《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 n u>6UjV  
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第1章光刻工艺概述 6nk.q|n:g  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ,S3uY6,  
1.2光刻技术的发展史_3 ?7*J4.  
1.3投影光刻机的空间成像_5 apm,$Vvjy  
1.4光刻胶工艺_10 .V^h<d{  
1.5光刻工艺特性_12 H,1Iz@W1  
1.6小结_18 h3-dJgb  
参考文献_18 E+aE5wmr  
y{qKb:~wv  
第2章投影光刻的成像原理 Z@>WUw@F  
2.1投影光刻机_20 FiNB$A  
2.2成像理论_21 $-]PD`wmY  
2.2.1傅里叶光学描述_21 [%7oq;^J  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 oo,3mat2C  
2.2.3其他成像仿真方法_30 R 9Yk9v  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 \E:l E/y  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 E@ !~q  
2.3.2影响_36 T`^LWc"  
2.4小结_39 cX-)]D  
参考文献_39 ,HO@bCK  
bMF`KRP2  
第3章光刻胶 >!2d77I  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 x\XOtjJr  
3.1.1光刻胶的分类_42 '4d+!%2t  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 u'EzYJ7  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 'x\{sv  
3.1.4现象学模型_48
\rf2Os  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 lilF _y  
3.2.1技术方面_50 3P2L phW  
3.2.2曝光_51 wpPCkfPyL  
3.2.3曝光后烘焙_54 c1Ta!p{%  
3.2.4化学显影_58 #~88[i-6  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 Lv?e[GA  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 o5eFLJ6  
3.5小结_68 }fKpih  
参考文献_69 _-g?6q  
/SZg34%  
第4章光学分辨率增强技术 0FD+iID  
4.1离轴照明_74 KFMEY\6\h  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 BAS3&fA  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 {$mj9?n=v  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 y7CrH=^jc  
4.2光学邻近效应校正_81 d4zqLD$A  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 wmr8[n&c  
4.2.2线端缩短补偿_84 Lcyj,R  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ;MR(Ea
ep  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 5#U*vGVT
 
4.3相移掩模_89 Eo }mSd  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 hVcV_  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 [!E8C9Q#!  
4.4光瞳滤波_100 :2fz4n0{/  
4.5光源掩模协同优化_102 Ag`:!*  
4.6多重曝光技术_106 D'823,-).  
4.7小结_109 ~^Y(f'{  
参考文献_110 LAwl9YnG:  
8HyK;+ZkVd  
第5章材料驱动的分辨率增强 vK?{Z^J][  
5.1分辨率极限的回顾_115 ?*
Kewj  
5.2非线性双重曝光_119 H+>l][  
5.2.1双光子吸收材料_119 y^oSVj  
5.2.2光阈值材料_120 `
"E|  
5.2.3可逆对比增强材料_121 l%^'K%'b  
5.3双重和多重成形技术_124 o|nj2.  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 WlnI`!)d  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 In)#`E` g.  
5.3.3自对准双重成形_126 '%>$\Lv  
5.3.4双色调显影_127 *}\!&Zk"  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 $e! i4pM  
5.4定向自组装_129 Y24:D7Q  
5.5薄膜成像技术_133 MOFIR wVZ+  
5.6小结_135 7ST[XLwt%}  
参考文献_135 `bGAc&,&  
@^vVou_  
第6章极紫外光刻 7K`A2  
6.1EUV光源_141 :G|
Jcl=r  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 $o`N%]  
6.3EUV掩模_146 u8*Uia*vwH  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 (d[)U<  
6.5EUV光刻胶_156 5vL]Y)l  
6.6EUV掩模缺陷_157 Nvs8t%  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 C,w$)x5kls  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 33\{S$p  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 `?Wak=]g  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 B_[^<2_  
6.8小结_167 H;<hmbN?d  
参考文献_168 Gt[!q\^?  
f4zd(J  
第7章投影成像以外的光刻技术 & h9ji[  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ]w FFGy  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 [t /hjm"$  
7.1.2技术实现_179 im_W0tGvF  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 EpeTfD
 
7.2无掩模光刻_186 @R?S-*o  
7.2.1干涉光刻_186 Warz"n]iC  
7.2.2激光直写光刻_189 Hq^sU%  
7.3无衍射限制的光刻_194 !E> *Mn  
7.3.1近场光刻_195 J;+iW*E:  
7.3.2利用光学非线性_198 r}9qK%C G.  
7.4三维光刻_203 S 1|[}nYP  
7.4.1灰度光刻_203 koC2bX  
7.4.2三维干涉光刻_205 k:<yy^g$X  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 5A/G?  
7.5浅谈无光刻印_209 K%>uSS?  
7.6小结_210 Ud:v3"1  
参考文献_211 jGd{*4{3+  
^l ~i>:V  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 kVQKP  U  
8.1实际投影系统中的波像差_220 ;]MHU/  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 b3x!tuQn  
8.1.2波前倾斜_226 3t(nV4uDF  
8.1.3离焦像差_226 ]~)FMWQz-  
8.1.4像散_228 Zo22se0)  
8.1.5彗差_229 8MM#q+8  
8.1.6球差_231 (D{Fln\  
8.1.7三叶像差_233 VLN=9  
8.1.8泽尼克像差小结_233 RT8xU;   
8.2杂散光_234 _{KQQ5k\  
8.2.1恒定杂散光模型_235 t*82^KDU  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 <Jo_f&&{  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 ' V;cA$ $  
8.3.1掩模偏振效应_240 fC2e}WR
  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 a84^"GH7  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 IBC P6[  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 ^/2n[orl5  
8.3.5偏振照明_248 ]k_@F6 A  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 EMmNlj6  
8.5小结_250 $985q@pV0  
参考文献_251 ;-lk#D?n9  
L=Fm:O'#2  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 j>+x|!k  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 $xyG0Q.  
9.1.1时域有限差分法_257 OA_:_%a(  
9.1.2波导法_260 dOqn0Z  
9.2掩模形貌效应_262 ^UZEdR;  
9.2.1掩模衍射分析_263 ?0WJB[/  
9.2.2斜入射效应_266 zJOjc/\  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 T/V8&'^i  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 bBc<yaN  
9.2.5各种三维掩模模型_277 7KnZ  
9.3晶圆形貌效应_279 G\?fWqx  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 { ,/mQ3  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 7@$Hua,GY  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 0 ML=]  
9.4小结_283 _p\  
参考文献_283 lV:R8^d  
WLQm|C,  
第10章先进光刻中的随机效应 DF-`nD  
10.1随机变量和过程_288 6&S;Nrg9  
10.2现象_291 iv2did4  
10.3建模方法_294 U,yU-8z/  
10.4依存性及其影响_297 w7$*J:{  
10.5小结_299 Eg-3GkC  
参考文献_299 )d!,,o  
专业词汇中英文对照表 w?d~c*4+  
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