【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7373
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   #2p#VQh  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! a:rX9-**  
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主办:Zemax China     wxQ>ifi9Z  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     0~WF{_0|  
地点:上海 :QQlI  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   .TB"eUy  
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课程安排: ~2 *9{  
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成像设计 Gwec 4D  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 qa'gM@]  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; s95F#>dr  
材料库、镜头库介绍; :py\ |  
如何定义新材料; ~f>2U]F>5  
如何使用镜头库;
MTF; s|yVAt|=  
双高斯镜头设计及优化; _k66Mkd#b  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; }^ FulsC  
寻找最佳非球面; PD[z#T!'  
曲率套样板; R[[ ,q:4  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; C"uahP[Y  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; Sr Ca3PA  
坐标断点面的使用技巧; 0"WDH)7hJ  
序列模式棱镜建模; QrYa%D+  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; } (FPV*mS  
加工误差、装配误差; "E*e2W  
灵敏度分析; )q~DTR^z-  
反灵敏度分析; Kyg=$^{>G  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; lTRl"`@S  
局部优化; 2B1xUj ]  
全局优化; a>mMvc"  
锤形优化; }%!tT\8  
优化函数架构技巧; J1ON,&[J  
透镜优化实例; `{K_/Cit  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; _ Y2 U7W  
投影系统设计; D/(CU#i"  
集光系统设计;
公差评价标准; k;y w#Af8  
公差操作数; pf"<!O[  
补偿变量的使用; PA;6$vqX  
单透镜公差分析; TYns~X_PR  
库克镜头公差分析; 8AFczeg[[  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   63WS7s"  
实例设计及分析; AI ijCL  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; T Eu'*>g  
小结及答疑;
公差脚本的使用; ;T+pu>)  
镜头出图、CAD出图; `RRE(SiKU  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 4$6T+i2E   
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 `_X;.U.Mv  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; ;az5ZsvN D  
光源与探测器;
案例:背光模组; F _3:bX  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; +/{L#e>   
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; LaMLv<)k  
光偏振与膜层;
表面散射; 2{,n_w?Wy  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; V7Yaks  
光谱模型; &} 6KPA;  
真彩色数据探测;
物体表面属性; z;\dL  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; W;6vpPhg#!  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   (7FW9X;  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; RI n9(r  
非序列系统错误排查;
体散射; Ard]147  
荧光模型
oFsM6+\/S  
"Dcs])7Q  
特色:     arK_oh0B  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     &^&zR(o`  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     TtD@'QXq  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     E; $+f  
>JwLk[=j  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     ~p0c3*  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     7Z,opc  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     #K\?E.9h  
R<ND=[}s  
报名方式:     P(k(m< 0  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     F^$led1/F  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   -Y 9SngxM  
I`(l*U  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
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       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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