《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 Kf5p*AI  
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第1章光刻工艺概述 Agf!6kh  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 GTe9@d  
1.2光刻技术的发展史_3 [: j_Y3-9  
1.3投影光刻机的空间成像_5 wQ.zj`?$(  
1.4光刻胶工艺_10 Ut=y`]F  
1.5光刻工艺特性_12 (*gpa:Sc  
1.6小结_18 m%3Kq%?O  
参考文献_18 Yl=  |P`  
]x\wP7x  
第2章投影光刻的成像原理 ?g.w%Mf*  
2.1投影光刻机_20 _ji%BwJ  
2.2成像理论_21 S22;g  
2.2.1傅里叶光学描述_21 :b-(@a7>  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 jm"xf7  
2.2.3其他成像仿真方法_30 9-SXu lgu  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 `,"Jc<R7Z  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 Kwnu|8  
2.3.2影响_36 n]!H,Q1,T  
2.4小结_39 K-5)Y+| >  
参考文献_39 JN!YRcj  
^j7pF.j  
第3章光刻胶 ~Sq >c3Wn  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 2{N0. |5  
3.1.1光刻胶的分类_42 v
~3q4P  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 "{lnSLk  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 VxoMK7'O=/  
3.1.4现象学模型_48 h,g~J-x`|  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 bcfOpA  
3.2.1技术方面_50 {n'}S(  
3.2.2曝光_51 yfrgYA  
3.2.3曝光后烘焙_54 -9EbU7>!  
3.2.4化学显影_58 ?`$4ZDM  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 tWuQKN`_  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 =t2epIr5  
3.5小结_68 zx*f*L,6F  
参考文献_69 hZy*E[i  
|99eDgK,  
第4章光学分辨率增强技术 40XI\yE_?  
4.1离轴照明_74 xuF_^  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 \D=B-dREq  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 2~ a4ib  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 JI(|sAH  
4.2光学邻近效应校正_81 )uP= o  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82  "(xu  
4.2.2线端缩短补偿_84 78wcMQNX9  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 q$P"o].EK  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 v:'y&
yS  
4.3相移掩模_89 L<n_}ucA  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 |Z;Av%%  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 t<tBOesQ  
4.4光瞳滤波_100 j#,O,\  
4.5光源掩模协同优化_102 :gXj($  
4.6多重曝光技术_106 9w1)Mf}  
4.7小结_109 E_P]f%  
参考文献_110 A|^?.uIM  
81&!!qhfS  
第5章材料驱动的分辨率增强 = j -  
5.1分辨率极限的回顾_115 _>.%X45xi  
5.2非线性双重曝光_119 n~Ix8|S h  
5.2.1双光子吸收材料_119 r\zK>GVm_  
5.2.2光阈值材料_120 0#G"{M  
5.2.3可逆对比增强材料_121 Z:}^fZP  
5.3双重和多重成形技术_124 K^+B"  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 !j
m a --  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 PNq#o%q  
5.3.3自对准双重成形_126 %zGPF  
5.3.4双色调显影_127 `#hy'S:e  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 Tn|reXc0e  
5.4定向自组装_129 <7XdT  
5.5薄膜成像技术_133 U w)1yzX  
5.6小结_135 zI(Pti  
参考文献_135 eUl[gHP  
^,3 >}PU  
第6章极紫外光刻 IKt9=Tx  
6.1EUV光源_141 ;iEqa"gO  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 =o {`vv  
6.3EUV掩模_146 "3K0 wR5  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 F~:5/-zs  
6.5EUV光刻胶_156 &8N\ 6K=  
6.6EUV掩模缺陷_157 :?,&u,8  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 ,F1$Of/'@\  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 >v(Xc/oI
 
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 uBM1;9h  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 N4Ym[l  
6.8小结_167 -Bc.<pFqp  
参考文献_168 NQb?&.C   
!vU[V,~  
第7章投影成像以外的光刻技术 R .,w`<<  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ?FLjvmE9  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ',.Xn`c  
7.1.2技术实现_179 @`T6\ 1  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 ~=71){4A  
7.2无掩模光刻_186 `hbM2cM  
7.2.1干涉光刻_186 P++
gR@  
7.2.2激光直写光刻_189 [wExjLW  
7.3无衍射限制的光刻_194 *Hs5MXNu  
7.3.1近场光刻_195 Y{jhT^tKK  
7.3.2利用光学非线性_198 x@/!H<y  
7.4三维光刻_203 Gce![<|ph  
7.4.1灰度光刻_203 E yNCky  
7.4.2三维干涉光刻_205 ^t| %!r G  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 I;No++N0  
7.5浅谈无光刻印_209 ;gF"o5/Q  
7.6小结_210 aW"BN 5eM>  
参考文献_211 g3y44
GCV  
G#csN&|,  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 6K,AQ.=V2  
8.1实际投影系统中的波像差_220 ;HW@ZI  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 Ft07>E$/Q^  
8.1.2波前倾斜_226 //`X+[bMG  
8.1.3离焦像差_226 D;Z\GnD  
8.1.4像散_228 $(GXlhA  
8.1.5彗差_229 J~~WV<6  
8.1.6球差_231 rT
x]
%{  
8.1.7三叶像差_233 oRCj]9I$  
8.1.8泽尼克像差小结_233 ,i'>+Ix<  
8.2杂散光_234 /m%;wH|6%  
8.2.1恒定杂散光模型_235 |kjk{  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 w*aKb  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 YM5;mPR  
8.3.1掩模偏振效应_240 NpSS/rd $  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 ]":PO4M$*  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 1%>/%eyn5  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 rUlXx5f  
8.3.5偏振照明_248 Zb@PwH4  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 iZ&CE5+  
8.5小结_250 |TkO'QN  
参考文献_251 t1D6#JP(a  
Nl0*"}`I_  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 <_h  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 0DGXMO$;  
9.1.1时域有限差分法_257 :X+7}!Wlo  
9.1.2波导法_260 _/hWz
j=q  
9.2掩模形貌效应_262 )!3sB{
H  
9.2.1掩模衍射分析_263 H>2)R7h  
9.2.2斜入射效应_266 3d[fP#NY7  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 +dlN^P647  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 <&B)i\j8=b  
9.2.5各种三维掩模模型_277 &S/KR$^ %  
9.3晶圆形貌效应_279 h^cM#L^B  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 "HlT-0F  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ]5wc8Kh"  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 $)6y:t"  
9.4小结_283 usU5q>1  
参考文献_283 V
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]e!9{\X,*  
第10章先进光刻中的随机效应 W
w:,O48%  
10.1随机变量和过程_288 %A%^;3@  
10.2现象_291 &iez{[O  
10.3建模方法_294 |pA3ZWm  
10.4依存性及其影响_297 OLTgBXh  
10.5小结_299 g6MK~JG$?h  
参考文献_299 n' &:c}zKO  
专业词汇中英文对照表 5*C#~gd&F  
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