《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 dZ,~yV  
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U^9#uK6GM  
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第1章光刻工艺概述 Hni?r!8r  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 $ I|K<slV  
1.2光刻技术的发展史_3 xdrs
!GV:  
1.3投影光刻机的空间成像_5 bA(-7l?  
1.4光刻胶工艺_10 G`FY[^:  
1.5光刻工艺特性_12 U#kdcc|  
1.6小结_18 G"F:68  
参考文献_18 _F tI2G9  
NFBhnNH+  
第2章投影光刻的成像原理 $5J~4B"%3  
2.1投影光刻机_20 !2]'S=Y  
2.2成像理论_21 5>S)+p  
2.2.1傅里叶光学描述_21 &>
3AL,  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 7H_*1_%ZQ  
2.2.3其他成像仿真方法_30 t@3y9U$  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 > ZKHjw  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 FYX"q-Z  
2.3.2影响_36 ?9:~d#p  
2.4小结_39 L(_bf/@3  
参考文献_39 DkeFDzQ5  
:Wd@Qy?;  
第3章光刻胶 ^,6c9Dxy  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 B1(T-pr  
3.1.1光刻胶的分类_42 P] qL&_  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 "D7wt
pJ  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 ;;7:l,vy  
3.1.4现象学模型_48 )o_Pnq9_  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 b' fcWp0  
3.2.1技术方面_50 Vae=Yg=fw  
3.2.2曝光_51 [F}_Ime  
3.2.3曝光后烘焙_54 p[7?0 (  
3.2.4化学显影_58 {9<c*0l  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 +`'>  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 R9)"%SO<y  
3.5小结_68 i 3i  
参考文献_69 zF#:Uc`C5U  
2rG$.cGN"  
第4章光学分辨率增强技术 tIL ]JB  
4.1离轴照明_74 ]r(s02  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 @Avve8S  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 P8n |MN  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 KU*XRZu)  
4.2光学邻近效应校正_81 lkaWwjv_D  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 ,HtXD~N  
4.2.2线端缩短补偿_84 G)3Q|Vc  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 tqwAS)v=  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 7~m[:Eg6[s  
4.3相移掩模_89 tu5T^"BqO  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 `tEW.s%Y(6  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 u E<1PgW  
4.4光瞳滤波_100 !]t5(g_  
4.5光源掩模协同优化_102 _tR?WmNH=  
4.6多重曝光技术_106 V[ 'lB.&t  
4.7小结_109 Y [%<s/  
参考文献_110 L(t!C~3  
vhKHiw9L  
第5章材料驱动的分辨率增强 5LJ0V  
5.1分辨率极限的回顾_115 /xw}]Fa5  
5.2非线性双重曝光_119 u{%dm5  
5.2.1双光子吸收材料_119 >h{)7Hv  
5.2.2光阈值材料_120 /<T3^/ '  
5.2.3可逆对比增强材料_121 wL~-k  
5.3双重和多重成形技术_124 8\Kpc;zb  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 Df.eb|[{  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 );=0cnr3  
5.3.3自对准双重成形_126 G?<uw RV  
5.3.4双色调显影_127 ~UQXt r  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 *
IWWD\U  
5.4定向自组装_129 QyD(@MFxb  
5.5薄膜成像技术_133 (DY&{vudF  
5.6小结_135 T$*#q('1"}  
参考文献_135 @!p0<&R@x  
L*(`ccU  
第6章极紫外光刻 e>g>)!F  
6.1EUV光源_141 H_FT%`iM  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 PpezWo)9  
6.3EUV掩模_146 {iYrC m[_  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 *NCkC ~4  
6.5EUV光刻胶_156 dry>TXG*  
6.6EUV掩模缺陷_157 KtD XB>  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 qijQRxS  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 #MUY!  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 B,U|

V  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 q0L\{  
6.8小结_167 PC3?eS}  
参考文献_168 rVZlv3  
([dJ'OPx$  
第7章投影成像以外的光刻技术 BKKW3PT  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 =d#(n M*  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 aY0{vX  
7.1.2技术实现_179
r7-H`%.  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 H @5dj}  
7.2无掩模光刻_186 VWrb`p@  
7.2.1干涉光刻_186 W#kd[Wi  
7.2.2激光直写光刻_189 `PZcL2~E  
7.3无衍射限制的光刻_194 E?
S
  
7.3.1近场光刻_195 m\G
45%m  
7.3.2利用光学非线性_198 F+)g!NQZ  
7.4三维光刻_203 ?D;7ut$~  
7.4.1灰度光刻_203 +h@ZnFp3  
7.4.2三维干涉光刻_205 `t3w|%La}  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 & tjL*/  
7.5浅谈无光刻印_209 lQ&J2H<
w  
7.6小结_210 W/<Lp+p  
参考文献_211 Cs2kbG_  
1>L8EImx]V  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 uc aa;zj  
8.1实际投影系统中的波像差_220 $bl<mG%#9  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 2`J#)f|  
8.1.2波前倾斜_226 ai"N;1/1O|  
8.1.3离焦像差_226 iL
Q;`/j  
8.1.4像散_228 `#4q7v~>oe  
8.1.5彗差_229 Rk#p zD  
8.1.6球差_231 i?861Hu  
8.1.7三叶像差_233 -J>f,zA  
8.1.8泽尼克像差小结_233 gO#%*  W  
8.2杂散光_234 b8**M'k  
8.2.1恒定杂散光模型_235 pgPm0+N  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 {t|Q9
&  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 ce:wF#Qs
 
8.3.1掩模偏振效应_240 b%7zu}F  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 )j!%`g  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 j\iNag(  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 e!vWGnY  
8.3.5偏振照明_248 XZrzG P(  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 }=A+W2D  
8.5小结_250 W&HxMi  
参考文献_251 lib}dk  
C!Jy
;Z=+u  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 ZEs^b  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 +mN8uU~(kx  
9.1.1时域有限差分法_257 5w5"rcV  
9.1.2波导法_260 |XmzqX%  
9.2掩模形貌效应_262 f9t+x+ Z  
9.2.1掩模衍射分析_263 i ^, $/  
9.2.2斜入射效应_266 [8>#b_
>  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 :XOjS[wBm  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 J^!wk
9q  
9.2.5各种三维掩模模型_277 vAjog])9s  
9.3晶圆形貌效应_279 lQxEiDIL  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 &5*t*tI  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 =3PZGdWD  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 3;88a!AA!  
9.4小结_283 c3WF!~1r  
参考文献_283 N{<5)L~Y  
Y.kc,~vYL  
第10章先进光刻中的随机效应 G=l:v  
10.1随机变量和过程_288 hqV_MeHv'  
10.2现象_291 %Vfr#j$
=  
10.3建模方法_294 [LrO"9q(  
10.4依存性及其影响_297 +_jM$?:F}  
10.5小结_299 r@PVSH/  
参考文献_299 O&sUPv  
专业词汇中英文对照表 @2`nBtk  
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