《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 '3g[]M@M  
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<)3u6Vky9  
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@ta7"6p-i@  
第1章光刻工艺概述 t2)rUWg
  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 k?,1x
~  
1.2光刻技术的发展史_3 ga`3 (  
1.3投影光刻机的空间成像_5 sIy^m}02  
1.4光刻胶工艺_10 :2EDjW  
1.5光刻工艺特性_12 _ jsK}- \  
1.6小结_18 !_Wi!Vr_  
参考文献_18 dUhY\v oQ  
w 47tgPPk  
第2章投影光刻的成像原理 adR)Uq9  
2.1投影光刻机_20 ?U2<

 
2.2成像理论_21 B\XKw'   
2.2.1傅里叶光学描述_21 w9bbMx  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 sr{a(4*\  
2.2.3其他成像仿真方法_30 /#)/;  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 $6
9oV:  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 ax<?GjpM  
2.3.2影响_36 ATK_DEAu  
2.4小结_39 Kkm>e{0)AY  
参考文献_39 BW$"`T@c6~  
 z62;cv  
第3章光刻胶 !*7vFl  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 v
wxXgk  
3.1.1光刻胶的分类_42 $adbCY\  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 NeE
t  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 N(Fp0  
3.1.4现象学模型_48 JPoN&BTCj  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 SMpH._VFeE  
3.2.1技术方面_50 Y!nJg1  
3.2.2曝光_51 @}}$zv6l,  
3.2.3曝光后烘焙_54 E2Q[ZoVS  
3.2.4化学显影_58 !:q/Ye3.  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 X\bOz[\  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 ~?K~L~f5  
3.5小结_68 e,W%uH>X  
参考文献_69 ww],y@da  
ewctkI$,5  
第4章光学分辨率增强技术 =A83W/4  
4.1离轴照明_74 X:vghOt?  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 z=q3Zo  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 cj$[E]B3V*  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 < HVl(O  
4.2光学邻近效应校正_81 9_Be0xgJ3^  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 wea-zN  
4.2.2线端缩短补偿_84 3=aQG'B  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 2N: ,Q8~  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 old(i:2  
4.3相移掩模_89 fSK]|"c  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 y1dDO2mA  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 0jy2H2  
4.4光瞳滤波_100 O$_)G\
\\m  
4.5光源掩模协同优化_102 fF7bBE)L/|  
4.6多重曝光技术_106 I ?gSG*m  
4.7小结_109 l]Ax:Z  
参考文献_110 tX_R_]v3  
%A1o.{H  
第5章材料驱动的分辨率增强 ' aq!^!z  
5.1分辨率极限的回顾_115 _m5uDF?[  
5.2非线性双重曝光_119 ME46V6[LX]  
5.2.1双光子吸收材料_119 gG<~-8uQ  
5.2.2光阈值材料_120 J^SdH&%Z  
5.2.3可逆对比增强材料_121 p<2L.\6"  
5.3双重和多重成形技术_124 itBwCIjG  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 /Z'L^L
%R  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 v+46QK|I&  
5.3.3自对准双重成形_126 ;z}i-cNae  
5.3.4双色调显影_127 JtYP E?  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 s4A43i'g!h  
5.4定向自组装_129 YIoQL}pX  
5.5薄膜成像技术_133 mF*2#]%dx  
5.6小结_135 HN=V"a  
参考文献_135 ,(d)Qg  
e:fy#,HEj{  
第6章极紫外光刻 We$:&K0  
6.1EUV光源_141 sFT.Oxg<  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 ZSjMH .Ij"  
6.3EUV掩模_146 7K,-01-:  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 :61Tun  
6.5EUV光刻胶_156 #5cEV'm;  
6.6EUV掩模缺陷_157 [$0p+1  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 +b0eE)  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 I`-8Air5f  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 x+Ttl4  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 YVQN&|-  
6.8小结_167 `Q|*1  
参考文献_168 UQ)W%Y;[0  
<*16(!k0  
第7章投影成像以外的光刻技术 adCU61t  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 `q
}I"iS  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 gw#5jW\  
7.1.2技术实现_179 Cn'(<bl  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 Xe6w|  
7.2无掩模光刻_186 mHV%I@`Y6  
7.2.1干涉光刻_186 $?Yry.2  
7.2.2激光直写光刻_189 l~c@^!  
7.3无衍射限制的光刻_194 {@6=Q 6L  
7.3.1近场光刻_195 :o0JY= 5  
7.3.2利用光学非线性_198 sy:[T T!w  
7.4三维光刻_203 PDJr<E?  
7.4.1灰度光刻_203 Gw>^[dmt!  
7.4.2三维干涉光刻_205 77C'*tt1]  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 V
q2y4D?  
7.5浅谈无光刻印_209 6IBgt!=,  
7.6小结_210 W5EDVPur  
参考文献_211 kpJ@M%46  
PmkR3<=leg  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 0Vlk;fIh  
8.1实际投影系统中的波像差_220 N4^-`  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221  CJ1 7n  
8.1.2波前倾斜_226 JlH&??  
8.1.3离焦像差_226 En~5"yW5>]  
8.1.4像散_228 10)jsA  
8.1.5彗差_229 7&t-pv92*  
8.1.6球差_231 qaY1xPWz"  
8.1.7三叶像差_233 /qMG=Z  
8.1.8泽尼克像差小结_233 +

ln9c  
8.2杂散光_234 3.|S  
8.2.1恒定杂散光模型_235 S=5<^o^h3  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 (U&tt]|  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 QKyo`g7  
8.3.1掩模偏振效应_240 }+)fMZz  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 gp5_Z-me  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 Sh/T,  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 <v)1<*I  
8.3.5偏振照明_248 QqFR\6  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 D?;"9e%  
8.5小结_250 >"|B9Woc  
参考文献_251 ?3nR  
*^g:P^4  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 4lr(,nPRD  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 #
r#1JtT  
9.1.1时域有限差分法_257 4]yOF_8h  
9.1.2波导法_260 J2::'Hw*s  
9.2掩模形貌效应_262 #bUXgn>  
9.2.1掩模衍射分析_263 ~D<IB#C  
9.2.2斜入射效应_266 _2hS";K  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 [<2<Y  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 s%qF/70'  
9.2.5各种三维掩模模型_277 !Y$h"<M  
9.3晶圆形貌效应_279 W}m)cn3@  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 q1z"-~i)E  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 kjg~n9#T  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 D ~st
M  
9.4小结_283 ;|pBFKx  
参考文献_283 )k\H@Dy%$  
q"%_tS  
第10章先进光刻中的随机效应 RX
>xB  
10.1随机变量和过程_288 m+b):  
10.2现象_291 rm5bkJcg~  
10.3建模方法_294 fa++MNf}3  
10.4依存性及其影响_297 4,sJE2"[9  
10.5小结_299 s"0Y3x3  
参考文献_299 +b.g$CRr  
专业词汇中英文对照表 NL!u<6y  
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