《光学光刻和极紫外光刻》

发布:cyqdesign 2023-04-12 19:25 阅读:3404
光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著,内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上,涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的物理机制和数学模型时,采用了完整而不繁琐的方法,增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后,还专门开辟章节,介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点,它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 !C)>  
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EPUJa~4  
>!ZyykAs  
I{P$B-  
第1章光刻工艺概述 uS+b* :  
1.1微型化: 从微电子到纳米技术_1 E4fvYV_ra  
1.2光刻技术的发展史_3 u/{_0-+P  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ]H@uuPT!  
1.4光刻胶工艺_10 S g_?.XZc[  
1.5光刻工艺特性_12 Ns7l-mb  
1.6小结_18 [>QsMUvak  
参考文献_18 :r|P?;t(  
b*%WAVt 2T  
第2章投影光刻的成像原理 <k8rSx n{  
2.1投影光刻机_20 @X / =.  
2.2成像理论_21 fJN9+l  
2.2.1傅里叶光学描述_21 7Bb@9M?i  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 KgkB)1s@n  
2.2.3其他成像仿真方法_30 tYxlM!  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 a*ixs'MJ  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 U},W/g-  
2.3.2影响_36 Bf}0'MK8zQ  
2.4小结_39 !"qEB2r  
参考文献_39 kJ:5msKwC  
9<#R;eIsv  
第3章光刻胶 X=RmCc$:  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 _3?xIT  
3.1.1光刻胶的分类_42 "+OMo-<K7  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 e}@J?tJK.L  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 p{_ O*bo  
3.1.4现象学模型_48 $TUC?e9"h  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 R~ u7;Wv  
3.2.1技术方面_50 pc(9(. |  
3.2.2曝光_51 -cS4B//IK8  
3.2.3曝光后烘焙_54 ]5MR p7  
3.2.4化学显影_58 (?=(eo<N  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 Z-=7QK.\{  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 yOm6HA``hT  
3.5小结_68 HAOrwJFqU  
参考文献_69 m<;" 1<k  
]-]@=qYu  
第4章光学分辨率增强技术 JQv ZTwSI  
4.1离轴照明_74 Kd21:|!t^  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 #rL@  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78  0>J4O:k  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 &~6O;}\  
4.2光学邻近效应校正_81 l`G:@}P>G  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 Y2~{qY  
4.2.2线端缩短补偿_84 x{w?X.Nt  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 lY8Qy2k|  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 .jU0Hu{F4  
4.3相移掩模_89 3m9 E2R,  
4.3.1强相移掩模: 交替型相移掩模_90 z?g4^0e  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 (3S/"ZE  
4.4光瞳滤波_100 YtKX\q^.  
4.5光源掩模协同优化_102 Y\F H4}\S  
4.6多重曝光技术_106 ?-p aM5Q+  
4.7小结_109 Rla*hc~  
参考文献_110 IWd*"\L  
Ft>8 YYyU  
第5章材料驱动的分辨率增强 ) FsSXnZL  
5.1分辨率极限的回顾_115 e=$xn3)McY  
5.2非线性双重曝光_119 h(K4AiGE  
5.2.1双光子吸收材料_119 D($UbT-v  
5.2.2光阈值材料_120 |W[rywxx  
5.2.3可逆对比增强材料_121 z{_Vn(Kg   
5.3双重和多重成形技术_124 D*b|(Oi  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 a,\u|T:g  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 k18V4ATE]  
5.3.3自对准双重成形_126 qWK7K%-$ E  
5.3.4双色调显影_127 ZSf+5{2m  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 CawVC*b3  
5.4定向自组装_129 5,fzB~$TX(  
5.5薄膜成像技术_133 `2+52q<FO  
5.6小结_135 "lAS <dq  
参考文献_135 8z v6Mx  
1Ez A@3:{  
第6章极紫外光刻 ?NeB_<dLa`  
6.1EUV光源_141 QR8 Q10  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 i oQlC4Y  
6.3EUV掩模_146 #J9XcD{1  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 Jx7^|A  
6.5EUV光刻胶_156 1z!Lk*C)  
6.6EUV掩模缺陷_157 $9$NX/P  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 ywBo9|%T  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 =-Tetp  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 VNfx>&`  
6.7.3低k1技术: EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 JE!Xf}nEi  
6.8小结_167 QJ'C?hn  
参考文献_168 Cl=ExpX/O  
;bmd<1  
第7章投影成像以外的光刻技术 bBL"F!.  
7.1非投影式光学光刻: 接触式和接近式光刻_176 H%V[% T4=  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 6jA Q  
7.1.2技术实现_179 m\Nc}P_"p  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 A 2 )%+  
7.2无掩模光刻_186 0}!lN{m?  
7.2.1干涉光刻_186 b?,y%D) '  
7.2.2激光直写光刻_189 ~KvCb3~X  
7.3无衍射限制的光刻_194 F*u;'K   
7.3.1近场光刻_195 S6I8zk)Z4  
7.3.2利用光学非线性_198 "Y6mM_flq  
7.4三维光刻_203 r 6<}S(  
7.4.1灰度光刻_203 m5*RB1  
7.4.2三维干涉光刻_205  }P#gXG  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 ':@qE\(  
7.5浅谈无光刻印_209 0>Nq$/!  
7.6小结_210 :}-[%LSV  
参考文献_211 [0emOS  
:7zI!edu  
第8章光刻投影系统: 高级技术内容 8X5XwFf}  
8.1实际投影系统中的波像差_220  -W ,b*U  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 J!>oC_0]8  
8.1.2波前倾斜_226 J %t1T]y~  
8.1.3离焦像差_226 Bc@e;k@i  
8.1.4像散_228 P^ VNB  
8.1.5彗差_229 -0{WB(P  
8.1.6球差_231 Uw!v=n3#!  
8.1.7三叶像差_233 WfVie6  
8.1.8泽尼克像差小结_233 mBF?+/l  
8.2杂散光_234 |iI`p-L9  
8.2.1恒定杂散光模型_235 t+tGN\q  
8.2.2功率谱密度(PSD)杂散光模型_236 /r6DPR0\  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 hb{(r@[WHv  
8.3.1掩模偏振效应_240 195(Kr<5$  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 fi)ypv*  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 ([|M,P6e)U  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 g`1i[Iu2  
8.3.5偏振照明_248 [iD!!{6+  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 Fk\xq`3'c  
8.5小结_250 s.U p<Rw  
参考文献_251 m,b<b91  
?5D7n"jY  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 rm7UFMCR6i  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 xnTky1zq  
9.1.1时域有限差分法_257 s] qfLC  
9.1.2波导法_260 Wil +"[Ge  
9.2掩模形貌效应_262 ,~!lNyL  
9.2.1掩模衍射分析_263 v3B ^d}+.  
9.2.2斜入射效应_266 _\6-]  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 x8^Dhpr6  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 Hs9uDGWp  
9.2.5各种三维掩模模型_277 GUxhCoxb  
9.3晶圆形貌效应_279 20q T1!j u  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 5BZ5Gl3  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 Je'$V%{E  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 @AwH?7(b  
9.4小结_283 g!8-yri  
参考文献_283 $I'ES#8P6  
PrCq JY  
第10章先进光刻中的随机效应 m{g{"=}YR  
10.1随机变量和过程_288 B\6\QQ;rUo  
10.2现象_291 <K43f#%  
10.3建模方法_294 bvoR?D\-"  
10.4依存性及其影响_297 ojaZC,}  
10.5小结_299 }\@*A1*X2  
参考文献_299 6l4l74  
专业词汇中英文对照表 p(Sfw>t(  
^^v!..V]J  
关键词: 光刻
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最新评论

谭健 2023-05-21 15:58
好书籍,不错的分享 v8LKv`I's  
helengalaxy 2023-09-14 21:38
感谢分享
头哥给我球 2023-11-03 14:31
非常感谢楼主的分享,nice
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