【官方培训】2019年 Zemax成像与高级成像培训_04月北京站
Zemax成像设计培训课程 & 高级成像设计培训课程 Zemax 中国将于 2019 年 04 月在北京举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 主办:Zemax China 时间:成像设计:2019年04月22~24日 | 高级成像设计:2019年04月25~26日 地点:北京 课程安排: 成像设计 本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。
在初阶成像课的基础上,用2天时间深入介绍OpticStudio成像系统分析优化逻辑,通过实例介绍非球面、自由曲面的设计,并介绍高级公差分析技巧。该课程需要学员熟悉成像光学原理、熟悉OpticStudio序列模式操作,包括模型建立、优化、坐标间断、公差等。
特色: Ÿ 互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习; Ÿ 原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本; Ÿ 颁发Zemax原厂培训证书; 培训费用(RMB):成像设计:5980元/人 | 高级成像设计:3980元/人 Ÿ 费用均含原厂正版教材、发票; Ÿ 开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。 |




