《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 v&Yi  
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AS'R?aX|C  
第1章光刻工艺概述 Z_};|B}  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 7~^GA.92  
1.2光刻技术的发展史_3 I7|Pi[e  
1.3投影光刻机的空间成像_5 9ifDcYl  
1.4光刻胶工艺_10 42{Ew8  
1.5光刻工艺特性_12 \o}xF@sM5  
1.6小结_18 p{amC ;cI$  
参考文献_18 : UGZ+  
`#F{Waww'  
第2章投影光刻的成像原理
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2.1投影光刻机_20 591>rh)  
2.2成像理论_21 DBW[{DE  
2.2.1傅里叶光学描述_21 :mh_G
 
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 S!jTyY7e  
2.2.3其他成像仿真方法_30 \HxT@UQ)~  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 m[?E  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 L-jJg,eY  
2.3.2影响_36 qON|4+
~u%  
2.4小结_39 &zl|87M  
参考文献_39 3}TaF~  
7E r23Q  
第3章光刻胶 dA@]!  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 p `8s  
3.1.1光刻胶的分类_42 c]x1HvPE  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 nt 81Bk=  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 1n >X[! 8x  
3.1.4现象学模型_48 Y_;#UU689  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 8p^bD}lN7  
3.2.1技术方面_50 bR*-Ht+wd  
3.2.2曝光_51 1->dMm}G[  
3.2.3曝光后烘焙_54 yzbx .  
3.2.4化学显影_58 ^crCy-`#  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 E ]A#Uy  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 7`-Zuf  
3.5小结_68 ^=BTz9QM  
参考文献_69 A>vBQN  
''q@>  
第4章光学分辨率增强技术 oRm L {UDZ  
4.1离轴照明_74 KSbKEA  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 7L`A{L  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 A;;fACF8e  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 %q/62f7?  
4.2光学邻近效应校正_81 4,bv)Im+ `  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 |'.*K]Yp  
4.2.2线端缩短补偿_84 G"-?&)M#a  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 hv`~?n)D66  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 )JDs\fUE  
4.3相移掩模_89 *?5*m+  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 qW$<U3u}  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 14Xqn
8uOW  
4.4光瞳滤波_100 i2@VB6]?  
4.5光源掩模协同优化_102 #+:9T/*>0  
4.6多重曝光技术_106 h%o%fH&F!  
4.7小结_109 RHaI~jb  
参考文献_110 ;+e}aER&9  
sd,J3  
第5章材料驱动的分辨率增强 (_ni
MQtF}  
5.1分辨率极限的回顾_115 (n*^4@"2
 
5.2非线性双重曝光_119 ~xA-V4.  
5.2.1双光子吸收材料_119 )<oJnxe]  
5.2.2光阈值材料_120 u8gS<\  
5.2.3可逆对比增强材料_121 WzPTFw[  
5.3双重和多重成形技术_124 !S^AgZ~  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 C\S3Gs  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 ; o?-yI&T*  
5.3.3自对准双重成形_126 Y#!UPhg<  
5.3.4双色调显影_127 00G%gQXk,  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 ?+_Gs;DGVE  
5.4定向自组装_129 J4QXz[dG  
5.5薄膜成像技术_133 8qY79)vD4E  
5.6小结_135 w zYzug  
参考文献_135 33o9Yg|J~  
\.C+ue  
第6章极紫外光刻 xO$lsZPG  
6.1EUV光源_141 `e(c^z#  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 ^"VJd[Hn  
6.3EUV掩模_146 ~8~aJ^[  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 y[`l3;u:'  
6.5EUV光刻胶_156 xe#FUS 3  
6.6EUV掩模缺陷_157 hXfQ)$J  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 `s"'r !  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 o}$XH,-9&  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 XF Patd  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 >/:" D$  
6.8小结_167 PpGL/,]X  
参考文献_168 EqyeJq .  
;Yx)tWQI  
第7章投影成像以外的光刻技术 W0(_~  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 3[\iQ*d }B  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 Ky|88~}:C9  
7.1.2技术实现_179 Y,GU%[+  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 e&simX;W  
7.2无掩模光刻_186 TkE 8D n  
7.2.1干涉光刻_186 ,oN8HpGs  
7.2.2激光直写光刻_189 FYOD Upn  
7.3无衍射限制的光刻_194 E4gYemuN  
7.3.1近场光刻_195 {G|,\O1  
7.3.2利用光学非线性_198 _wC3kAO  
7.4三维光刻_203 1q~+E\x  
7.4.1灰度光刻_203 @.osJ}F
xA  
7.4.2三维干涉光刻_205 NS9B[*"Jl  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 N8!cO[3Oh  
7.5浅谈无光刻印_209 X
UM!Qv  
7.6小结_210 nIAx2dh?  
参考文献_211 m$`RcwO  
&J55P]7w  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 ZtV9&rd7  
8.1实际投影系统中的波像差_220 2Gz}T _e  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 :@kGAI  
8.1.2波前倾斜_226 {n(b{ibl  
8.1.3离焦像差_226 vbkI^+=,YY  
8.1.4像散_228 <DMl<KZ  
8.1.5彗差_229 tna .52*/  
8.1.6球差_231 x1Lb*3Fe  
8.1.7三叶像差_233 $iI]MV%
=  
8.1.8泽尼克像差小结_233 p%iGc<vHX  
8.2杂散光_234 ~Cl){8o  
8.2.1恒定杂散光模型_235 0T@Zb={  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 ]P#XVDn+;  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 flk=>
h|  
8.3.1掩模偏振效应_240 _6O\W%it  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 P6E3-?4j  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 LL]zT H0  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 {xwm^p(f  
8.3.5偏振照明_248 ^=C{.{n  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 HqI t74+  
8.5小结_250 EM]s/LD@%  
参考文献_251 |w_7_J2
 
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第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 GRGzP&}@  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 z|=}1;(.  
9.1.1时域有限差分法_257 J+[_Wd  
9.1.2波导法_260 c05TsMF&O  
9.2掩模形貌效应_262 U2{ dN>  
9.2.1掩模衍射分析_263 .9R [*<  
9.2.2斜入射效应_266 S7=Bd[4  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 |\QgX%  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 Tg!i%v(-t  
9.2.5各种三维掩模模型_277 ([ jF4/  
9.3晶圆形貌效应_279 0zo?eI  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 {88)~  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 9U{a{~b  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 6Pnk5ps }h  
9.4小结_283 0.dgoq3u  
参考文献_283 LAVAFlK5  
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第10章先进光刻中的随机效应 }xBc0gr  
10.1随机变量和过程_288 0QPH}Vi5}  
10.2现象_291 zV:pQRbt.  
10.3建模方法_294 EPS={w$'s  
10.4依存性及其影响_297 cj+ FRG~u  
10.5小结_299 9l}FU$  
参考文献_299 7G.#O}).b  
专业词汇中英文对照表 L~(_x"uXd  
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