【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7653
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   \I#2Mq?  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! ImklM7A  
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主办:Zemax China     )y.J2_lI8  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     ~mK9S^[  
地点:上海 u&bo32fc  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   RhbYDsG  
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课程安排: )e9(&y*o  
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成像设计 ]Rnr>_>x;  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 r6 ,5&`&  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; rN$_(%m_N  
材料库、镜头库介绍; Hc^b}A y7  
如何定义新材料; <8r%_ ']  
如何使用镜头库;
MTF; wp.<}=|u  
双高斯镜头设计及优化; v8 ggPI  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; b V;R}3)  
寻找最佳非球面; hRxR2  
曲率套样板; .0.Ha}{6b  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; "+&|$*  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; tQz-tQg  
坐标断点面的使用技巧; aQ]C`9k  
序列模式棱镜建模; 7qgHH p  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; a,M7Bb x  
加工误差、装配误差; Jan73AOX  
灵敏度分析; f]%$HfF @  
反灵敏度分析; M*8Ef^-U`t  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; '`\\O:@C`  
局部优化; `dn|n I2  
全局优化; JL`n12$m  
锤形优化; hM/|k0YV  
优化函数架构技巧; h+CTi6-p  
透镜优化实例; bb+-R_3Kd  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; y&-j NOKLM  
投影系统设计; V8`t7[r  
集光系统设计;
公差评价标准; JQi)6A?J  
公差操作数; #G$_\bt  
补偿变量的使用; +<|6y46  
单透镜公差分析; wb.47S8  
库克镜头公差分析; 1nX/5z_U  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   <k6Zx-6X<  
实例设计及分析; [$;6LFs }  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; ^yu0Veypy  
小结及答疑;
公差脚本的使用; jzdK''CHi  
镜头出图、CAD出图; mcpM<vY/H  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 #l+U(zH:JG  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 t]2~aK<]  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; ~*- eL.  
光源与探测器;
案例:背光模组; &#w] 2~|  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; +i4S^B/8i  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; k)1K6ug  
光偏振与膜层;
表面散射; F%+/j5~^  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; yO]Vex5)  
光谱模型; & LwR9\sh  
真彩色数据探测;
物体表面属性; 2}/Z.)^Q  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; r|{h7'  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   g"FG7E&  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; ow>^(>^~  
非序列系统错误排查;
体散射; 0.~QA+BD:S  
荧光模型
tTLD6#  
'_@Y  
特色:     &BFW`5N  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     jY(' ?3  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     ^j0Mu.+_  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     py]m^)yc  
}'b 3'/MJ  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     .Xc, Gq{  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     Wr a W  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     x$[<<@F%  
#Ne<=ayS  
报名方式:     gah3d*d7  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     <_dyUiT$J  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   4askQV &hj  
D}>pl8ke~g  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   1j`-lD  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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