【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7639
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   2j=HxE  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! ozW\`  
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主办:Zemax China     oVY_|UujG  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     TsY nsLQY  
地点:上海 a!\^O).pA  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   DUb8 HgcV}  
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课程安排: cRP!O|I`]  
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成像设计 QI`&N(n  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 dUkZ_<5''  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; c=33O,_  
材料库、镜头库介绍; t""d^a#Dp  
如何定义新材料; *|6*jU  
如何使用镜头库;
MTF; e)aH7Jj#  
双高斯镜头设计及优化; I$*LMzve  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; \ \gAa-}:  
寻找最佳非球面; E6#")2C~  
曲率套样板; O&r9+r1`  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; '}F..w/  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; e(vnnv?R{  
坐标断点面的使用技巧; &90pKs  
序列模式棱镜建模; 5Vlm?mPU  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; fr8hT(,s)  
加工误差、装配误差; ! l"*DR  
灵敏度分析; "s7}eWM*a  
反灵敏度分析; o_cAelI[!  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; B !Z~jT  
局部优化; AA[?a  
全局优化; p+16*f9,^  
锤形优化; CmdPa!4)  
优化函数架构技巧; JY$+<`XM  
透镜优化实例; j<}y(~  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; +{WZpP},v  
投影系统设计; n_4BNOZ~  
集光系统设计;
公差评价标准; 60r0O5=|Fl  
公差操作数; 6o~g3{Ow  
补偿变量的使用; C@ "l"  
单透镜公差分析;  %9_jF"  
库克镜头公差分析; [S?`OF12  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;    ja^  
实例设计及分析; yLQwG.,  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; 9eEA80i7  
小结及答疑;
公差脚本的使用; )npvy>C'(  
镜头出图、CAD出图; |v:fP;zc  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 +Oc |Oo  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 !XO"lS  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; spTIhZ  
光源与探测器;
案例:背光模组; |j}%"wOh  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; -P28pVX`  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; #|F5Kh"  
光偏振与膜层;
表面散射; ? J6\?ct4  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; mg<S7+  
光谱模型; 6nW]Q^N}  
真彩色数据探测;
物体表面属性; wSG!.Ejc7  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; bP7_QYQ6  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   /m h #o  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; O]G3l0  
非序列系统错误排查;
体散射; MsP`w3b  
荧光模型
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F\-oZ#g  
特色:     r(I&`kF<  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     7|X.E  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     m*` W&k[  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     'y|p)r"  
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培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     h3MZLPe  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     2]+f<Z[/  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     4AYW'j C  
~Q+J1S]Fs  
报名方式:     `$ZBIe/u  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     X"S")BQ q  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   1j+RXb\<  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   2@:Ztt6~  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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