【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7591
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   =lacfPS  
YAi-eL67l  
Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! #^FM~5KK  
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主办:Zemax China     Ple.fKu  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     q^X7x_  
地点:上海 GwWK'F'2  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   iTxWXij  
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BR|!ya+_2  
课程安排: \PX4>/d@y  
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成像设计 q~{) {t;  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 8}%F`=Y0  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; Y,L`WeQY.  
材料库、镜头库介绍; uWS]l[Ga  
如何定义新材料; sG g458  
如何使用镜头库;
MTF; ;`AB-  
双高斯镜头设计及优化; >a3m!`lq  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; jCd]ENl+_  
寻找最佳非球面; e02Hf{eOfw  
曲率套样板; HcRw9,I'  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; :UwBs  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; kUBE+a6#  
坐标断点面的使用技巧; l5z//E}W  
序列模式棱镜建模; RhYe=Qh4{p  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; *tjaac;z<J  
加工误差、装配误差; GrF4*I`q  
灵敏度分析; Y1r$;;sH  
反灵敏度分析; QE 4   
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; w4 yrAj 2  
局部优化; (g6e5Sgi>  
全局优化;  lKbWQ>  
锤形优化; VuLb9Kn  
优化函数架构技巧; QO@86{u#Y  
透镜优化实例; rfV'EjiM}  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; 7cc^n\c?Y  
投影系统设计; rgy I:F.  
集光系统设计;
公差评价标准; a)|y0w)vV  
公差操作数; 4*_jGw  
补偿变量的使用; 4Kqo>|C  
单透镜公差分析; We6eAP/Z  
库克镜头公差分析; !vX4_!%  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   -TD\?Q  
实例设计及分析; <4{m99  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; z+Xr2B  
小结及答疑;
公差脚本的使用; EBhdP  
镜头出图、CAD出图; n7> |$2Y  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 b'wy{~l@  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 xMbgBx4+  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; V x#M!os0  
光源与探测器;
案例:背光模组; F .S^KK  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; ~[=<O s  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; 1dvP2E  
光偏振与膜层;
表面散射; mG)5xD  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; m|NZ093d  
光谱模型; 3a:Hx| Yg  
真彩色数据探测;
物体表面属性; ?HG[N7=j  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; hpf0fU  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   j_C"O,WS  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; y;o - @]  
非序列系统错误排查;
体散射; e5mu-  
荧光模型
!'_7MM  
si&du  
特色:     =A!oLe$%  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     R_!'=0}V  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     -!!]1\S*Y  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     -9vNV:c  
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培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     bo<P%$(D  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     cfmLErkp  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     3$hIc)  
{Q>OZm\+  
报名方式:     <M9NyD`  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     $WIE`P%  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   a&{Y~Og?%  
1;[KBYUH  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   :]:)c8!6  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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