《光学光刻和极紫外光刻》

发布:cyqdesign 2023-04-12 19:25 阅读:4000
光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著,内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上,涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的物理机制和数学模型时,采用了完整而不繁琐的方法,增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后,还专门开辟章节,介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点,它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 QyY<Zi;6  
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%%#bTyF  
@iMF&\KC  
kkW}:dBl  
第1章光刻工艺概述 0|i|z !N>  
1.1微型化: 从微电子到纳米技术_1 CMyz!jZ3  
1.2光刻技术的发展史_3 acgx')!c  
1.3投影光刻机的空间成像_5 e+<|  
1.4光刻胶工艺_10 HGDiwA  
1.5光刻工艺特性_12 q: X^V$`  
1.6小结_18 sCmN|Q  
参考文献_18 hd,O/-m#  
-r]L MQ  
第2章投影光刻的成像原理 7G7"Zule*j  
2.1投影光刻机_20 ~]`U)Aw  
2.2成像理论_21  -PU.Uw]  
2.2.1傅里叶光学描述_21 O OXP1L  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 (Q&O'ng1  
2.2.3其他成像仿真方法_30 d'H gek{T  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 4?+jvVq  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 KfYT  
2.3.2影响_36 jW4>WDN:  
2.4小结_39 qq_ZkU@xg  
参考文献_39 =q|//*t2  
)=bW\=[8  
第3章光刻胶 OEX\]!3_Fm  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 Dd,i^,4Gj  
3.1.1光刻胶的分类_42 t @a&&  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 /"8|26  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 '1fyBU  
3.1.4现象学模型_48 T\ukJ25!  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 kBnb9'.A1  
3.2.1技术方面_50 w~jm0jK]  
3.2.2曝光_51 LU8:]zOY  
3.2.3曝光后烘焙_54 [Q\(k d*4  
3.2.4化学显影_58 3xKgj5M  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 i2;,\FI@t%  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 *cCj*Zr]  
3.5小结_68 Sqyju3Yp  
参考文献_69 F-M)6&T  
hy@b/Y![M  
第4章光学分辨率增强技术 ?GtI.flV  
4.1离轴照明_74 P_H_\KsH*(  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 `B:hXeI  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 fC[~X[H  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 &Vu-*?  
4.2光学邻近效应校正_81 ,7DyTeMpN  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 JiuA"ks)  
4.2.2线端缩短补偿_84 k*C[-5&#  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 #yU"n-eLR  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 R~|(]#com  
4.3相移掩模_89 9 g- 8u+&  
4.3.1强相移掩模: 交替型相移掩模_90 G )`gn  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 -v|lM8  
4.4光瞳滤波_100 %`\Qtsape  
4.5光源掩模协同优化_102 [-81s!#mkw  
4.6多重曝光技术_106 $!_}d  
4.7小结_109 skTtGz8R[  
参考文献_110 Pj_DI)^  
oIMS >&  
第5章材料驱动的分辨率增强 -w8?Ur1x:  
5.1分辨率极限的回顾_115 tA'5ufj*:  
5.2非线性双重曝光_119 -^;,m=4{3  
5.2.1双光子吸收材料_119 }jU)s{>fb  
5.2.2光阈值材料_120 h|i b*%P_  
5.2.3可逆对比增强材料_121 Bn=YGEvz  
5.3双重和多重成形技术_124 ~V?\@R:g  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 Z!jJ93A"  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 x{GFCy7  
5.3.3自对准双重成形_126 +_gA"I  
5.3.4双色调显影_127 ~?)y'?  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 0>e]i[P.  
5.4定向自组装_129 $2blF)uYE  
5.5薄膜成像技术_133 yS[HYq  
5.6小结_135 vq-;wdq?2  
参考文献_135 Z:V<P,N  
/11CC \  
第6章极紫外光刻 ^P A|RFP  
6.1EUV光源_141 {a9.0N:4  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 Tu,nX'q]m  
6.3EUV掩模_146 'YYT1H)  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 4!-R&<TLve  
6.5EUV光刻胶_156 P3Ah1X7W"C  
6.6EUV掩模缺陷_157 `krVfE;_O  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 !YlEXaS  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 ?P#\ CW  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 =}u?1~V  
6.7.3低k1技术: EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 A{T> Aac  
6.8小结_167 oR7f3';?6  
参考文献_168 npbf>n^R  
=4&"fZ"v  
第7章投影成像以外的光刻技术 sqjDh  
7.1非投影式光学光刻: 接触式和接近式光刻_176 g2rH"3sC  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 qLKL*m  
7.1.2技术实现_179 3O _O5  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 P=9UK`n  
7.2无掩模光刻_186 YB^m!A),I[  
7.2.1干涉光刻_186 H7<g5pv  
7.2.2激光直写光刻_189 ^EW6}oj[  
7.3无衍射限制的光刻_194 f 9IqcCSW  
7.3.1近场光刻_195 A_2lG!! 6  
7.3.2利用光学非线性_198 g0s4ZI+T  
7.4三维光刻_203 h gwS_L  
7.4.1灰度光刻_203 5Fq+^  
7.4.2三维干涉光刻_205 Mpk7$=hjc  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 fZJM'+J@A  
7.5浅谈无光刻印_209 $"}*#<Z  
7.6小结_210 =KD[#au6a  
参考文献_211 iU=:YPE+ .  
!ZCxi  
第8章光刻投影系统: 高级技术内容 U_E t  
8.1实际投影系统中的波像差_220 iV\*7  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 DiZv sc  
8.1.2波前倾斜_226 Bi"cWO  
8.1.3离焦像差_226 Fta=yH }  
8.1.4像散_228 +apn3\_  
8.1.5彗差_229 kKDf%=  
8.1.6球差_231 f'qM?GlET  
8.1.7三叶像差_233 qNMYZ0,  
8.1.8泽尼克像差小结_233 ]~ S zb  
8.2杂散光_234 1Vz3N/AP%?  
8.2.1恒定杂散光模型_235 lYr4gFOs  
8.2.2功率谱密度(PSD)杂散光模型_236 ,zJ:a>v  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 ?[DVYP  
8.3.1掩模偏振效应_240 jxYze/I  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 NpbZt;%t  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 gl2l%]=\'  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 i~5'bSq c  
8.3.5偏振照明_248 u%OLXb  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 X]\; f  
8.5小结_250 J'L6^-gV  
参考文献_251 o0dD  
3-[+g}kak?  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 B&EUvY '  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 `dl^)4J  
9.1.1时域有限差分法_257 a\B?J  
9.1.2波导法_260 5B3sRF}  
9.2掩模形貌效应_262 Fa{[kJ8z  
9.2.1掩模衍射分析_263 e#WASHZN  
9.2.2斜入射效应_266 UA4MtTp`  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 /IH F  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 6J cXhlB`  
9.2.5各种三维掩模模型_277 @Yw42`> !s  
9.3晶圆形貌效应_279 i@%a!].I  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 zW[HGI6w  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 Sg\+al7  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 ,WAJ& '^  
9.4小结_283 5UG"i_TC  
参考文献_283 5)->.*G*  
s>{\^T7y  
第10章先进光刻中的随机效应 NZ+TTMv  
10.1随机变量和过程_288 zP|^@Homk  
10.2现象_291 /U6ry'  
10.3建模方法_294 I y5)SZ'  
10.4依存性及其影响_297 QVl"l'e8  
10.5小结_299 Ypinbej  
参考文献_299 `84,R!  
专业词汇中英文对照表 ],'"iVh  
Lg-!,Y   
关键词: 光刻
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最新评论

谭健 2023-05-21 15:58
好书籍,不错的分享 5d-rF:#  
helengalaxy 2023-09-14 21:38
感谢分享
头哥给我球 2023-11-03 14:31
非常感谢楼主的分享,nice
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