《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 J0|}u1?l  
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+CNRSq"  
第1章光刻工艺概述 @]#+`pZ4A  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 LDvF)Eg  
1.2光刻技术的发展史_3 ddHIP`wb  
1.3投影光刻机的空间成像_5 Nmsb  
1.4光刻胶工艺_10 1,`x1dcO!A  
1.5光刻工艺特性_12 @#H{nj Z  
1.6小结_18 +msHQk5#$m  
参考文献_18 |2 wff?  
<Cmsn
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第2章投影光刻的成像原理 5\Y/so=  
2.1投影光刻机_20 t1Khf  
2.2成像理论_21 JkxS1  
2.2.1傅里叶光学描述_21 =\%>O7c,8Y  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26
_@prv7e  
2.2.3其他成像仿真方法_30 Jp-ae0 Ewa  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 ^
Q:K$!  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 EShakV  
2.3.2影响_36 g&E_|}u4  
2.4小结_39 .DvAX(2v  
参考文献_39 56_KB.Ww~  
>;3c;nf  
第3章光刻胶 )#ujF~w>  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 Z|?XQ-R5  
3.1.1光刻胶的分类_42 !d0@^JbM"  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 c\b>4 &n  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 +li^0+3-'  
3.1.4现象学模型_48 -5ec8m8  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 uATBt  
3.2.1技术方面_50 -<O:isB  
3.2.2曝光_51 `(a^=e5  
3.2.3曝光后烘焙_54 ^ KjqS\<  
3.2.4化学显影_58 #129 i2  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 86I*
 
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 XbOL/6V ^[  
3.5小结_68 _INUJc  
参考文献_69
r#}Sy\  
HYH!;  
第4章光学分辨率增强技术 5
UM[Iz  
4.1离轴照明_74 N+V-V-PVk  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 DJW1kR  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 vxt^rBA  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 nz',Zm},  
4.2光学邻近效应校正_81 Bm7GU
`j"  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 Ji
[w; [qL  
4.2.2线端缩短补偿_84 FTenXJ/c  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 WE7l[<b  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 >lW*%{|b$^  
4.3相移掩模_89 7A|jnm  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 rN~`4mZ  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 awK'XFk  
4.4光瞳滤波_100 ~<U3KB  
4.5光源掩模协同优化_102 R`&ioRWj  
4.6多重曝光技术_106 W*m[t&;  
4.7小结_109 >dl!Ep  
参考文献_110 K]oPh:E  
HlSuhbi'@  
第5章材料驱动的分辨率增强 Z%R%D*f@y  
5.1分辨率极限的回顾_115 Z9D4;1  
5.2非线性双重曝光_119 1m)/_y~1 k  
5.2.1双光子吸收材料_119 $S}x'F!4_  
5.2.2光阈值材料_120 V"ZbKV+[  
5.2.3可逆对比增强材料_121 &F}+U#H  
5.3双重和多重成形技术_124 !%X`c94  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 z Y|g#V-  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 <X |h*  
5.3.3自对准双重成形_126 F%d"gF
0qu  
5.3.4双色调显影_127 #c>MUC(?s:  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 9-^p23.@[j  
5.4定向自组装_129 ka3Z5  
5.5薄膜成像技术_133 S8RB0^Q7  
5.6小结_135 h'x~"k1  
参考文献_135 PpRO7(<cD  
;" *`  
第6章极紫外光刻 n:D*r$ C|p  
6.1EUV光源_141 ,]mwk~HeF  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 | dwxe
a  
6.3EUV掩模_146 U;GoC$b}|  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 jZ!JXmVV  
6.5EUV光刻胶_156 '5U$`Xe1  
6.6EUV掩模缺陷_157 \xxVDr.  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 a
f(JoX*U  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 jTr4A-"  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 ,<^HB+{Wo  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 Zg&\K~OC  
6.8小结_167 bl?%:qb.V  
参考文献_168 ef;L|b%pp  
~,68S^nP)H  
第7章投影成像以外的光刻技术 \ZR
oTh  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ZD%_PgiT  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 1>VS/H`  
7.1.2技术实现_179 'kvFU_
)  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 eF^"{a3b  
7.2无掩模光刻_186 ~UC/|t$  
7.2.1干涉光刻_186 R?~h7 d  
7.2.2激光直写光刻_189 Q;O)>K  
7.3无衍射限制的光刻_194 1cBhcYv"  
7.3.1近场光刻_195 ~!F4JRf  
7.3.2利用光学非线性_198 WnzPPh3PJ  
7.4三维光刻_203
MK"  
7.4.1灰度光刻_203 Bq]O &>\hX  
7.4.2三维干涉光刻_205 l6c%_<P|  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 4E\ntufo  
7.5浅谈无光刻印_209 6QXQ<ah"  
7.6小结_210 m`IQ+,e  
参考文献_211 MW~B[%/  
v-fi9$#^  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 K]!u@I*K"  
8.1实际投影系统中的波像差_220 l\;mP.!  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 8]":[s6x  
8.1.2波前倾斜_226 kdh9ftm*\  
8.1.3离焦像差_226 ?s)sPM?  
8.1.4像散_228 1bZiPG{  
8.1.5彗差_229 OsL%SKs|  
8.1.6球差_231 ]esLAo  
8.1.7三叶像差_233 .*~u  
8.1.8泽尼克像差小结_233 }K80G~O2<  
8.2杂散光_234 Y\e]2  
8.2.1恒定杂散光模型_235 SWjQ.aM  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 :LiDJF  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 | 58!A]  
8.3.1掩模偏振效应_240 _*ouo<x  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 M:Y*Tb6w  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 V<2fPDZ  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 VNrO(j DUv  
8.3.5偏振照明_248 j8Q5d`  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 #;LMtDaL  
8.5小结_250 ,r 2VP\hLh  
参考文献_251 Bd9hf`%2  
fj-pNl6Gf  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 d&T6p&V$  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 n R\n\
  
9.1.1时域有限差分法_257 25a#eDbqi  
9.1.2波导法_260 fb"J Bc}X  
9.2掩模形貌效应_262 8| e$  
9.2.1掩模衍射分析_263 xR|eyeR  
9.2.2斜入射效应_266 3> \fP#oQ  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 >=~Fo)V!(V  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 M_!u@\  
9.2.5各种三维掩模模型_277 @?3vRs}h  
9.3晶圆形貌效应_279 gJPDNZ*6pk  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 K@jSr*\'  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 yMbcFDlBr  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 S -
6"f/  
9.4小结_283 <F)w=_%&  
参考文献_283 )y`TymM[F  
6<s(e_5f  
第10章先进光刻中的随机效应 +t>*l>[  
10.1随机变量和过程_288 >{ECyh;  
10.2现象_291 'EL ||  
10.3建模方法_294 O+o;aa6  
10.4依存性及其影响_297 Qb?y@
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10.5小结_299 (3ZvXpzvF  
参考文献_299 Q)G!Y (g\  
专业词汇中英文对照表 ]PlY}VOY  
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