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光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著,内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上,涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的物理机制和数学模型时,采用了完整而不繁琐的方法,增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后,还专门开辟章节,介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点,它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。
QyY<Zi;6 =f23lA %%#bTyF @iMF&\KC kkW }:dBl 第1章光刻工艺概述
0|i|z!N> 1.1微型化: 从微电子到
纳米技术_1
CMyz!jZ3 1.2光刻技术的发展史_3
acgx')!c 1.3投影光刻机的空间成像_5
e+<| 1.4光刻胶工艺_10
HGDiwA 1.5光刻工艺特性_12
q: X^V$` 1.6小结_18
sCmN|Q 参考文献_18
hd,O/-m# -r]L MQ 第2章投影光刻的
成像原理
7G7"Zule*j 2.1投影光刻机_20
~]`U)Aw 2.2成像理论_21
-PU.Uw] 2.2.1傅里叶光学描述_21
OOXP1L 2.2.2倾斜
照明与部分相干成像_26
(Q&O'ng1 2.2.3其他成像仿真方法_30
d'H gek{T 2.3阿贝瑞利准则及其影响_30
4?+jvVq 2.3.1分辨率极限和焦深_31
KfYT 2.3.2影响_36
jW4>WDN: 2.4小结_39
qq_ZkU@xg 参考文献_39
=q|//*t2 )=bW\=[8 第3章光刻胶
OEX\]!3_Fm 3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42
Dd,i^,4Gj 3.1.1光刻胶的分类_42
t@a&& 3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45
/"8|26 3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46
'1fyBU 3.1.4现象学模型_48
T\ukJ25! 3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50
kBnb9'.A1 3.2.1技术方面_50
w~jm0jK] 3.2.2曝光_51
LU8:]zOY 3.2.3曝光后烘焙_54
[Q\(kd*4 3.2.4化学显影_58
3xKgj5M 3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61
i2;,\FI@t% 3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65
*cCj*Zr] 3.5小结_68
Sqyju3Yp 参考文献_69
F- M)6&T hy@b/Y![M 第4章光学分辨率增强技术
?GtI.flV 4.1离轴照明_74
P_H_\KsH*( 4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76
`B:hXeI 4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78
fC[~X[H 4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80
&Vu-*? 4.2光学邻近效应校正_81
,7DyTeMpN 4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82
JiuA"ks) 4.2.2线端缩短补偿_84
k*C[-5&# 4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85
#yU"n-eLR 4.2.4OPC模型和工艺流程_88
R~|(]#com 4.3相移掩模_89
9 g- 8u+& 4.3.1强相移掩模: 交替型相移掩模_90
G )`gn 4.3.2衰减型或弱相移掩模_97
-v|lM8 4.4光瞳滤波_100
%`\Qtsape 4.5光源掩模协同优化_102
[-81s!#mkw 4.6多重曝光技术_106
$!_} d 4.7小结_109
skTtGz8R[ 参考文献_110
Pj_DI)^ oIMS >& 第5章材料驱动的分辨率增强
-w8?Ur1x: 5.1分辨率极限的回顾_115
tA'5ufj*: 5.2非线性双重曝光_119
-^;,m=4{3 5.2.1双
光子吸收材料_119
}jU)s{>fb 5.2.2光阈值材料_120
h|ib*%P_ 5.2.3可逆对比增强材料_121
Bn=YGEvz 5.3双重和多重成形技术_124
~V?\@R:g 5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124
Z!jJ93A" 5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125
x{GFCy7 5.3.3自对准双重成形_126
+_gA"I
5.3.4双色调显影_127
~?)y'? 5.3.5双重和多重成形技术的选项_128
0>e]i[P. 5.4定向自组装_129
$2blF)uYE 5.5薄膜成像技术_133
yS[HYq 5.6小结_135
vq-;wdq?2 参考文献_135
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