《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 G(MLq"R6U  
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ONm-zRx|  
第1章光刻工艺概述 ?Y_!Fr3V  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 Sj
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OW  
1.2光刻技术的发展史_3 GUUd(xS{  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ;!pJ%p0Sc  
1.4光刻胶工艺_10 $Sc;
  
1.5光刻工艺特性_12 <E\vc6n  
1.6小结_18 jDCf]NvOPM  
参考文献_18 zC>zkFT>H  
E\*M4n\!  
第2章投影光刻的成像原理 r<EwtO+x  
2.1投影光刻机_20 .[S\&uRv  
2.2成像理论_21 fU^5Dl  
2.2.1傅里叶光学描述_21 @~`:sa+H  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 F tay8m@f  
2.2.3其他成像仿真方法_30 %(izKJl q  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 </23*n]  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 +"JQ5~7  
2.3.2影响_36 30Udba+{]p  
2.4小结_39 o~ReeZ7)Zg  
参考文献_39 =$
WDB=i  
>W^)1E,Qh  
第3章光刻胶 bipA{VU  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 =7Sw29u<  
3.1.1光刻胶的分类_42 ew*;mQd  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 u^+ (5|  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 #-K,,"  
3.1.4现象学模型_48 !b'!7p  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 o;'-^ LJ  
3.2.1技术方面_50 )KcY<K  
3.2.2曝光_51 'Jl3%axR  
3.2.3曝光后烘焙_54 9 N9Q#o$!.  
3.2.4化学显影_58 A5%cgr
% 6  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 (zIF2qY  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 Zl{DqC^  
3.5小结_68 ~ ve  
参考文献_69 i z dJ,8  
R6qC0@*  
第4章光学分辨率增强技术 9DaoMOPEI  
4.1离轴照明_74 -ei+r#  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 ANXN.V  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 0{sYD*gK]  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 !=(M
P:  
4.2光学邻近效应校正_81 ?tf<AZ=+^L  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 a'B 5m]%  
4.2.2线端缩短补偿_84 I_On0@%T5b  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 3Qu Ft~@@  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 n/Dk~Q)  
4.3相移掩模_89 f4&k48Ds  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 Q7SRf$4  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 d6{
0[T^L  
4.4光瞳滤波_100 F/0x`l  
4.5光源掩模协同优化_102 & 6~AY:0r  
4.6多重曝光技术_106 4zx_L8#Z  
4.7小结_109 :1e'22[=.  
参考文献_110 'kk B>g7B  
l8By2{pN  
第5章材料驱动的分辨率增强 J]qx4c  
5.1分辨率极限的回顾_115 U$T (R2@  
5.2非线性双重曝光_119 D]WU,a[$Bc  
5.2.1双光子吸收材料_119 x).`nZ1  
5.2.2光阈值材料_120 6cbIs_g  
5.2.3可逆对比增强材料_121 ^li(q]g1!  
5.3双重和多重成形技术_124 [C(>e0r  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 02~GT_)$^  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 h"ko4b3^'@  
5.3.3自对准双重成形_126 D8wZC'7  
5.3.4双色调显影_127 BxHfL8$1[$  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 Wup%.yT~Ds  
5.4定向自组装_129 aXyg`CDv  
5.5薄膜成像技术_133 :qO)^~x  
5.6小结_135 I=o/1:[-  
参考文献_135 iT&Y9  
=-8y=  
第6章极紫外光刻 >}>cJh6  
6.1EUV光源_141 E>w|i  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 n<66 7 <  
6.3EUV掩模_146 (S k+nD  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151  \%/zf  
6.5EUV光刻胶_156 ]6TX)1  
6.6EUV掩模缺陷_157 6sl2vHzA  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 XyE%<]  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 h|Udw3N1L  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 bB"q0{9G-  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 lO dwH"  
6.8小结_167 iXFN|ml  
参考文献_168 b1frAA  
e8$OV4X  
第7章投影成像以外的光刻技术 _0=$ 2Y^  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 Nlfz'_0M  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 oEnCe  
7.1.2技术实现_179 %!QY:[  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 _#rE6./@q  
7.2无掩模光刻_186 Fg-4u&Ik  
7.2.1干涉光刻_186 BSbi.@@tp  
7.2.2激光直写光刻_189 Pg/$N5->  
7.3无衍射限制的光刻_194 &?j]L4%  
7.3.1近场光刻_195 8f{;oO  
7.3.2利用光学非线性_198 coFQu ;i  
7.4三维光刻_203 =}Xw}X+[WY  
7.4.1灰度光刻_203 tA6x
  
7.4.2三维干涉光刻_205 >ISN2Kn   
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 p:q?8+W-r  
7.5浅谈无光刻印_209 <zE~N~;  
7.6小结_210 VN!+r7w'  
参考文献_211 T|FF&|Pk
 
H@!kgaNF
 
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 Wo8.tu-2  
8.1实际投影系统中的波像差_220 NgPY/R>  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 @&LtIN#  
8.1.2波前倾斜_226 A%
dI8Z,  
8.1.3离焦像差_226 FW7@7cVoF  
8.1.4像散_228 *^b<CZd9  
8.1.5彗差_229 j[y,Jch  
8.1.6球差_231 zM*PN|/%sH  
8.1.7三叶像差_233 { WW!P,w  
8.1.8泽尼克像差小结_233 4c/.#?  
8.2杂散光_234 f))'8  
8.2.1恒定杂散光模型_235 5u3SP?.&  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 o?\v 8.n  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 )/2J|LxS  
8.3.1掩模偏振效应_240 Af%#&r7W  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 $2+(|VG4F  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 ]v{TSP^/  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 ?3) IzzO  
8.3.5偏振照明_248 :UdH}u!Ek  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 cf ~TVa)M  
8.5小结_250 <.qhW^>X  
参考文献_251 GVlTW?5  
_onEXrM  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 /,cyp.  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 iYHCa }  
9.1.1时域有限差分法_257 rAZsVnk?  
9.1.2波导法_260 :Z'q1kW@"  
9.2掩模形貌效应_262 z'+k]N9Q^  
9.2.1掩模衍射分析_263 &z"sT*3  
9.2.2斜入射效应_266 G8E=E<Yg~  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 t9yjfyk9W  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 >
u)DuZXj  
9.2.5各种三维掩模模型_277 ;x=r.3OQy  
9.3晶圆形貌效应_279 +GqV9x 8  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 v%6mH6V  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 '7Aj0U(  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 IFg(Ze~  
9.4小结_283 kbF+aS  
参考文献_283 c3NUJ~>=y  
C)|{7W  
第10章先进光刻中的随机效应 t/HUG#W{  
10.1随机变量和过程_288 BDCFToSf|  
10.2现象_291 lh?TEQ  
10.3建模方法_294 oA1d8*i^E  
10.4依存性及其影响_297 D>~S-]  
10.5小结_299 cA8"Ft{P)  
参考文献_299 qr~=S  
专业词汇中英文对照表 O]nZr  
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