【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:8222
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   6jz6   
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! \>,[5|GU  
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主办:Zemax China     2H+!78  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     h$ ]=z\=  
地点:上海 ;pn*|Bsq  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   mcbvB5U  
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课程安排: {yFCGCs  
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成像设计 tgk] sQY  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 /Wos{ }Z 0  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; !V/Vy/'` *  
材料库、镜头库介绍; I_ O8 9Sgn  
如何定义新材料; ZbBz@1O  
如何使用镜头库;
MTF; oY)xXx  
双高斯镜头设计及优化; r2dU>U*:4  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; }.`no  
寻找最佳非球面; Jc8^m0_  
曲率套样板; ?w/i;pp<,  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; Gs`[\<;LI  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; LdAWCBLS  
坐标断点面的使用技巧; $wnK"k%G  
序列模式棱镜建模; e3T&KyPm?+  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; ,v^A;,q  
加工误差、装配误差; s0EF{2<F  
灵敏度分析; 4G ? Cu,$  
反灵敏度分析; w~+C.4=7  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; b3j?@31AD  
局部优化; LsW7JIQd  
全局优化; >aw`kr  
锤形优化; u?Pec:3%  
优化函数架构技巧; [Q0n-b,Q  
单透镜优化实例; *yX5g,52-|  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; S1d^mu  
投影系统设计; ,#/%Fn%T  
集光系统设计;
公差评价标准; Ufw_GYxan  
公差操作数; ]{.iv_I  
补偿变量的使用;  Vv|%;5(  
单透镜公差分析; oh^/)2W  
库克镜头公差分析; v,}Mn7:  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   m/E$0tf  
实例设计及分析; 5)@UpcjUA  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; `eo$o!  
小结及答疑;
公差脚本的使用; W{@,DQ  
镜头出图、CAD出图;  m[>pv1o  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 %2q0lFdcM  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 NUN~T (  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; z*oe ho  
光源与探测器;
案例:背光模组; b7uxCH]Z  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; A r=P;6J  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; )I{~Pcq  
光偏振与膜层;
表面散射; s@$SM,tnn  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; %tK^&rw%  
光谱模型; f*%Y]XL;%  
真彩色数据探测;
物体表面属性; &eA!h  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; f)_k_<  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   Kb$6a'u7  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; [@_IUvf^.  
非序列系统错误排查;
体散射; |XrGf2P9u  
荧光模型
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YqQAogy h  
特色:     ##QKXSD  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     [Dq@(Q s'  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     oR@emYL  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     n1Z*wMwC  
J/k4CV*li(  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     Dug{)h_2  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     O$*\JL  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     0Yo(pW,k  
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报名方式:     ^[=1J  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     p=T6Ix'_2e  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   LLV1W0VO=P  
)b=m|A GX  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   T/Bx3VWL  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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