《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 "mr;!"LA  
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=FUORj\O  
第1章光刻工艺概述 =o]V!MW  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 {` Bgxejf  
1.2光刻技术的发展史_3 Z'p7I}-qr  
1.3投影光刻机的空间成像_5 7c$;-O  
1.4光刻胶工艺_10 ^;4nHH7z-,  
1.5光刻工艺特性_12 ;hU56lfZ)X  
1.6小结_18 ,!U5;  
参考文献_18 sI4Q
l0[  
}3 NGMGu$  
第2章投影光刻的成像原理 TWE$@/9)g  
2.1投影光刻机_20 v]+,kbT  
2.2成像理论_21 :c%vl$  
2.2.1傅里叶光学描述_21 l1On .s  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 <_&tP=h  
2.2.3其他成像仿真方法_30 wZN<Og+;  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 HI6;=~[  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 f!2`N  
2.3.2影响_36 j;@7
V4'  
2.4小结_39 =+`I%>wc  
参考文献_39 R06q~>  
TZL)jfhj  
第3章光刻胶 #|`/K[.xd%  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 `~Nd4EA)2  
3.1.1光刻胶的分类_42 !Ziq^o.  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 Z[:fqvXQ  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 E`%Ewt$Z  
3.1.4现象学模型_48 .n]P6t  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 +V*FFv  
3.2.1技术方面_50 tn};[r  
3.2.2曝光_51 CI$pPY<u1  
3.2.3曝光后烘焙_54 R4=n">>Q  
3.2.4化学显影_58 *fVs|  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 *l:5FTp  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 p|VoIQY  
3.5小结_68 I4 dS,h  
参考文献_69 A|p O  
b6BeOR*ps  
第4章光学分辨率增强技术 Xao 0cb.R  
4.1离轴照明_74 aLapb5VV  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 I8 Ai_^P  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 [H$37Hx!  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 y1P KoN|K  
4.2光学邻近效应校正_81 >e
n,MT|  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 WMfu5x7e4  
4.2.2线端缩短补偿_84 ;\yY*  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85
T1yJp$yD"  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 G\3@QgyQ  
4.3相移掩模_89 e-vL!&;2  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 X,d`-aKO\y  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 ]h8[b9$<")  
4.4光瞳滤波_100 $r})j
~c  
4.5光源掩模协同优化_102 ek6PMZF:'  
4.6多重曝光技术_106 7+';&2M)n~  
4.7小结_109 w]Z*"B&h  
参考文献_110 3]Rb2$p[=  
'ms&ty*T  
第5章材料驱动的分辨率增强 !uoU 8Ki9  
5.1分辨率极限的回顾_115 ~*R"WiDtI  
5.2非线性双重曝光_119 0X =Yly*m@  
5.2.1双光子吸收材料_119
L/,#:J  
5.2.2光阈值材料_120 d;UP|c>2  
5.2.3可逆对比增强材料_121 &x$1hx'  
5.3双重和多重成形技术_124 1?s]nU  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 d>@&[C!28  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 vL~nJv  
5.3.3自对准双重成形_126 V"=(I'X
 
5.3.4双色调显影_127 Om`VQ?  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 j8kax/*[  
5.4定向自组装_129 NU>={9!  
5.5薄膜成像技术_133 g2;!AI5f  
5.6小结_135 |#^##^cF/  
参考文献_135 luD.3&0n  
#=r:;,,  
第6章极紫外光刻 %:rct  
6.1EUV光源_141 #hPa:I$Oc  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 ^b)8l  
6.3EUV掩模_146 }& ;49k  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 YSi[s*.G  
6.5EUV光刻胶_156 <RzGxhT  
6.6EUV掩模缺陷_157 D0Cs g39  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 3B|?{U~  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 E
shc"U  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 ir^%9amh  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 fW^\G2Fk  
6.8小结_167 ;ew j  
参考文献_168 Cz@[l=-T7  
zFVNb  
第7章投影成像以外的光刻技术 Q _Yl:c  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 y;W|)  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ?CSc5b`eo  
7.1.2技术实现_179 =ZdP0l+V=k  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 CSF-2lS
G  
7.2无掩模光刻_186 3(D!]ku~
m  
7.2.1干涉光刻_186 &K Ti[  
7.2.2激光直写光刻_189 z3RD*3b  
7.3无衍射限制的光刻_194 {.=4;  
7.3.1近场光刻_195 w6ZyMR,T  
7.3.2利用光学非线性_198 `uL^!-  
7.4三维光刻_203 ;{@ [ek6  
7.4.1灰度光刻_203 _?]E)i'RI  
7.4.2三维干涉光刻_205 7q_B`$ata  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 zq ;Y
E  
7.5浅谈无光刻印_209 M1(+_
W`  
7.6小结_210 3q7Z?1'o  
参考文献_211 pRS+vV3  
yk r5bS  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 v5J% p4  
8.1实际投影系统中的波像差_220 iDp'M`(6h  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 yU"pU>fV@  
8.1.2波前倾斜_226 (.6~t<DRv  
8.1.3离焦像差_226 cs0;:H*N*  
8.1.4像散_228 t[>y=89
 
8.1.5彗差_229 tNsiokOm  
8.1.6球差_231 =
2;2_u?  
8.1.7三叶像差_233 ,l}mCY  
8.1.8泽尼克像差小结_233 ]&l.-0jt  
8.2杂散光_234 ID+o6/V8  
8.2.1恒定杂散光模型_235 NCm>iEeY  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 Rw8l"`  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 b|7c]l  
8.3.1掩模偏振效应_240 "`Y.N$M`k  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 d1MY>zq  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 >,JLYz|</  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 01bBZWX  
8.3.5偏振照明_248 wNzALfS  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 .Pz( 0Y  
8.5小结_250 Ur^~fW1o  
参考文献_251 #Av6BGM|,  
f+*wDH  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 VKzY6  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ]`[r=cG  
9.1.1时域有限差分法_257 sfLH[Q?  
9.1.2波导法_260 6$42-a%b  
9.2掩模形貌效应_262 tG1,AkyZ  
9.2.1掩模衍射分析_263 y_aKW4L+  
9.2.2斜入射效应_266 kGaK(^w  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 "'38
9*-  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 aI8k:FK"  
9.2.5各种三维掩模模型_277 Z' cQ< f  
9.3晶圆形貌效应_279 Yc5{M*w  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 rLt`=bl&&U  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 -Fi{[%&u  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 6O|B'?]Pf  
9.4小结_283 :z=C   
参考文献_283 w QV4[  
<>!Y[Xr^  
第10章先进光刻中的随机效应 B.:DW3  
10.1随机变量和过程_288 =_(i#}"A  
10.2现象_291 j2oHwt6"  
10.3建模方法_294 z&a%_ ]Q*  
10.4依存性及其影响_297 oH;0_!  
10.5小结_299 +f#oij  
参考文献_299 3$cIm+  
专业词汇中英文对照表 5f.G^A: _X  
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