[求助]镀AR出现的问题，大神们求指点。 [复制链接]

图一：同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里？ Ft`#]=IS  
   谢谢各位！！ \I,<G7!0  
  图二：是与图二同一台机镀的另外一个工艺（除膜厚外，其他条件是一样的）的反射数据。 1y_{#,{>  
`"(7)T{  
l},px  
        图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2      7"*- >mg  
OU9=O>  
  f|6%71  
      图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2   MkJL9eG  
zK:/ 1  
Rl3KE)<  
,3GM'e{hV  

均匀性问题，建议使用修正板 1P2%n[y  

ysc212:均匀性问题，建议使用修正板 Jp,ohVRNq  
 (2017-06-20 09:34)  &<>A  

q&W#nWBV  
恩   但是第二张图只是膜厚层数不同，差异就没有第一个大。是不是第一个膜系里面有些敏感层。谢谢回复。

个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象

yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20)  DUtpd|  

mB,7YZv  
我用的晶控，同样的修正版 膜料 镀出来的差异太大了，SIO2  H4是同一个修正板。

Zf"AqGP  
我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量； UO&S6M]v7  
EbW7Av  
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下； (&B
& V  
+j<Nu)0iY  
另外，SIO2的分布比一般的氧化物要差一点，可以选好一点的SIO2 sv[)?1S  
SUx0!_f*R  

這很清楚的。 wb{y]~&6K  
hsl8@=_ B  
若與圖一使用之MASK為同支， *yf+5q4t  
-1{N#c/U  
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 1"'//0 7  
!98s[)B:  
至於圖一為什麼會這樣? 我認為是敏感層問題(薄層) k&**f_b  
Rub""Ga  
若想重複確認，可以鍍單一材料來看看他的5Q，答案即可得知。

均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多

fly6947:我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量；
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下；
....... (2017-06-29 08:46)  H!xBFiOH$n  

L ~  
好的   ，谢谢指导。我回头试试。

johnyu:這很清楚的。
若與圖一使用之MASK為同支，
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 :JPI#zZun  
....... (2017-07-03 17:36)  .*v8*8OJ&  

WT!%FQ9  
好的   ，谢谢指导。我也觉得单层有薄层敏感度高的。很均匀的差别。