《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 },-H"Qs  
8KzkB;=n  
}k.Z~1y  
e+fN6v5pU  
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第1章光刻工艺概述 aK^q_ghh[  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 j?4qO]_Wx+  
1.2光刻技术的发展史_3 X#
^[<5  
1.3投影光刻机的空间成像_5 x
7 ,5  
1.4光刻胶工艺_10 4^o^F-k'  
1.5光刻工艺特性_12 6(-N FnT  
1.6小结_18 %d9uTm;  
参考文献_18  rjnrju+  
^} >w<'0  
第2章投影光刻的成像原理 f]srRYSR  
2.1投影光刻机_20 "E4a=YH_  
2.2成像理论_21 {]4LULq  
2.2.1傅里叶光学描述_21 ]3Sp W{=^(  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 inp7K41  
2.2.3其他成像仿真方法_30 I{=Qtnlb  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 +9sQZB# (  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 dioGAai'  
2.3.2影响_36 [v!f<zSQK  
2.4小结_39 G$('-3@i`w  
参考文献_39 @-`*m+$U6  
0?|<I{z2  
第3章光刻胶 `C'H.g\>2Q  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 U-k`s[dv  
3.1.1光刻胶的分类_42 44j*KsBf  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 &s>Jb?_5Mx  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 )MT}+ai  
3.1.4现象学模型_48 5146kp|1  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 &s!@29DXR  
3.2.1技术方面_50 7D_=  
3.2.2曝光_51 +^F Zq$NP  
3.2.3曝光后烘焙_54 6[AL|d DK  
3.2.4化学显影_58 4
s9LB  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 nQ3A~ ()  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 n|yO9:Uw<  
3.5小结_68 C~exi[3  
参考文献_69 w7&A0M  
zX i'kB  
第4章光学分辨率增强技术 gf\oC> N  
4.1离轴照明_74 B^}yo65I  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 Pr C{'XDlU  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 6j|{`Zd)G  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 w5 Li&m  
4.2光学邻近效应校正_81 0#gK6o!  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 2y1Sne=<Kb  
4.2.2线端缩短补偿_84 {?7Uj  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 X2'0PXv>!  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 \o3gKoL%  
4.3相移掩模_89 +&H4m=D-#a  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 '$+ogBS  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 8
zq=N#x  
4.4光瞳滤波_100 wVtwx0|1  
4.5光源掩模协同优化_102 E _|<jy$`  
4.6多重曝光技术_106 *lJxH8\  
4.7小结_109 [()koU#w.  
参考文献_110 u9p$YJ  
;722\y(Y  
第5章材料驱动的分辨率增强 1Ai^cf:S  
5.1分辨率极限的回顾_115 j B{8u&kz)  
5.2非线性双重曝光_119 f* wx<  
5.2.1双光子吸收材料_119 %\:Wi#w>  
5.2.2光阈值材料_120 ^xk'Z  
5.2.3可逆对比增强材料_121 |JsZJ9W+J  
5.3双重和多重成形技术_124 ;<4a*;IO  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 %B?=q@!QWn  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 RT8 ?7xFc  
5.3.3自对准双重成形_126 bcz:q/f}@  
5.3.4双色调显影_127 RPbZ(.  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 AQ^u  
5.4定向自组装_129 _)iCa3z  
5.5薄膜成像技术_133 xD=csJ'(  
5.6小结_135 )QJUUn#  
参考文献_135 dDGQ`+H9  
b7ZSPXV  
第6章极紫外光刻 a,o*=r  
6.1EUV光源_141 ]/{)bpu  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 |5]X| v
 
6.3EUV掩模_146 ,`sv1xwd  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 !bP@n  
6.5EUV光刻胶_156 zKK9r~ M  
6.6EUV掩模缺陷_157 !H\F2Vxs  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 z0Z%m@  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 V]?R>qhgu  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 &xExyz~`  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 s,_m{ to  
6.8小结_167 -F3-{E  
参考文献_168 c+GG\:gM  
\ 6MCxh6  
第7章投影成像以外的光刻技术 .X;K%J2  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 c[
s4EUG  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 u]G\H!WkQ  
7.1.2技术实现_179 c1gQ cqF  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 og>uj>H&  
7.2无掩模光刻_186 x|29L7i  
7.2.1干涉光刻_186 BL4-7  
7.2.2激光直写光刻_189 A/?7w   
7.3无衍射限制的光刻_194 |&4/n6;P$0  
7.3.1近场光刻_195 .eC1qWZJpd  
7.3.2利用光学非线性_198 fd9k?,zM  
7.4三维光刻_203 o,wUc"CE  
7.4.1灰度光刻_203 T6kdS]4-  
7.4.2三维干涉光刻_205 lr$zHI7_`  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 /<BI46B\  
7.5浅谈无光刻印_209 OB}Ib]  
7.6小结_210 EEL,^3KR  
参考文献_211 m)D|l1AtF  
wS3'?PRX  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 D3K8F@d  
8.1实际投影系统中的波像差_220 V^~:F  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 "^iYLQOC  
8.1.2波前倾斜_226 x$(f7?s] 1  
8.1.3离焦像差_226 7>*vI7O0l  
8.1.4像散_228 ,"0:3+(8;  
8.1.5彗差_229 Yz93'HDB  
8.1.6球差_231 @|T'0_'  
8.1.7三叶像差_233 yaV|AB$v  
8.1.8泽尼克像差小结_233 v(%*b,^  
8.2杂散光_234 l9H!au=  
8.2.1恒定杂散光模型_235 (C)p9-,  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 Uoix  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 >c}u>]D  
8.3.1掩模偏振效应_240 )BfAw  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 YZJyk:H\  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 2I{"XB  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 ,"79P/C  
8.3.5偏振照明_248 _h1mF<\ X^  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 _u9Jxw?F@Y  
8.5小结_250 [=`q>|;pOv  
参考文献_251 |! "eWTJ  
11;zNjD|  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 \z} Ic%Tp  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 {BU
;$  
9.1.1时域有限差分法_257 +x}<IS8  
9.1.2波导法_260 +[g,B1jt  
9.2掩模形貌效应_262 `~q<N  
9.2.1掩模衍射分析_263 Rbv;?'O$L  
9.2.2斜入射效应_266 T^]}Oy@e,J  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 ~WV"SaA)*U  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 see
BS/%  
9.2.5各种三维掩模模型_277 vs{s_T7Mz]  
9.3晶圆形貌效应_279 y1L,0 ]  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 ENY+^7  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 -d:Jta!}{  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 "U"Z 3*  
9.4小结_283 uWE^hz"  
参考文献_283 Dv`c<+q(#  
x]ot 2  
第10章先进光刻中的随机效应 "kqPmeI  
10.1随机变量和过程_288 RViuJ;  
10.2现象_291 @7n"yp*"  
10.3建模方法_294 m&yJzMW|  
10.4依存性及其影响_297 Uf+%W;}  
10.5小结_299 NQ2E  
参考文献_299 H} g{Cr"Ex  
专业词汇中英文对照表 QP J4~  
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