《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 iTpU4Qsj  
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第1章光刻工艺概述 qL1d-nH  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 /'uFX,  
1.2光刻技术的发展史_3 Qin;{8I0  
1.3投影光刻机的空间成像_5 7Ew.6!s#n1  
1.4光刻胶工艺_10 tM&;b?bJ[  
1.5光刻工艺特性_12 -0R;C`(!  
1.6小结_18 'D1Sm&M2%e  
参考文献_18 &8^ch,+pD  
[tEHr  
第2章投影光刻的成像原理 ^+)q@{\8Y  
2.1投影光刻机_20 rh%-va9  
2.2成像理论_21 b( qO fek  
2.2.1傅里叶光学描述_21 X&+*?Q^  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ' +*,|;?  
2.2.3其他成像仿真方法_30 7x ?2((  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 #ekz>/Im*  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 Y\pRk6,  
2.3.2影响_36 !?%'Fy6t  
2.4小结_39 ;s(ua
C3  
参考文献_39 xM6v0Ua  
ctB(c`zcY  
第3章光刻胶 e_{!8u.+  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 -'jPue2\  
3.1.1光刻胶的分类_42 Il&}4#:  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ?5
yj</W  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 ! !9l@  
3.1.4现象学模型_48 SSh=r  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 W<"{d  
3.2.1技术方面_50 rt5eN:'qY  
3.2.2曝光_51 oy?>e1Sy*  
3.2.3曝光后烘焙_54 `4N{x.N  
3.2.4化学显影_58 C"=^(HU  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 x22:@Ot6  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 @T6Z3Zj}  
3.5小结_68 Gd08RW  
参考文献_69 OalBr?^  
<y30t[.E6  
第4章光学分辨率增强技术 ZKT~\l  
4.1离轴照明_74 RaNz)]+7`  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 A7SE>e>  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 9*lkx#  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 Y=-ILN("  
4.2光学邻近效应校正_81 N1Pm4joH%  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 :?}U Z#  
4.2.2线端缩短补偿_84 B,Gt6cUq  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 J/o$\8tiMw  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 P4~=_Hh  
4.3相移掩模_89 p>c`GDU  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 0D*uZ,oBEw  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 Qn*a#]p  
4.4光瞳滤波_100  t=;84lA  
4.5光源掩模协同优化_102 s?2DLXv}!  
4.6多重曝光技术_106 uv,_?x\'  
4.7小结_109 .M$}.v  
参考文献_110 /#,3JU$w  
J^G#x}y  
第5章材料驱动的分辨率增强 -#nfO*H}  
5.1分辨率极限的回顾_115 {ta0dS;1  
5.2非线性双重曝光_119 YsHZFF  
5.2.1双光子吸收材料_119 i(k]}Di:  
5.2.2光阈值材料_120 3w B03\P  
5.2.3可逆对比增强材料_121 DrTo")T  
5.3双重和多重成形技术_124 $j\UD8Hj'-  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 p`i_s(u  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 =c>w  
5.3.3自对准双重成形_126 {D(_"  
5.3.4双色调显影_127 JrkjfoN  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 !w[io;  
5.4定向自组装_129 {Va"o~io  
5.5薄膜成像技术_133 T|c9Swur  
5.6小结_135 t`XYY  
参考文献_135 f#W5Nu'*!  
1M4I7*r  
第6章极紫外光刻 TyCMZsvM,  
6.1EUV光源_141 s]X]jfA.  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 sPee"9
%,  
6.3EUV掩模_146 ~alC5|wCUQ  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 i'Oh^Y)E#  
6.5EUV光刻胶_156 +6xEz67A<  
6.6EUV掩模缺陷_157 v=~=Q*\l  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 #jja#PF]7  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 Dw@0P  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 f8DF>]WW  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 osJ;"B36  
6.8小结_167 Ikkv <uY  
参考文献_168 S&C  
_Vs\:tygs  
第7章投影成像以外的光刻技术 E,#J\)'z  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 9\|n2$H:  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ?}N@bsl08w  
7.1.2技术实现_179 +N9(o+UrU  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 }- Jw"|^W  
7.2无掩模光刻_186 `z=I}6){  
7.2.1干涉光刻_186 #NAlje(7  
7.2.2激光直写光刻_189 `dYM+ jpa  
7.3无衍射限制的光刻_194 "))G|+tz  
7.3.1近场光刻_195 r2EIhaGF;  
7.3.2利用光学非线性_198 ?\Q
EK  
7.4三维光刻_203 }<EA)se"  
7.4.1灰度光刻_203 0.^9)v*i  
7.4.2三维干涉光刻_205 n%Vt r  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 2EeWcTBU}.  
7.5浅谈无光刻印_209 S >PTD@  
7.6小结_210 uM8YY[b  
参考文献_211
{I!sXj  
CaZ{UGokL  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 .Qpqbp 8  
8.1实际投影系统中的波像差_220 0YsC@r47wL  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 G?Y2 b  
8.1.2波前倾斜_226 
HS|X//]  
8.1.3离焦像差_226 3q=A35*LT>  
8.1.4像散_228 ^oFg5  
8.1.5彗差_229 n')#]g0[  
8.1.6球差_231 DcN s`2  
8.1.7三叶像差_233 #-9;Hn4x  
8.1.8泽尼克像差小结_233 ])=k";76  
8.2杂散光_234 /"t*gN=wrF  
8.2.1恒定杂散光模型_235 kq[*q-:"x  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 g+ik`q(ge  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 oEHUb?(p  
8.3.1掩模偏振效应_240 (ia
(y(=C  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 FDB^JH9d  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 xGQ958@  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 0Ts[IHpg&E  
8.3.5偏振照明_248 !s;+6Sy  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 )fz)Rrr  
8.5小结_250 Bv^{|w  
参考文献_251 =OIxG}*  
Oj#nF@U  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 3*G7H  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ':71;^zXf  
9.1.1时域有限差分法_257 Q"UQv<  
9.1.2波导法_260 a G^k
L  
9.2掩模形貌效应_262 M"OXNPkc  
9.2.1掩模衍射分析_263 m8F-#?~  
9.2.2斜入射效应_266 mbBd3y  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 #c5 NFU}9  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272
A f@IsCOJ  
9.2.5各种三维掩模模型_277 X[:&p|g]  
9.3晶圆形貌效应_279 .c'EXuI7),  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 W@w#A]  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 +_gPZFpbx  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 goi5I(yn^  
9.4小结_283 +I
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参考文献_283 hlxZq  
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第10章先进光刻中的随机效应 r%hnl9
  
10.1随机变量和过程_288 B Mh949;  
10.2现象_291 ~Dw.3P:-  
10.3建模方法_294 3tMFJ ;*`  
10.4依存性及其影响_297 F/[vg  
10.5小结_299 7p&%0'BO1z  
参考文献_299 }O<u  
专业词汇中英文对照表 RsS?ibozl  
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