【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7564
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   .?*TU~S  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 0'~Iv\s  
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主办:Zemax China     0M 5m8  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     QLOcgU^  
地点:上海 D 4\ * ,w  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   s:Io5C(  
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课程安排: +l(lpp>,  
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成像设计 _p\O!y  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 .|<+-Rsj  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; b]Z>P{ j  
材料库、镜头库介绍; t BKra  
如何定义新材料; OmAa$L,'w  
如何使用镜头库;
MTF; lbiMB~rwI  
双高斯镜头设计及优化; ]j57Gk%z  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; w}r~Wk^dLI  
寻找最佳非球面; S F&EVRv  
曲率套样板; -VkPy<)  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; 6>j0geFyE2  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; W;!)Sj4<T!  
坐标断点面的使用技巧; vDcYz,  
序列模式棱镜建模; Jj,fdP#\  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; aF%V  
加工误差、装配误差; <-F[q'!C1  
灵敏度分析; N Ah^2X  
反灵敏度分析; X^9eCj;c  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; )jHH-=JM  
局部优化;  Or,W2  
全局优化; \cW9"e'  
锤形优化; U['|t<^uf  
优化函数架构技巧; fe!{vrS  
透镜优化实例; )T!3du:M  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; D) ;w)`  
投影系统设计; m+9~f_}  
集光系统设计;
公差评价标准; C7xmk;c w  
公差操作数; 22FHD4  
补偿变量的使用; G'f5MP 1  
单透镜公差分析; ;cp,d~mrf  
库克镜头公差分析; D%!GY1wdn  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   5:|=/X%#qp  
实例设计及分析; u @#fOu  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; <zt124y-6  
小结及答疑;
公差脚本的使用; 8KHT"uc'*J  
镜头出图、CAD出图; <T+{)FV  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 XWv;l)  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 !i5~>p|4@  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; Uc d~-D  
光源与探测器;
案例:背光模组; *5d6Q   
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; ky=h7#wdv-  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; 9N V.<&~  
光偏振与膜层;
表面散射; #9CLIYJAd  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; =gQ^,x0R9  
光谱模型; ,f^ ICM  
真彩色数据探测;
物体表面属性; #VynADPs`o  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; 5dkXDta[G  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   B\Uocn  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; V2LvE.Kj  
非序列系统错误排查;
体散射; <P.'r,"[  
荧光模型
G- eSHv  
ciGJtD&P  
特色:     (0u(<qA\  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     *=zv:!  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     ][`%vj9r  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     1"UHe*2  
5[Uv%A?H#_  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     5]~4 51  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     ]_43U` [#  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     y7| 3]>Z  
'; ;X{a  
报名方式:     QJ2D C  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     r1/9BTPKdJ  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   !!d?o  
y-N]{!  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   p((a(Q/  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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