【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7601
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   <uXQT$@?  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 3dB{DuQ  
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主办:Zemax China     sL4+O P-  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     5D<"kT  
地点:上海 "VI2--%v3  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   ~ea&1+Z[3  
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课程安排: M|IgG:a;T  
>fx/TSql:J  
成像设计 ]>oI3&6s  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 5O]eD84B  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; sHm :G_  
材料库、镜头库介绍; P%y$e0  
如何定义新材料; o!sHK9hvJ)  
如何使用镜头库;
MTF; JTdcL mL  
双高斯镜头设计及优化; f,:2\b?.  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; 2|D<0d#W  
寻找最佳非球面; ?a{>QyL  
曲率套样板; Igb%bO_  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; G&@vTcF  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; M6:$ 0(r  
坐标断点面的使用技巧; }ZkGH}K_}  
序列模式棱镜建模; @i>o+>V  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; jFG Y`9Zw0  
加工误差、装配误差; 0khAi|PY  
灵敏度分析; 2O " ~k  
反灵敏度分析; 8 _|"+Ze  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; )( W%Hmi  
局部优化; 'tMS5d)4:  
全局优化; 2,e>gP\]  
锤形优化; gM_MK8py  
优化函数架构技巧; 0*50uK=5  
透镜优化实例; NY\-p=3c7=  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; 3Nk )  
投影系统设计; WS2@; 8.N  
集光系统设计;
公差评价标准; x4[ Fn3JL  
公差操作数; I^!c1S  
补偿变量的使用; s,]z6L0  
单透镜公差分析; eGi|S'L'  
库克镜头公差分析; 'aJm4W&j  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   g7O , <  
实例设计及分析; FcmL 4^s.`  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; "J*LR  
小结及答疑;
公差脚本的使用; 2/RW(U  
镜头出图、CAD出图; AN4(]_ ]  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 b*dEX%H8sf  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 3TF'[(K=  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; 3y]rhB  
光源与探测器;
案例:背光模组; e<-^  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; m}GEx)Y D  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; w02t9vz  
光偏振与膜层;
表面散射; BTa#}LBZ+  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; FXo{|z3  
光谱模型; E9#.!re|^  
真彩色数据探测;
物体表面属性; =8 01nZJ  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; G:Cgq\+R  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   Rv@( [rn+  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; GL'zNQP-  
非序列系统错误排查;
体散射; ;1L7+.A  
荧光模型
N3o kN8d  
</33>Fu)  
特色:     0;:AT|U/d  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     g33Y]\  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     P(Z\y^S  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     0]MI*s>&  
Aj "SSX!L  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     A^@,Ha  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     ~Pi CA  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     ]R6Z(^XT,E  
)`-vN^1S-  
报名方式:     Wm>AR? b  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。      :IX_}|  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   "7_qB8\  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   un(fr7NW  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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