
参考文献_168 @>X."QbE  
{ F.Ihw  
第7章投影成像以外的光刻技术 +SUQRDF@i  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 Kc{fT^E  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 c9r2kc3cy{  
7.1.2技术实现_179 pBK[j([  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 ME0ivr*=:  
7.2无掩模光刻_186 ]%>;R^HY  
7.2.1干涉光刻_186 #G)ZhgB^  
7.2.2激光直写光刻_189 f\^FUJy  
7.3无衍射限制的光刻_194 sI9~TZ :  
7.3.1近场光刻_195 ,^AkfOY7"  
7.3.2利用光学非线性_198 Rjm5{aa-  
7.4三维光刻_203 }KS[(Q  
7.4.1灰度光刻_203 h7gH4L!'u  
7.4.2三维干涉光刻_205 oVc_(NH-  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 KZ/}Iy>As  
7.5浅谈无光刻印_209 )7c^@I;7  
7.6小结_210 Ji%T|KR_  
参考文献_211 g>VkQos5"  
XK(<N<Z@|e  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容
]9;WM.  
8.1实际投影系统中的波像差_220 G>*s+  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 9FJU'$FN  
8.1.2波前倾斜_226 pm3?  
8.1.3离焦像差_226 }v=q6C#Q>  
8.1.4像散_228 Q\ro )r  
8.1.5彗差_229 P(A%z2Ql  
8.1.6球差_231 0($MN]oZa  
8.1.7三叶像差_233 )Cu"M#`  
8.1.8泽尼克像差小结_233 iwrdZLE  
8.2杂散光_234 ]<++w;#+x  
8.2.1恒定杂散光模型_235 VPtA %1  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 r95$B6  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 <(s+  
8.3.1掩模偏振效应_240 F?5kl/("  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 l3l[jDa,2  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 $zxC
v7  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 YBHmd  
8.3.5偏振照明_248 ?A,gDk/#  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 f8'&(-  
8.5小结_250 8c]\4iau  
参考文献_251 @f{)]I +f  
%DzS~5$G  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 2JtGS-t  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 "6Ly?'HK  
9.1.1时域有限差分法_257 uop_bJ  
9.1.2波导法_260 1*;?uC\  
9.2掩模形貌效应_262 {7B$%G'  
9.2.1掩模衍射分析_263 4.CLTy3W  
9.2.2斜入射效应_266 =2->1<!x6<  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 B\Rq0N]' M  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 kpK:@  
9.2.5各种三维掩模模型_277 F;`of  
9.3晶圆形貌效应_279 <f{m=Dc  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 $ZwsTV]x  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 wQ(ME7t  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 3cQTl5,  
9.4小结_283 h/eKVRGs"  
参考文献_283 VY~WkSi[<  
6Y\9h)1Jo  
第10章先进光刻中的随机效应 IExQ}I  
10.1随机变量和过程_288 &e3z)h  
10.2现象_291 _qJ[~'m<^C  
10.3建模方法_294 * Oyic3F  
10.4依存性及其影响_297 9r\8  !R  
10.5小结_299 $0iz;!w  
参考文献_299 ^x:4%%Q]l  
专业词汇中英文对照表 N-K.#5  
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