《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 2z/qbzG7  
J!?hajw7N  
ICSi<V[y1  

20[_eu)  
l7G&[\~  
第1章光刻工艺概述 7CfHL;+m<4  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 JA!O,4  
1.2光刻技术的发展史_3 x!CCSM;q  
1.3投影光刻机的空间成像_5 fVCpG~&t  
1.4光刻胶工艺_10 QdaYP  
1.5光刻工艺特性_12 ya7/&Z )0  
1.6小结_18 fp^!?u  
参考文献_18 )bc0 t]Fs  
wOH$S=Ba5,  
第2章投影光刻的成像原理 8BnI0l=\  
2.1投影光刻机_20 rzC\8Dd  
2.2成像理论_21 #R&Dgt  
2.2.1傅里叶光学描述_21 aa!o::;  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 eil"1$k  
2.2.3其他成像仿真方法_30 s;-(dQ{O  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 ~9.0:Fm<  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 Y\!* c=@k  
2.3.2影响_36 L\L/+yNv:G  
2.4小结_39 NFT&\6
!o  
参考文献_39 'bN\8t\S  
s53Pw>f  
第3章光刻胶 KCR6@{@  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 0rbMT`Hy  
3.1.1光刻胶的分类_42 <uXZ*E  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 7TCY$RcF,I  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 9Xw(|22  
3.1.4现象学模型_48 o#V}l^uU=  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 {(r`
&[  
3.2.1技术方面_50 U8_<?H
d  
3.2.2曝光_51 8
c-r;DE  
3.2.3曝光后烘焙_54 b(8#*S!U  
3.2.4化学显影_58 N%Gb  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 sqkk4w1#C  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 octBt`\Of  
3.5小结_68 rt+%&%wt  
参考文献_69 *n$=2v^A  
X-$~j+YC  
第4章光学分辨率增强技术 &6-udZB-  
4.1离轴照明_74 m[~fT(NI  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 @1_M's;  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 KiN8N=
z  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 "F nH>g-  
4.2光学邻近效应校正_81 Y%AVC9(  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 x9UF  
4.2.2线端缩短补偿_84 3ZO\Pu  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ,tt]C~\u  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 8PQKB*<dB"  
4.3相移掩模_89 "
8{#R
*p  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 &)4#0L4  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 !9yOFd_  
4.4光瞳滤波_100 XJ &'
4h  
4.5光源掩模协同优化_102 'CiV=&3/  
4.6多重曝光技术_106 @J"Gn-f~  
4.7小结_109 $j?zEz  
参考文献_110 SJ(<u2J]  
:\I88 -N@'  
第5章材料驱动的分辨率增强 N#(p_7M  
5.1分辨率极限的回顾_115 y\M]\^[7  
5.2非线性双重曝光_119 =+{SZh@  
5.2.1双光子吸收材料_119 F
@</E
v  
5.2.2光阈值材料_120 8G&'ED_&  
5.2.3可逆对比增强材料_121 hS<lUG!9UJ  
5.3双重和多重成形技术_124 1D3{\v  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 ]3B8D<p  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 Li[ :L  
5.3.3自对准双重成形_126 `ceetr=  
5.3.4双色调显影_127 |Tn+Aq7  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 !Zf< j  
5.4定向自组装_129 xaQO=[  
5.5薄膜成像技术_133 wjLtLtK?  
5.6小结_135 i8CO+Iv*{  
参考文献_135 8t4o}3>  
3iKBVN  
第6章极紫外光刻 /_yJ;l/K  
6.1EUV光源_141 vumA W*  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 $9LI v  
6.3EUV掩模_146 3[*E>:)qh  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 'Z^-(xG,+  
6.5EUV光刻胶_156 3zdm-5R.b  
6.6EUV掩模缺陷_157 -+9,RtHR7  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 ozF173iI  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 jIpc^iu`,  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 Yz6+ x]  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 g9N_s,3jC  
6.8小结_167 a!iG;:K   
参考文献_168 QfHJZ7K.4  
y2nwDw(xF  
第7章投影成像以外的光刻技术 a#Yo^"*1  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 Jat|n97$  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 'JA<q-Gn  
7.1.2技术实现_179 M$@Donx  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 Szz:$!t  
7.2无掩模光刻_186 ~yrEB:w`_  
7.2.1干涉光刻_186 h!>K[*  
7.2.2激光直写光刻_189 |}hV
_  
7.3无衍射限制的光刻_194 >m66j2(H*Z  
7.3.1近场光刻_195 H_ecb;|mP  
7.3.2利用光学非线性_198 mpcO-%a  
7.4三维光刻_203 S.^/Cl;aj  
7.4.1灰度光刻_203 sr|afqjXD  
7.4.2三维干涉光刻_205
D\"F?>  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 ?+^vU5b1u  
7.5浅谈无光刻印_209 J 'qhY'te  
7.6小结_210 }iOFB&)w  
参考文献_211 luPj'd?  
R]Iv?)Y  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 P LHiQ:  
8.1实际投影系统中的波像差_220 *3A`7usU  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 71)DLGL  
8.1.2波前倾斜_226 6qAs$[  
8.1.3离焦像差_226 Ms * `w5n  
8.1.4像散_228 cN]e{|  
8.1.5彗差_229 3Gr:.V9=  
8.1.6球差_231 kimqm  
8.1.7三叶像差_233 JZc"4qf@OT  
8.1.8泽尼克像差小结_233 5Xe1a'n5]  
8.2杂散光_234 qFV }Y0w  
8.2.1恒定杂散光模型_235 5:"zs  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 q!r4"#Y"@Z  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 G]NnGL<xk  
8.3.1掩模偏振效应_240 J.t tJOP  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 ggQBQ/ L  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 E:!qncL:  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 n#
\ t_/\  
8.3.5偏振照明_248 7ThGF  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 liU/O:Ap  
8.5小结_250 .UdoB`@!v=  
参考文献_251 ZvSWIQ6  
Pr>Pxsr&  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 8M5a&35J"  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 {Xj2c]A1  
9.1.1时域有限差分法_257 = nI
l$9  
9.1.2波导法_260 krt8yAkG  
9.2掩模形貌效应_262 \H6[6*JuB  
9.2.1掩模衍射分析_263 /a'cP  
9.2.2斜入射效应_266 et-<ib<lY  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 H0 %;t  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 c;M&;'#x  
9.2.5各种三维掩模模型_277 < .\2Ec  
9.3晶圆形貌效应_279 S|_}
0  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 4I
q-4IG(  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 O)Wc\-  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 a,EApUWw  
9.4小结_283 Bkq3-rX\  
参考文献_283 7?[{/`k~?  
0Na/3cz|zg  
第10章先进光刻中的随机效应 K]bw1KK  
10.1随机变量和过程_288 &OX
nZT3P  
10.2现象_291 jf|5}5kSlf  
10.3建模方法_294 X6Y<pw`y  
10.4依存性及其影响_297 u`j9m@`  
10.5小结_299 *!W<yNrR  
参考文献_299 XZ3)gYQi  
专业词汇中英文对照表 mqIcc'6f  
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