《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 "n05y}  
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第1章光刻工艺概述 *'`-plS7  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 Ep'C FNbtW  
1.2光刻技术的发展史_3 ) .]Z}g&  
1.3投影光刻机的空间成像_5 'i@Y #F%D  
1.4光刻胶工艺_10 g1}RA@9  
1.5光刻工艺特性_12 * dNMnZ@Y  
1.6小结_18 Sa@Xh,y Z  
参考文献_18 {fS/ZG"5<t  
>&$V"*]  
第2章投影光刻的成像原理 |Rab'9U^  
2.1投影光刻机_20 y[$e]N  
2.2成像理论_21 &0o&!P8CB  
2.2.1傅里叶光学描述_21 !}vz_6)  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 
i\PN  
2.2.3其他成像仿真方法_30 lOE
bh  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 f< '~K  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 iI_Fbw8  
2.3.2影响_36 2Nj0 Hqjq  
2.4小结_39 t qER;L  
参考文献_39 W:tE ?Hu  
UkGUxQ,GU  
第3章光刻胶 VX- f~  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 %b_zUFHPp  
3.1.1光刻胶的分类_42 2h/`RefHJ  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 z3$PrK%  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 ciXAyT cG  
3.1.4现象学模型_48 1o$<pZZ  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 _=cMa's  
3.2.1技术方面_50 }LE/{]A  
3.2.2曝光_51 +V0uHpm  
3.2.3曝光后烘焙_54 TRQva8d?  
3.2.4化学显影_58 4sva%Up  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 czT$mKj3  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 3W27R  
3.5小结_68 mM95BUB  
参考文献_69 bZKK'd$I  
T0Gu(c`1d  
第4章光学分辨率增强技术 pQqZ4L6v  
4.1离轴照明_74 t<`BaU  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 UV:_5"-  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 .+8w\>w6g  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 v0HFW%YJ^J  
4.2光学邻近效应校正_81 XBDlQe|>  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 $w65/  
4.2.2线端缩短补偿_84 LUCpZ3F1  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ^h' wZ7-\  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 .]jKuTC\<  
4.3相移掩模_89 J M`uIVnNA  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 XCk \#(VSE  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 uEk$Y=p7!  
4.4光瞳滤波_100 Kj}}O2  
4.5光源掩模协同优化_102 i|2Q}$3t2  
4.6多重曝光技术_106 /FQumqbnt  
4.7小结_109 "V^(
i%E;  
参考文献_110 6T)D6;@L  
jF'S"_/?  
第5章材料驱动的分辨率增强 jd$lu^>I  
5.1分辨率极限的回顾_115 Yr0%ZYfN  
5.2非线性双重曝光_119 PvO>}(=  
5.2.1双光子吸收材料_119 pfZxG.l  
5.2.2光阈值材料_120 3s
$m0
 
5.2.3可逆对比增强材料_121 oS]XE!
^M  
5.3双重和多重成形技术_124 gB&'MA!  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 iJ#sg+  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 +nZx{d,wt  
5.3.3自对准双重成形_126 2"2b\b}my  
5.3.4双色调显影_127 5Rc 5/m  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 xro  
5.4定向自组装_129 TMq\}k-I5  
5.5薄膜成像技术_133 P,*R@N  
5.6小结_135 !$fBo3!B_8  
参考文献_135 F_@PSA+  
sl`\g1<{`  
第6章极紫外光刻 aP2  
6.1EUV光源_141 I]zCsT.  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 0Y[mh@(  
6.3EUV掩模_146 b}axw+  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 yht_*7.lM  
6.5EUV光刻胶_156 MQLa+I,S4  
6.6EUV掩模缺陷_157 w+[r$+z!k  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 )x8Izn  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 nIdvff  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 ^cX);koO  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 &;*jMu6  
6.8小结_167 pOx0f;'G+  
参考文献_168 D4[t@*m>7  
zQ5'q  
第7章投影成像以外的光刻技术 /\OjtE  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ~%>ke   
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 29}(l#S}m  
7.1.2技术实现_179 h_fA  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 #M%-q8  
7.2无掩模光刻_186 qm]k (/w  
7.2.1干涉光刻_186 {&G0jsA  
7.2.2激光直写光刻_189 0oc5ahp  
7.3无衍射限制的光刻_194 F"~uu9u  
7.3.1近场光刻_195 Bv@NE2  
7.3.2利用光学非线性_198 3/oVl
6  
7.4三维光刻_203 x2(
hp  
7.4.1灰度光刻_203 Uz[#t1*  
7.4.2三维干涉光刻_205 #jbo! wdg  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 r+d%*Dx  
7.5浅谈无光刻印_209 <4D.P2ct  
7.6小结_210 c?>@P  
参考文献_211 6|~N5E~SX  
l/#;GYB]  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 gT?
:zd=;  
8.1实际投影系统中的波像差_220 0%#ZupN  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 IP9mv`[  
8.1.2波前倾斜_226 yC(xi"!  
8.1.3离焦像差_226 /X; [ 9&  
8.1.4像散_228 jgK8} C  
8.1.5彗差_229 hCuUX)>Bt  
8.1.6球差_231 ,_F@9Up  
8.1.7三叶像差_233 Hj2E-RwG  
8.1.8泽尼克像差小结_233 |W:xbtPNy  
8.2杂散光_234
bM+}j+0  
8.2.1恒定杂散光模型_235 :bNqK0[rS  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 ..)O/g.  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 *@^9]$*$  
8.3.1掩模偏振效应_240 ViKN|W>T  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 6Q"fRXM  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 ?:H4Xd7  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 O3x9S,1i  
8.3.5偏振照明_248 4"at~K` Q  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 j0_)DG  
8.5小结_250 S ( e]@  
参考文献_251 *6IytWOX5  
5%Hw,h   
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 @Fvp~]jCb  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 k[#<=G_=/E  
9.1.1时域有限差分法_257 pMndyuoJl  
9.1.2波导法_260
?d&l_Pa0e  
9.2掩模形貌效应_262 Qu"zzb"k  
9.2.1掩模衍射分析_263 |KY6IGcqV  
9.2.2斜入射效应_266 lC|`DG-B  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 "tdF#>x  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 __LR!F]
=i  
9.2.5各种三维掩模模型_277 rvfS[@>v  
9.3晶圆形貌效应_279 R2,Z`I
 
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 VC~1QPC9  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 n-P<y  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 C%&A9(jG  
9.4小结_283 t}6QU  
参考文献_283 &|MdBJ  
OYW:I1K<5  
第10章先进光刻中的随机效应 pUF$Nq>og  
10.1随机变量和过程_288 @@uKOFA?  
10.2现象_291 q#D-}R_RN  
10.3建模方法_294 |2AMj0V
~  
10.4依存性及其影响_297 DL<b)# h#  
10.5小结_299 ^`iqa-1  
参考文献_299 1zIX $A  
专业词汇中英文对照表 kZ5;Fe\*  
g A+p^`;[