《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 c='uyx  
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T:S[[#f{5  
~-#8j3 J;  
第1章光刻工艺概述 B0m2SUC,H  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 /v7o!D1G  
1.2光刻技术的发展史_3 #F ;@Qi3z  
1.3投影光刻机的空间成像_5 1.z]/cx<y  
1.4光刻胶工艺_10 o| 9Mj71  
1.5光刻工艺特性_12 htOVt\+!34  
1.6小结_18 Dj'+,{7,u  
参考文献_18 y
hNy  
}/aqh;W  
第2章投影光刻的成像原理 (gF{S*`  
2.1投影光刻机_20 {3K`yDF  
2.2成像理论_21 $uYfy<  
2.2.1傅里叶光学描述_21 +H "j-:E@t  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 quiX"lV(  
2.2.3其他成像仿真方法_30 hGj`IAW  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 ^) 5*?8#  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 <MgC7S2I  
2.3.2影响_36 >5j&Q#Bu  
2.4小结_39 sdXZsQw  
参考文献_39 #~`d ;MC  
b:W x[+  
第3章光刻胶 aThvq%;  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 '%KaAi$  
3.1.1光刻胶的分类_42 ^2"3h$DJfS  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 M Jtn)gXb  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 diD[/&k#kh  
3.1.4现象学模型_48 .Tc?PmN  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 `0Xs!f  
3.2.1技术方面_50 b2UqN]{  
3.2.2曝光_51 Ex4)R2c*  
3.2.3曝光后烘焙_54 YI+o:fGC5  
3.2.4化学显影_58 %)P)Xb  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 ^d!I{ y#  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 y:
,m(P  
3.5小结_68 F 8 gw3  
参考文献_69 (?#"S67  
KfV&
7yi  
第4章光学分辨率增强技术 RBV*e9P%  
4.1离轴照明_74 h[r)HX0hA  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 dS;Ui]/J  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 8eD/9PD=F  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 c!J|vRA5  
4.2光学邻近效应校正_81 
@%rj1Gn  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 -[xbGSj{  
4.2.2线端缩短补偿_84 -5<G^AS  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 _!^2A3c<  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 `2@f=$B  
4.3相移掩模_89 aHBM9%gV  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 c<imqDf  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 xOdLct  
4.4光瞳滤波_100 Y&1Yc)*O  
4.5光源掩模协同优化_102 *a@78&N  
4.6多重曝光技术_106 \Vl)q>K_h  
4.7小结_109 xH{V.n&v  
参考文献_110 Hw%lT}[O  
Fz^5cxmw  
第5章材料驱动的分辨率增强 T,5(JP(h3  
5.1分辨率极限的回顾_115 e/F+Tf  
5.2非线性双重曝光_119 =[IKwmCX  
5.2.1双光子吸收材料_119 oE$zOS&2  
5.2.2光阈值材料_120 nVGWJ3  
5.2.3可逆对比增强材料_121 hpzDQ6-Y  
5.3双重和多重成形技术_124 Rj~y#m  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 qz.WF8Sy2  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 !&5B&w{u~!  
5.3.3自对准双重成形_126 &ej|DM6  
5.3.4双色调显影_127 $QJ,V~  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 CC XOxd  
5.4定向自组装_129 Ls{]ohP  
5.5薄膜成像技术_133 #E@X'jwu  
5.6小结_135 K#a_7/!v/  
参考文献_135 JVh/<A  
GFgh{'|  
第6章极紫外光刻 [_zoJ  
6.1EUV光源_141 js)I%Z  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 !E_RD,_  
6.3EUV掩模_146 `lN Z|U  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 ?oQAxb&  
6.5EUV光刻胶_156 ;N!W|G  
6.6EUV掩模缺陷_157 4/E>k <MA  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 Zksow}%  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 n/Dk~Q)  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 vff`Xh>k(  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 77~l~EX  
6.8小结_167 <O9.GHV1v  
参考文献_168 wPH1g*U  
x*0mmlCb  
第7章投影成像以外的光刻技术 8 qwOZ d  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ,=y8[(h  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ]M/*Beh  
7.1.2技术实现_179 8M7pc{  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 &z%DX   
7.2无掩模光刻_186 Wj\< )cH]  
7.2.1干涉光刻_186 *;<>@*  
7.2.2激光直写光刻_189 T``~YoIdz  
7.3无衍射限制的光刻_194 ej{7)#  
7.3.1近场光刻_195 <PXnR\  
7.3.2利用光学非线性_198 02~GT_)$^  
7.4三维光刻_203 za[;d4<}k  
7.4.1灰度光刻_203 
o]m56  
7.4.2三维干涉光刻_205 z)
&GF$*  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 Wup%.yT~Ds  
7.5浅谈无光刻印_209 aXyg`CDv  
7.6小结_210 :qO)^~x  
参考文献_211 I=o/1:[-  
Dv-ubki  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 b'TkYa^  
8.1实际投影系统中的波像差_220 >}>cJh6  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 E>w|i  
8.1.2波前倾斜_226 n<66 7 <  
8.1.3离焦像差_226 S}XVr?l2O  
8.1.4像散_228 AX2On}&bf  
8.1.5彗差_229 0O7VM)[  
8.1.6球差_231 1JO@G3,  
8.1.7三叶像差_233 0vi\o`**Mj  
8.1.8泽尼克像差小结_233 L+d4&x  
8.2杂散光_234 ?)'+l   
8.2.1恒定杂散光模型_235 <[<]+r&*  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 h6C:`0o  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 -MT.qhx  
8.3.1掩模偏振效应_240 TH#5j.uUs  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 `=rDB7!$yL  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 i 79;;9M  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 {B+{2;Zk  
8.3.5偏振照明_248 zHW}A `Rz  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 :} 9Lb)Yp  
8.5小结_250 YztW1GvI  
参考文献_251 PR*qyELu  
;mLbgiqQ J  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 ZsepTtY  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ck\gazo~q  
9.1.1时域有限差分法_257 jq"iLgEMO  
9.1.2波导法_260 9Z;"9$+M  
9.2掩模形貌效应_262 u!K5jqP  
9.2.1掩模衍射分析_263 >KMTxHE`+  
9.2.2斜入射效应_266 agMI$  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 %)@3V8OI  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 0xe*\CAo  
9.2.5各种三维掩模模型_277 >ISN2Kn   
9.3晶圆形貌效应_279 ^Q""N<  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 b_xGCBC  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 {[Vkht}  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 @8xa"Dc  
9.4小结_283 MuCnBx  
参考文献_283 Z=\wI:TY1  
!$|h[ct  
第10章先进光刻中的随机效应 [_,Gk]F=  
10.1随机变量和过程_288 'Xw>?[BB  
10.2现象_291 (jB_uMuS  
10.3建模方法_294 qGPIKu  
10.4依存性及其影响_297 R2!_)Rpf  
10.5小结_299 A*_ |/o
 
参考文献_299 3a\.s9A"  
专业词汇中英文对照表 q%xq\L.  
u*i[A\Y