《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 Ua.7_Em  
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第1章光刻工艺概述 1Aq*|JSk(  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 -.A8kJ  
1.2光刻技术的发展史_3 lVywc:X  
1.3投影光刻机的空间成像_5 =e7,d$i  
1.4光刻胶工艺_10 ICNS+KsI  
1.5光刻工艺特性_12 ^}XKhn.S'  
1.6小结_18 8ALvP}H  
参考文献_18 0B(<I?a/  
%0]vW;Q5  
第2章投影光刻的成像原理 (wmMHo|  
2.1投影光刻机_20 ;!<WL@C~  
2.2成像理论_21 $9znRTFEj  
2.2.1傅里叶光学描述_21 S~1>q+<Q  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 2[&3$-]  
2.2.3其他成像仿真方法_30 KlgPDV9mg  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 :uZfdu  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 7s%DM6li 6  
2.3.2影响_36 GyV3]Qqj  
2.4小结_39 dw)SF,  
参考文献_39 QMI&?Q:=  
$tyF(RybG  
第3章光刻胶 ^/K\a ,  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 &Z682b$  
3.1.1光刻胶的分类_42 IxT[1$e  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 Bcx-t)[  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 j
B]tq2i  
3.1.4现象学模型_48 EG5'kYw2  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 q<>  
3.2.1技术方面_50 `nccRy<l  
3.2.2曝光_51 xq:.|{HUk  
3.2.3曝光后烘焙_54 DpIv <m]  
3.2.4化学显影_58 >;',U<Wd  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 <{7CS=)  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 SCl$+9E  
3.5小结_68 ^(I4Do~}  
参考文献_69 03*` T  
aH)$#6${Ap  
第4章光学分辨率增强技术 0$3\DS<E  
4.1离轴照明_74 :.['e
`  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 !RLg[_'  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 ;aBK4<-vl  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 bkkhx,Oi[G  
4.2光学邻近效应校正_81 E 3b`GRay  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 4C^;lK  
4.2.2线端缩短补偿_84 Efi@hdEV  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 hXi^{ntw,  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 C=ni5R  
4.3相移掩模_89 .lfKS!m2  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 s z  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 f3e#.jan  
4.4光瞳滤波_100 bs!N~,6h  
4.5光源掩模协同优化_102 0es[!  
4.6多重曝光技术_106 u2 a U0k:  
4.7小结_109 *6~ODiB
  
参考文献_110 FjIS:9^)t5  
*)k}@tY  
第5章材料驱动的分辨率增强 C.V")D=  
5.1分辨率极限的回顾_115 7QP%Pny%  
5.2非线性双重曝光_119 {hB7F"S  
5.2.1双光子吸收材料_119 cZKK\h
f<  
5.2.2光阈值材料_120 `e]L.P_e?  
5.2.3可逆对比增强材料_121 g\&[;v i  
5.3双重和多重成形技术_124 {dJC3/Rf  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 x\r7q  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 3o%,8l,  
5.3.3自对准双重成形_126 iph>"b$D
 
5.3.4双色调显影_127 S(](C  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 KE:PRX  
5.4定向自组装_129 *]~ug%a  
5.5薄膜成像技术_133 $$~
x: iN  
5.6小结_135 Eq^k@  
参考文献_135 X-9>;Mb~y  
n'=-bj`  
第6章极紫外光刻 1"3|6&=  
6.1EUV光源_141 Zws[}G"7h  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 ?-0k3  
6.3EUV掩模_146 6H67$?jMyJ  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 LY2oBX@fC  
6.5EUV光刻胶_156 %o9@[o .]  
6.6EUV掩模缺陷_157 wXp A1,i  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 <qN0Q7  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 Xn-GSW3{  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 5bM/ v  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 9K~2!<  
6.8小结_167 HXhz|s0  
参考文献_168 02:]  
:S}!i?n  
第7章投影成像以外的光刻技术 *"` dO9Yf_  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 q}>1Rr|U`  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 !TY9\8JzV  
7.1.2技术实现_179 G\G TS}u[  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 i`/_^Fndyu  
7.2无掩模光刻_186 IY6DZP  
7.2.1干涉光刻_186 ;hGC.}X  
7.2.2激光直写光刻_189 w@Uw8b  
7.3无衍射限制的光刻_194 mZ 39 s  
7.3.1近场光刻_195 *LpEH,J  
7.3.2利用光学非线性_198 BDSZ'  
7.4三维光刻_203 "OF4#a17  
7.4.1灰度光刻_203 M*FUtu  
7.4.2三维干涉光刻_205 3ny>5A!;2  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 >c%OnA,3  
7.5浅谈无光刻印_209 r(xh5{^x  
7.6小结_210 
ZC 7R f  
参考文献_211 1oD,E!+^d  
MTo<COp($  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 bh|M]*Pq  
8.1实际投影系统中的波像差_220 "MHm9D?5  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 >nV~5f+  
8.1.2波前倾斜_226 P
e6}y  
8.1.3离焦像差_226 !E!i`yF  
8.1.4像散_228 y\Kr@;q0w  
8.1.5彗差_229 ^Gt&c_gH  
8.1.6球差_231 w>Iw&US  
8.1.7三叶像差_233 Qd;P?W6  
8.1.8泽尼克像差小结_233 >p#`%S  
8.2杂散光_234 eqbQ,, &  
8.2.1恒定杂散光模型_235 Fb=(FQ2Y?  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 m3W:\LTTp  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 HA&7 ybl  
8.3.1掩模偏振效应_240 1Q\P] -  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 X{4jyi-<  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 I^"ouM9}Q  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 |U{9Yy6p  
8.3.5偏振照明_248 lM1~K  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 eKjmU| H  
8.5小结_250 CXt9 5O?  
参考文献_251 hhd%j6  
+GCN63nX  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 &_Kb;UVRj  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 y4*i V;"  
9.1.1时域有限差分法_257 su;u_rc,  
9.1.2波导法_260 U-Ia$b-5!  
9.2掩模形貌效应_262 0_'(w;!wq:  
9.2.1掩模衍射分析_263 F5UvD[i  
9.2.2斜入射效应_266 rk$&sDc/3  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 3FRz&FS:j  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 ]<b$k  
9.2.5各种三维掩模模型_277 Xi$( U8J_  
9.3晶圆形貌效应_279 MMlryn||1  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 V]I@&*O~r  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 s~e<Pr?yu  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 $A~UA  
9.4小结_283 8B#;ffkmN  
参考文献_283 xz2U?)m;x  
BS3Aczwk  
第10章先进光刻中的随机效应 &"HxAK)f  
10.1随机变量和过程_288 Mx9#YJ?t~  
10.2现象_291 DUH\/<^g  
10.3建模方法_294 ?bFP'.  
10.4依存性及其影响_297 cUW>`F(S  
10.5小结_299 ?LJ$:u  
参考文献_299 *+(t2!yFmE  
专业词汇中英文对照表 ?88k`T'EI  
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