《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。
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L"vG:Mq@D  
第1章光刻工艺概述 Cq;K,B9  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 6Oqnb+  
1.2光刻技术的发展史_3 @f01xh=8  
1.3投影光刻机的空间成像_5
;NVTn<Uj  
1.4光刻胶工艺_10 ppo$&W &z  
1.5光刻工艺特性_12 A5H8+gATK  
1.6小结_18 Wes"t}[25  
参考文献_18 n7!Lwq2  
8{=(#]  
第2章投影光刻的成像原理 J<:D~@qq  
2.1投影光刻机_20 d.(]V2X.J  
2.2成像理论_21 >U Ich  
2.2.1傅里叶光学描述_21 j tkPi)QR  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 FZ.Yn  
2.2.3其他成像仿真方法_30 n_NG~/x  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 ?;7>`F6ld  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 cw-JGqLx  
2.3.2影响_36 \c^jaK5  
2.4小结_39 $A0]v!P~i-  
参考文献_39 |q b92|?  
.?)oiPW#  
第3章光刻胶 ]qG5Ne_  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 WD`{kq
c  
3.1.1光刻胶的分类_42 Z42Suy  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 0_Z|y/I
.  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 E0%Y%PQ**{  
3.1.4现象学模型_48 -hV KPIb  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 z{+;'9C  
3.2.1技术方面_50 $W]guG  
3.2.2曝光_51 k 5kX  
3.2.3曝光后烘焙_54 >-WOw  
3.2.4化学显影_58 4U1fPyt  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 a_MnQ@  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 fe`G^hV  
3.5小结_68 bH]!~[  
参考文献_69 \B+SzW  
!/9Sb1_~  
第4章光学分辨率增强技术 D_kzR  
4.1离轴照明_74 03\8e?$  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 T:5%sN;#O  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 6? ly.h$  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 f3B8,>  
4.2光学邻近效应校正_81 AS^$1i:  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 1MFpuPJk  
4.2.2线端缩短补偿_84 tdK^X1  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 }ZGpd
9D  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 A{T@O5ucj  
4.3相移掩模_89 &!fcLJd  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 Gl:T   
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 ;XuEMq,Di  
4.4光瞳滤波_100 ITPpT  
4.5光源掩模协同优化_102 <T[ui  
4.6多重曝光技术_106 |W];v@b\y  
4.7小结_109 l:}4 6%  
参考文献_110 >5W"a?(  
N2Hb19/k  
第5章材料驱动的分辨率增强 RIx6& 7$  
5.1分辨率极限的回顾_115 2{: J1'pC  
5.2非线性双重曝光_119 ?2>v5p  
5.2.1双光子吸收材料_119 QP0X8%+p  
5.2.2光阈值材料_120 OEi9 )I  
5.2.3可逆对比增强材料_121 zhL,BTH  
5.3双重和多重成形技术_124 =x]dP
.  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 ="E V@H?U  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 YIqfGXu8  
5.3.3自对准双重成形_126 ?saVk7Z[|5  
5.3.4双色调显影_127 eR;0pWVl  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 ixpG[8s  
5.4定向自组装_129 K7Tell\`  
5.5薄膜成像技术_133 N'.+ezZ;h  
5.6小结_135 P#oV ^  
参考文献_135 W4Q]<<6&  
)C6 7qY  
第6章极紫外光刻 _3>zi.J/  
6.1EUV光源_141 ^Z+D7Q  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 :N:8O^D^<  
6.3EUV掩模_146 3&:fS|L~c  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 EOC"a}Cq-  
6.5EUV光刻胶_156 F\72^,0  
6.6EUV掩模缺陷_157 i|'t!3I^m  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 $4,6&dw
g  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 I/|n ma/ $  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 _.LWc^Sg  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 essW,2,rjC  
6.8小结_167 NWj@iyi<  
参考文献_168 W{aNS@1  
CgE5
;O  
第7章投影成像以外的光刻技术 *?Y6qalSy  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 2wvDC@  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 X:/t>0e  
7.1.2技术实现_179 G$<0_0GF  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 $vz%   
7.2无掩模光刻_186 gp2)35  
7.2.1干涉光刻_186 nsk 6a  
7.2.2激光直写光刻_189 $S{j}74[  
7.3无衍射限制的光刻_194 ="K>yUfcFl  
7.3.1近场光刻_195 {Wo7=a
R  
7.3.2利用光学非线性_198 \$"
Xr  
7.4三维光刻_203 xM\ApN~W  
7.4.1灰度光刻_203 3}Qh`+Yj]  
7.4.2三维干涉光刻_205 #w6CL  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 { VO4""m  
7.5浅谈无光刻印_209 9f`Pi:*+/  
7.6小结_210 CXZeL 1+  
参考文献_211 Jmx}r,j  
W9"I++~f  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 ") D!OW]  
8.1实际投影系统中的波像差_220 6Tnzg`0I  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 O6]~5&8U.  
8.1.2波前倾斜_226 [DwB7l)O(  
8.1.3离焦像差_226 V;jz0B  
8.1.4像散_228 g!
ww;_  
8.1.5彗差_229 -&}E:zoe  
8.1.6球差_231 ZbUf|#GTB  
8.1.7三叶像差_233 KHtY +93  
8.1.8泽尼克像差小结_233 K-3 _4As  
8.2杂散光_234 RSC-+c6 1  
8.2.1恒定杂散光模型_235 =d}3>YHS  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 TZg7BLfy  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 $(U|JR@  
8.3.1掩模偏振效应_240 $!Tw`O
 
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 {,=,0NQKn  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 L8ke*O$  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 .2xkf@OP  
8.3.5偏振照明_248 l.$#IE  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 L_,U*Jyo  
8.5小结_250 c^y 1s*  
参考文献_251 E3!twR*Aw  
,e2va7}3  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 CCV~nf  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 }|,y`ui\  
9.1.1时域有限差分法_257 ^>fs  
9.1.2波导法_260 c3##:"wr  
9.2掩模形貌效应_262 b3+PC$z2h  
9.2.1掩模衍射分析_263 j
7&l&)5  
9.2.2斜入射效应_266 Fm"$W^H  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 +Sfv.6~v  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 'Nh^SbD+_|  
9.2.5各种三维掩模模型_277 32yNEP{  
9.3晶圆形貌效应_279 "|if<
hx+  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 ,ME9<3Ac  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 N"TD$NrK\  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 h.*|4;  
9.4小结_283 :z\STXq  
参考文献_283 PJ{.jWwD  
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!f  
第10章先进光刻中的随机效应 I1gu<a  
10.1随机变量和过程_288 7nmo p7  
10.2现象_291 -g0>>{M'  
10.3建模方法_294 jJ|;Nwm<[  
10.4依存性及其影响_297 ]NCOi?Odx  
10.5小结_299 scdT/|(U$  
参考文献_299 cF6|IlhO  
专业词汇中英文对照表 E'Bt1u  
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