《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 26fm}QV  
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第1章光刻工艺概述 mm3goIi;Y  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 i^{.Q-  
1.2光刻技术的发展史_3 nL}bCX{  
1.3投影光刻机的空间成像_5 `_]Z#X&&h  
1.4光刻胶工艺_10 S9Fg0E+J  
1.5光刻工艺特性_12 &bx;GG\<4  
1.6小结_18 '3>kDH+  
参考文献_18 ^4LkKYMS  
]JX0:'x^  
第2章投影光刻的成像原理 ?Z@FxW  
2.1投影光刻机_20
c
7j^OP  
2.2成像理论_21 ]McLace&  
2.2.1傅里叶光学描述_21 9.|+KIRb  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 3G9YpA_}X  
2.2.3其他成像仿真方法_30 =2#a@D6Bl  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 O)MKEMuA  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 \?[#>L4  
2.3.2影响_36 d\`A ^  
2.4小结_39 ^4Ra$<  
参考文献_39 :GC<U|p  
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第3章光刻胶 N2_j[Pe  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 9?r|Y@xh]  
3.1.1光刻胶的分类_42 Q5e ,[1  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 wTFM:N  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 ~R.8r-kD`  
3.1.4现象学模型_48 *b?C%a9  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 :Ia3yi#  
3.2.1技术方面_50 A~Eu_m  
3.2.2曝光_51 (Q !4\Gy  
3.2.3曝光后烘焙_54 ;YxQo o>  
3.2.4化学显影_58 ]RmQ*F-  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 88}c+V+N!  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 sk!v!^\_r  
3.5小结_68 [~bfM6Jw  
参考文献_69 @.fuR#  
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第4章光学分辨率增强技术 lIO.LF3  
4.1离轴照明_74 $}<+~JpGfP  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 N<+ ><>9  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 3%m2$\  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 |,bsMJh0  
4.2光学邻近效应校正_81 ]#N2:ych  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 ^_JD 7-g  
4.2.2线端缩短补偿_84 9|dgmEd  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ~C< X~$y&  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 Vb06z3"r  
4.3相移掩模_89 cu|gM[  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 < pI2
}  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 KotJ,s]B  
4.4光瞳滤波_100 m;{_%oQ;  
4.5光源掩模协同优化_102 Nm%&xm  
4.6多重曝光技术_106 Qvs}{h/  
4.7小结_109 cD^n}'ej  
参考文献_110 `h
12  
$ud5bT{n  
第5章材料驱动的分辨率增强 S =q.Y  
5.1分辨率极限的回顾_115 <OF7:f  
5.2非线性双重曝光_119 ys:1%D,,_
 
5.2.1双光子吸收材料_119 Mn$TWhg'  
5.2.2光阈值材料_120 u&`7 C  
5.2.3可逆对比增强材料_121 b9[;qqq@'  
5.3双重和多重成形技术_124 >/1N#S#9  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 A] pLq`  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 }% JLwN  
5.3.3自对准双重成形_126 HDYr?t~V  
5.3.4双色调显影_127 ./mh9ax  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 n'0^l?V  
5.4定向自组装_129 X>2_Gol!  
5.5薄膜成像技术_133 aM?Xi6 U5  
5.6小结_135 bLGgu#  
参考文献_135 [=9-AG~}  
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第6章极紫外光刻 JPS22i)P  
6.1EUV光源_141 ]uX'[Z}t  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 0Psp/H%  
6.3EUV掩模_146 MhNzmI&`  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 8I04Nx  
6.5EUV光刻胶_156 BFt?%E/]  
6.6EUV掩模缺陷_157 <Bb$d@c  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 V0z.w:-  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 !HL7a]PB  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 *W,"UL6U8y  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 8AT;9wZqt  
6.8小结_167 cjsQm6  
参考文献_168 jZS6f*$  
! lgsV..R  
第7章投影成像以外的光刻技术 Rtw^ lo  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 z$oA6qB)  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 r9'lFj  
7.1.2技术实现_179 EcrM`E#kaZ  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 "DM$FRI0  
7.2无掩模光刻_186 &Qy_= -]  
7.2.1干涉光刻_186 5Tluxt71  
7.2.2激光直写光刻_189 k'}}eu/ q  
7.3无衍射限制的光刻_194 r^-3( 77n  
7.3.1近场光刻_195 G+ PBV%gE[  
7.3.2利用光学非线性_198 {o< 4 ^  
7.4三维光刻_203 16)@<7b]J  
7.4.1灰度光刻_203 -}@3,G  
7.4.2三维干涉光刻_205 048BQ  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 [>::@[  
7.5浅谈无光刻印_209 L.>tJ.I
D  
7.6小结_210 pa Uh+"y>  
参考文献_211 9d^o2Yo  
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第8章光刻投影系统：　高级技术内容 DtG><g}[]  
8.1实际投影系统中的波像差_220 =K .'x  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 Kf2*|ZHj  
8.1.2波前倾斜_226 <Rob.x3  
8.1.3离焦像差_226 EC$wi|i  
8.1.4像散_228 cW;to Q!P  
8.1.5彗差_229 b
+yoD  
8.1.6球差_231 %h 6?/  
8.1.7三叶像差_233 UOSa`TZbZ  
8.1.8泽尼克像差小结_233 Q7UFF  
8.2杂散光_234 *,{. oO9#  
8.2.1恒定杂散光模型_235 }"wWSPD  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 yZ)GP!cM4c  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 iq-n(Rfw~  
8.3.1掩模偏振效应_240 q0{KYWOvk  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 a{^[<  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 T5.1qrL  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 _%w-y(Sqn  
8.3.5偏振照明_248 HE(|x1C)j  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 Yv }G"-=  
8.5小结_250 RoSh|$JF  
参考文献_251 v>YdPQky  
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第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 n(l!T 7  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 BusD}9
QqB  
9.1.1时域有限差分法_257 g
N$.2+:  
9.1.2波导法_260 ?Q[uIQ?dV  
9.2掩模形貌效应_262 dX{|-;6vm  
9.2.1掩模衍射分析_263 4]A2Jl E  
9.2.2斜入射效应_266 xu(5U`K  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 <KqZ.7XfB  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 ^_#0\f  
9.2.5各种三维掩模模型_277 M8a^yoZn  
9.3晶圆形貌效应_279 _O2},9L n  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 !ccKbw)J#  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 &1Y

qPk  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 /+pbO-rW*  
9.4小结_283 nx`!BNL'V  
参考文献_283 m5Q,RwJ!xK  
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第10章先进光刻中的随机效应 >[B}eS>  
10.1随机变量和过程_288 (f^WC,  
10.2现象_291 asb-syqU  
10.3建模方法_294 JO\Tf."a\  
10.4依存性及其影响_297 _}R?&yO  
10.5小结_299 @G[P|^B  
参考文献_299 i<&*f}='  
专业词汇中英文对照表 LvgNdVJDP|  
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