《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 /d<"{\o  
e<Pbsj  
9t`   
<[N"W82p  
_4H}OGZI  
第1章光刻工艺概述 ^&nC)T<w  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 7x,c)QES`  
1.2光刻技术的发展史_3 wTT_jyH)  
1.3投影光刻机的空间成像_5 s*blZdP  
1.4光刻胶工艺_10 +s(JutC  
1.5光刻工艺特性_12 P[|FK(l  
1.6小结_18 7hQf T76h  
参考文献_18 T!GX^nn*O  
H\BhAf  
第2章投影光刻的成像原理 xUp[)B6?:  
2.1投影光刻机_20 GoVB
1)  
2.2成像理论_21 )T4%}$(  
2.2.1傅里叶光学描述_21 oN0p$/La  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 fa~u<m  
2.2.3其他成像仿真方法_30 {u/G!{N$  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 >O7ITy  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 S}0W<H P  
2.3.2影响_36 *)PCPYB^  
2.4小结_39 C&d%S|:IR  
参考文献_39 K]0Q=HY{.  
$-Ud&sjn  
第3章光刻胶 F0cde  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 ) ?AlQA  
3.1.1光刻胶的分类_42 BseK?`]U"  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 Y5J}*`[Mr  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 bo;;\>k  
3.1.4现象学模型_48 T);eYC"@  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 s`:>"1\|  
3.2.1技术方面_50 /U|>  
3.2.2曝光_51 ;B8#Nf  
3.2.3曝光后烘焙_54 f^ q0#+k)  
3.2.4化学显影_58 i0,'b61qE  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 \t'v-x>2y5  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 $Vu%4kq  
3.5小结_68 &) '5_#S  
参考文献_69 mPl2y3m%  
aY/msplC  
第4章光学分辨率增强技术 H(eGqVAq,  
4.1离轴照明_74 5IK -V)  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 3$]SP1Mc(  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 M"q]jeaM  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 -uho;  
4.2光学邻近效应校正_81 !11x&Db  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 FQV]/  
4.2.2线端缩短补偿_84 6usy0g D  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ^uU'Qc4S=  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 t>04nN_@,s  
4.3相移掩模_89 ?dWfupO{  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 3YtFO;-  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 I'23$IzPA  
4.4光瞳滤波_100 fS( )F*J  
4.5光源掩模协同优化_102 $!+t2P@d.5  
4.6多重曝光技术_106 =1rq?M eX  
4.7小结_109 |FF"vRi8a7  
参考文献_110 C'iJFfgR  
(thDv rT@2  
第5章材料驱动的分辨率增强 EYe)d+E*  
5.1分辨率极限的回顾_115 a@1r3az  
5.2非线性双重曝光_119 Ch`nDIne  
5.2.1双光子吸收材料_119 hq5=>p  
5.2.2光阈值材料_120 LU#DkuIG  
5.2.3可逆对比增强材料_121 ,bv?c@  
5.3双重和多重成形技术_124 W*'gqwM&  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 8J&K_JC^  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 "82<}D^;  
5.3.3自对准双重成形_126 TEgmE9^`)7  
5.3.4双色调显影_127 ?[[K6v}q{  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 p1dqDgF*  
5.4定向自组装_129 ^7l.!s#$b  
5.5薄膜成像技术_133 M6ol/.G[  
5.6小结_135 @$5!
  
参考文献_135 ELx?ph-9  
wH:'5+u:6  
第6章极紫外光刻 qO5.NIs  
6.1EUV光源_141 MoKGnb  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 Y,v8eOo45S  
6.3EUV掩模_146 X%S9H^9  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 $N7:;X"l  
6.5EUV光刻胶_156 fk(l.A$  
6.6EUV掩模缺陷_157 =y3gnb6  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 :U5>. ):  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 "}uPz4  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 9]Q\Pr\Ub$  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 UX-l`ygl  
6.8小结_167 \wmNeGC2  
参考文献_168 97H2hYw9l  
XxW~4<r  
第7章投影成像以外的光刻技术 xg'FC/1LD  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 `r; .  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 0:(`t~  
7.1.2技术实现_179 4|+6a6  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 {FR#je  
7.2无掩模光刻_186 O5PCR6U  
7.2.1干涉光刻_186 t7VXW{3  
7.2.2激光直写光刻_189 8G?{S.%.  
7.3无衍射限制的光刻_194 *+p9u 1B5  
7.3.1近场光刻_195 .Gq)@{o>  
7.3.2利用光学非线性_198 :#!m(s`  
7.4三维光刻_203 5S PGv}if  
7.4.1灰度光刻_203 {7`eR2#Wq  
7.4.2三维干涉光刻_205 4m%RD&ZN
 
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 H6<\7W89y  
7.5浅谈无光刻印_209 `pp"htm   
7.6小结_210 M) 9Ss  
参考文献_211 a#X[V5|6Q  
)Cuc]>SC  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 A[lkGQtS4  
8.1实际投影系统中的波像差_220 dQ*3s>B[  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 Ez^U1KKOE7  
8.1.2波前倾斜_226 aHKv*-z-  
8.1.3离焦像差_226 EP#3+BsH  
8.1.4像散_228 XVi?-/2  
8.1.5彗差_229 V@jR8zv|_  
8.1.6球差_231 89F^I"Im(  
8.1.7三叶像差_233 &6/# O  
8.1.8泽尼克像差小结_233 [guJd";  
8.2杂散光_234 3@e#E4+ff  
8.2.1恒定杂散光模型_235 pCSR^ua>  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 v&}mbt-  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 &3VR)Bxn  
8.3.1掩模偏振效应_240 ]}/LNO*L"  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 (o_wv  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 }Vw"7  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 oDp!^G2A"  
8.3.5偏振照明_248 =@b/Gl  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250  WpX)[au  
8.5小结_250 9)p VDS  
参考文献_251 uX@RdkC  
rlYAy5&  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 g7k|Ho-W  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ' }rUbJo  
9.1.1时域有限差分法_257 TD+V.}  
9.1.2波导法_260 CuPZ0  
9.2掩模形貌效应_262 6\(wU?m'/  
9.2.1掩模衍射分析_263 yG?,8!/]  
9.2.2斜入射效应_266 ]}R\[F (_%  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 yG'5up  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 Wa~'p+<c~b  
9.2.5各种三维掩模模型_277 heiIb|z  
9.3晶圆形貌效应_279 uzL)qH$b  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 /N+*=LIK I  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 d^X;XVAvP  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 <!^wGN$f  
9.4小结_283 `,ZsKxI  
参考文献_283 v\ggFrG]  
gW'aK>*c  
第10章先进光刻中的随机效应 l>)0OP]  
10.1随机变量和过程_288 [ajF  
10.2现象_291 G"0YCi#I|  
10.3建模方法_294 KumbG>O  
10.4依存性及其影响_297 uW!',"0ER  
10.5小结_299 D`3m%O(?  
参考文献_299 Ia:n<sZU  
专业词汇中英文对照表 k}y1IW+3  
),5^bl/