《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 J-~:W~Qx4N  
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]"U/3dL5  
第1章光刻工艺概述 /Au7X'}  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ~G8haN4  
1.2光刻技术的发展史_3 I<$m%  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ]{pH,vk-  
1.4光刻胶工艺_10 ?xzDz  
1.5光刻工艺特性_12 42,K

8  
1.6小结_18 >2LlBLQ  
参考文献_18 +(##B pC  
Z(o]8*;Ai  
第2章投影光刻的成像原理 EdS7m,d  
2.1投影光刻机_20 d{RMX<;G  
2.2成像理论_21 BPC>  
2.2.1傅里叶光学描述_21 &uG@I=}TIY  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 *&rV}vVP^  
2.2.3其他成像仿真方法_30 KvuM{UI5  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 pL{:8Ed  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 k\lU Q\/O5  
2.3.2影响_36 EL1*@  
2.4小结_39 (:ij'Zbz  
参考文献_39 hg}R(.1K=  
L ^{C4}x=  
第3章光刻胶 K7]IAV  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 >D*%1LH~V  
3.1.1光刻胶的分类_42 /7yd&6`I  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 w
!m4  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 .oxeo0@~  
3.1.4现象学模型_48 TDHS/"MbA7  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 4F?O5&329i  
3.2.1技术方面_50 Mg=R**s1x%  
3.2.2曝光_51 5q{ -RJ  
3.2.3曝光后烘焙_54 YEhPAQNj  
3.2.4化学显影_58 qre(3,VE5  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 _&/2-3]\B  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 #=aTSw X  
3.5小结_68 !yf7y/qY  
参考文献_69 Z^ }4bR]  
(j884bu  
第4章光学分辨率增强技术 PW GNUNc  
4.1离轴照明_74 ~MLBO  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 Hrj@I?4  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 %2EHYBQjN  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 1agI/R  
4.2光学邻近效应校正_81 jinXK  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 u4.2u}A/R%  
4.2.2线端缩短补偿_84 H(F9&6}  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 uw9w{3]0f  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 $z'_Hr'  
4.3相移掩模_89 ThJ`-Ro  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 QDJe:\n  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 4+4C0/$Y  
4.4光瞳滤波_100 fd*<m8  
4.5光源掩模协同优化_102 :tcqb2p  
4.6多重曝光技术_106 #i}:CI>2  
4.7小结_109 EGJrnz8  
参考文献_110 $%0A#&DVh  
DYaOlT(rE  
第5章材料驱动的分辨率增强 $JZ}=\n7  
5.1分辨率极限的回顾_115 @c^g<  
5.2非线性双重曝光_119 :dj=kuUTbu  
5.2.1双光子吸收材料_119 e? n8S  
5.2.2光阈值材料_120 t[Ywp!y[  
5.2.3可逆对比增强材料_121 `Uy'YfYF  
5.3双重和多重成形技术_124 /F7X"_(H  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 '"fZGz?  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 rz]M}!>k  
5.3.3自对准双重成形_126 |aMeh;X t  
5.3.4双色调显影_127 D.
/3,z  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 +a}>cAj*  
5.4定向自组装_129 kCZxv"Ts  
5.5薄膜成像技术_133 t6a$ZN;  
5.6小结_135 vK,.P:n  
参考文献_135 o1]ZeF  
RqRyZ*n  
第6章极紫外光刻 sRDxa5<MD  
6.1EUV光源_141 GP;UuQ
z  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 a7wc>@9Q,  
6.3EUV掩模_146 cSWn4-B@l
 
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 YB3?Ftgw  
6.5EUV光刻胶_156 l fJ lXD  
6.6EUV掩模缺陷_157 Y[Kpd[)[v  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 G "`t$=0  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 Z}s56{!.  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 wzz>N@|  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166  _)=eE  
6.8小结_167 w-?|6I}T  
参考文献_168 ry!0~ir  
o%.0@W  
第7章投影成像以外的光刻技术 y(h"0A1lW  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 APM!xX=N  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 xI(Y}>  
7.1.2技术实现_179 Z@ZSn0  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 ^b@&O-&s  
7.2无掩模光刻_186 v"J7VF2  
7.2.1干涉光刻_186 ^U[yk'!Y  
7.2.2激光直写光刻_189 VSW"/{Lp  
7.3无衍射限制的光刻_194 .U9A\$  
7.3.1近场光刻_195 .}x:yKyi@  
7.3.2利用光学非线性_198 _rjB.  
7.4三维光刻_203 d gRTV<vM  
7.4.1灰度光刻_203 I!;vy/r  
7.4.2三维干涉光刻_205 f5dctDHP  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 nHTb~t5Ke  
7.5浅谈无光刻印_209 .BjnV%l7Id  
7.6小结_210 1y}tPkOe7O  
参考文献_211 H!vX#  
S1D;Xv@  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 Fb&WwGY,P  
8.1实际投影系统中的波像差_220 zPt0IB_j'  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 F`U YgN  
8.1.2波前倾斜_226 TSHH=`cx  
8.1.3离焦像差_226 !p$k<?WXc  
8.1.4像散_228 \bzT=^Z;2  
8.1.5彗差_229 5B,HJax  
8.1.6球差_231 71inHg  
8.1.7三叶像差_233 {u_2L_  
8.1.8泽尼克像差小结_233 HC\\w-`<  
8.2杂散光_234 DY6ra% T  
8.2.1恒定杂散光模型_235 \(a!U,]LM  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 Y:'#jY*V  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 h(Ccm
44  
8.3.1掩模偏振效应_240 o; Ns-=  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 bk{.9nz2  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 y_A?}'X  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 !-Br?  
8.3.5偏振照明_248 D>).^>|q  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 ?)V}_%fVv  
8.5小结_250 _rjLCvv-  
参考文献_251 /aHx'TG  
wc7F45
l4  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 ^tY$pPA  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 2*1FW v  
9.1.1时域有限差分法_257 HG)c\b  
9.1.2波导法_260 JU\wvP5j  
9.2掩模形貌效应_262 .7Lv  
9.2.1掩模衍射分析_263 'I *&P5|  
9.2.2斜入射效应_266 d?_LNSDo  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 <<:a>)6\  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 TSCc=c  
9.2.5各种三维掩模模型_277 rGxX]  
9.3晶圆形貌效应_279 sB>ZN3ptH^  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 875BD U  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 7
gY^aMW  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 GY;q0oQ,  
9.4小结_283 zu-
1|XX  
参考文献_283 `*hrU{b  
J)xc mK  
第10章先进光刻中的随机效应 61^5QHur
 
10.1随机变量和过程_288 6}EC)j;Fw  
10.2现象_291 1S26
Y|L)  
10.3建模方法_294 lC&B4zec  
10.4依存性及其影响_297 x3>PM]r(V  
10.5小结_299 o>'1ct  
参考文献_299 4z##4^9g  
专业词汇中英文对照表 @^';[P!  
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