《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 L00;rTs>  
fUKdC\WL  
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`yXx[deY  
第1章光刻工艺概述 0*/ r'  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 Qwo9>ClC  
1.2光刻技术的发展史_3 8kM0  
1.3投影光刻机的空间成像_5 lWw!+[<:q1  
1.4光刻胶工艺_10 {^5<{j3e  
1.5光刻工艺特性_12 c0Ro3j\p  
1.6小结_18 ?WtG|w  
参考文献_18 XAxI?y[c
 
pXj/6+^  
第2章投影光刻的成像原理 )LrCoI =|  
2.1投影光刻机_20 7cP
[o+  
2.2成像理论_21 "q>I?UcZ  
2.2.1傅里叶光学描述_21 pMZf!&tM  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 :Z]hI
+7  
2.2.3其他成像仿真方法_30 3/IWO4?_  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 })Mv9~&S  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 {G1aAM\Hz  
2.3.2影响_36 AH87UkNL  
2.4小结_39 Vt)\[Tl~  
参考文献_39 +IO1ipc4cE  
2T(,H.O  
第3章光刻胶 y_4krY|Zx  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 QD;f
~fZ  
3.1.1光刻胶的分类_42 'Kzr-)JS  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 Q @OC=  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 W*rU,F|9  
3.1.4现象学模型_48 R{xyme@"^  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 &J/4J  
3.2.1技术方面_50 ctUF/[_w;  
3.2.2曝光_51 pg}+lYGP  
3.2.3曝光后烘焙_54 U>_\  
3.2.4化学显影_58 CNRU"I+jU  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 "kBqY+:Cn  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 BXK::M+  
3.5小结_68 )4L%zl7  
参考文献_69 fov=Yd!  
n:^"[Le  
第4章光学分辨率增强技术 ks%7W -  
4.1离轴照明_74 &A9A#It  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 jle%|8m&@  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 Gz[ymj)5  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 NzeI/f3K5  
4.2光学邻近效应校正_81 ,F`KQ )\"  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 n@07$lY@;  
4.2.2线端缩短补偿_84 o&XMgY~  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 |N=@E,33  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 r0g/:lJi  
4.3相移掩模_89 bDFCZH-:'O  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 kF+}.x%  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 DYT -#Ht  
4.4光瞳滤波_100 ZP63Alt  
4.5光源掩模协同优化_102 2htA7V*dD  
4.6多重曝光技术_106 Q{l*
62Bx  
4.7小结_109 dp[w?AMhM9  
参考文献_110 Zu0;/_rN  
mj(&`HRs4  
第5章材料驱动的分辨率增强 lR@i`)'?U  
5.1分辨率极限的回顾_115 ZH;y>Z  
5.2非线性双重曝光_119 QLB1:O>  
5.2.1双光子吸收材料_119 l\=-+'Y  
5.2.2光阈值材料_120 >: W-C{%  
5.2.3可逆对比增强材料_121 C7jc6(>m  
5.3双重和多重成形技术_124 ,na=~.0R:  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 e\A(#l@g  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 N7~)qqb  
5.3.3自对准双重成形_126 2i7i\?<.  
5.3.4双色调显影_127 i (%tHa37  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 F[7Kw"~J  
5.4定向自组装_129 Yt/SnF  
5.5薄膜成像技术_133 `j}_BW_  
5.6小结_135 }dd k}wga  
参考文献_135 %CxEZPe$  
^)hAVf~E  
第6章极紫外光刻 FM9X}%5nu9  
6.1EUV光源_141 J~iOP  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 `s>UU- 9  
6.3EUV掩模_146 ib(>vp$V  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 @QVqpE<|  
6.5EUV光刻胶_156 {HIR>])o  
6.6EUV掩模缺陷_157 cZDxsd]  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 Y(hW(bd;  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 @@%i(>4Z  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 w*<Y$hnBzF  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 M q^|M~  
6.8小结_167 eC>"my`  
参考文献_168 _}I(U?Q-C  
V\@jC\-5Vt  
第7章投影成像以外的光刻技术 9@#h}E1$  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 FpdDIa  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ] Wx>)LT  
7.1.2技术实现_179 6Iv(  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 =mHkXHE~:  
7.2无掩模光刻_186 fjIcB+Z  
7.2.1干涉光刻_186 6WE&((r^  
7.2.2激光直写光刻_189 VG<Hw{ c3r  
7.3无衍射限制的光刻_194 tjZ\h=  
7.3.1近场光刻_195 HDF!`  
7.3.2利用光学非线性_198 i\
=z'  
7.4三维光刻_203 SUH mBo"}  
7.4.1灰度光刻_203 =
y<">-  
7.4.2三维干涉光刻_205
0T9@,scY  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 a>wfhmr  
7.5浅谈无光刻印_209
%s$rP  
7.6小结_210 <`R|a *  
参考文献_211 JcTp(fnW.~  
F . K2  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 dSOlD/c  
8.1实际投影系统中的波像差_220 QP6z?j.  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 Yz&*PPx  
8.1.2波前倾斜_226 X5uS>V%/  
8.1.3离焦像差_226 gEZwW]r-  
8.1.4像散_228 le7 `uz!%  
8.1.5彗差_229  20I4r  
8.1.6球差_231 `6a]|7|f  
8.1.7三叶像差_233 V#ndyUM;  
8.1.8泽尼克像差小结_233 PUbaS{J7  
8.2杂散光_234 X}oj_zsy;^  
8.2.1恒定杂散光模型_235 7"ylN"syZ
 
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 )n\*
ht7  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 cQ8dc+ {  
8.3.1掩模偏振效应_240 Y%<`;wK=^  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 BRQ"A,  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 33Ssylno
 
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 ![^EsgEB*  
8.3.5偏振照明_248 B0f_kH
~p~  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 9pWi.J  
8.5小结_250 Wgxn`6  
参考文献_251 Eo%UuSi  
%x&F
4U  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 <=q*N;=T,  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ds- yif6  
9.1.1时域有限差分法_257 [NYj.#,oR  
9.1.2波导法_260 JXpoCCe  
9.2掩模形貌效应_262 n!GWqle  
9.2.1掩模衍射分析_263 `.{U-U\  
9.2.2斜入射效应_266 (# JMB)  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 yh S#&)O  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 :3JCvrq  
9.2.5各种三维掩模模型_277 Ci;h  
9.3晶圆形貌效应_279 B;VH`*+X  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 ; ;<J x.  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ($c`s8mp  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 $Axng J c  
9.4小结_283 (~S<EUc$  
参考文献_283 Z[Wlyb0  
>G]?  
第10章先进光刻中的随机效应 XZ}de%U1  
10.1随机变量和过程_288 QQ@9_[N  
10.2现象_291 g^1r0.Sp{8  
10.3建模方法_294 _3|6ZO  
10.4依存性及其影响_297 8KFj<N>'  
10.5小结_299 SU/G)&Mi  
参考文献_299 t
)LU\!  
专业词汇中英文对照表 sF y]+DB  
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