《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 7j
88^59  
eYevj[c;  
s(r4m/  
~y,m7%L  
'LR|DS[Ne  
第1章光刻工艺概述 ,vAcri 97  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 bRr3:"=sE  
1.2光刻技术的发展史_3 `^|l+TJG  
1.3投影光刻机的空间成像_5 e%IbME]x  
1.4光刻胶工艺_10 6MLjU1  
1.5光刻工艺特性_12 NPDMv |4  
1.6小结_18 F^5\
w-gLY  
参考文献_18 hoLA*v2<  
'X`W+=T$  
第2章投影光刻的成像原理 [GcW*v  
2.1投影光刻机_20 g8@F/$HY  
2.2成像理论_21 i1*0'x  
2.2.1傅里叶光学描述_21 |7${E^u  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 x~K79Mya  
2.2.3其他成像仿真方法_30 o'8nQ Tao  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 <,X=M6$0n  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 !7p&n3dz  
2.3.2影响_36 ?#RhHD  
2.4小结_39 :>F3es`  
参考文献_39 k$>5v +r0  
+,TrJg  
第3章光刻胶 Z;njSw%:  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 L~RFI&b  
3.1.1光刻胶的分类_42 #)3 B  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ?]o(cz  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 v8n^~=SH  
3.1.4现象学模型_48 N|3#pHm@  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 7k00lKA\w  
3.2.1技术方面_50 d]MpE9@'v  
3.2.2曝光_51 C>SOd]  
3.2.3曝光后烘焙_54 P'DcNMdw  
3.2.4化学显影_58 wuM'M<J@  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 {|B[[W\TN  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 l]gW_wUQd  
3.5小结_68 Xz9[0;Q  
参考文献_69 &9"Y:),  
:Gew8G  
第4章光学分辨率增强技术 >]o>iOz;]  
4.1离轴照明_74 wuW{2+)B  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 [ako8  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 c _!!DEe7  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 c2?VjuB0  
4.2光学邻近效应校正_81 ?7J::}R  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 qw>vu7/z  
4.2.2线端缩短补偿_84 $\|Q+7lQ  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 4C;y2`C  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 2+Oz$9`.  
4.3相移掩模_89 lxr;AJ(  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 L27WDm^)  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 b=U3&CV9  
4.4光瞳滤波_100 6 N:
Ps8Hg  
4.5光源掩模协同优化_102 USS%T<Vk  
4.6多重曝光技术_106 ayQeT  
4.7小结_109 !~vx|_$#  
参考文献_110 %wI)uJ2  
>Bu9
D
 
第5章材料驱动的分辨率增强 f^
ZhFu?  
5.1分辨率极限的回顾_115 67 ~pn  
5.2非线性双重曝光_119 xA`j:zn'j  
5.2.1双光子吸收材料_119 cOZBl;}  
5.2.2光阈值材料_120 =;E0PB_w  
5.2.3可逆对比增强材料_121 *M_^I)*L  
5.3双重和多重成形技术_124 M{)&SNI*C  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 s|`wi}"x  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 7upWM~H^  
5.3.3自对准双重成形_126 W/}_y8q  
5.3.4双色调显影_127 +\)Y,@cw  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 gNc;P[  
5.4定向自组装_129 Nh}u]<B  
5.5薄膜成像技术_133 #dD0vYT&od  
5.6小结_135 $G5:/,Q  
参考文献_135 )Y9\>Xj7  
9*huO#  
第6章极紫外光刻 |\/\FK]?]  
6.1EUV光源_141 @65xn)CD{  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 yn_.  
6.3EUV掩模_146 -ZyY95E<  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 Q'JK *.l  
6.5EUV光刻胶_156 *'-t_F';  
6.6EUV掩模缺陷_157 e+D]9wM8  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 "tK|/R+  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 57 Bx-  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 |0?v4%g  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 >tx[UF@P@  
6.8小结_167 DHv86TvJt  
参考文献_168 A*A/30o|R  
!n P4S)A  
第7章投影成像以外的光刻技术 +8x_f0<  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 *?]<=IV?  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 IkjJqz  
7.1.2技术实现_179 Jj5VBI!Ok  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 {@3v$W~7M  
7.2无掩模光刻_186 [u37Hy_Gi  
7.2.1干涉光刻_186 s{
8=Q0^  
7.2.2激光直写光刻_189 EtaKo}!A}  
7.3无衍射限制的光刻_194 eU,FYJt9  
7.3.1近场光刻_195 he:z9EG}  
7.3.2利用光学非线性_198 ".waCt6  
7.4三维光刻_203 WSN^iDS
 
7.4.1灰度光刻_203 xkax  
7.4.2三维干涉光刻_205 F",TP,X  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 iyd$_CJz  
7.5浅谈无光刻印_209 :#35mBe}k  
7.6小结_210 %KkC1.yu<  
参考文献_211 G2?#MO  
`j9\]50Z>  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 }!R*Q`m  
8.1实际投影系统中的波像差_220 R! On  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 u'
Q82l&Y  
8.1.2波前倾斜_226 v9Sk\9}S  
8.1.3离焦像差_226 1X5Yp|Ho  
8.1.4像散_228 6M_:D  
8.1.5彗差_229 :z&kbG  
8.1.6球差_231 v'b%m8  
8.1.7三叶像差_233 P=KhR&gwV~  
8.1.8泽尼克像差小结_233 %7P]:G+Y\  
8.2杂散光_234 |+::sL\r  
8.2.1恒定杂散光模型_235 UZrEFpi  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 *Egg*2P;"Q  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 s}OL)rW=}  
8.3.1掩模偏振效应_240 a$Y{ut0t(  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 wet[f{c  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 g,!.`[e'ex  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 iLNUydiS  
8.3.5偏振照明_248 1[u{y{9 q  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 (dD7"zQ  
8.5小结_250 PnInsf%;  
参考文献_251 Mj6,VD9L  
-]Su+/3(,  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 JGTsVa2  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 {wj%WSQj/y  
9.1.1时域有限差分法_257 }2"W0ZdWD  
9.1.2波导法_260 SZ9DT  
9.2掩模形貌效应_262 _ahp7-O  
9.2.1掩模衍射分析_263 AWx@Z7\z"g  
9.2.2斜入射效应_266 Xq03o#-p+  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 58HA*w  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 6w;`A9G[YI  
9.2.5各种三维掩模模型_277 ~%g,Uypi  
9.3晶圆形貌效应_279 6SH0 y  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 Z|Rc54Ct  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 `[(XZhN  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 jll:Rh(b  
9.4小结_283 g3&nxZ  
参考文献_283 n7K%
lj-.P  
9T5 F0?qd  
第10章先进光刻中的随机效应 ^>Z_3{s:$  
10.1随机变量和过程_288 l&U$LN$*e  
10.2现象_291 0m4M@94  
10.3建模方法_294 { +w.Z,D"  
10.4依存性及其影响_297 4:NMZ `~  
10.5小结_299 l5Ko9CG  
参考文献_299 8a)Brl}u  
专业词汇中英文对照表 H1B%}G*Ir-  
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