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    [求助]镀AR出现的问题,大神们求指点。 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 06-20
    图一:同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里? /3^XJb$Sa  
       谢谢各位!! CadIu x^  
      图二:是与图二同一台机镀的另外一个工艺(除膜厚外,其他条件是一样的)的反射数据。 4vN:Kj  
    t2OBVzK  
    z,E`+a;  
            图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2      kRwUR34yc  
    `[#id@Z1  
      chUYLX}45  
          图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2   1:^Xd~X  
    PX/{!_mM  
    {5{VGAD&]>  
    JrLh=0i9  
     
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    离线ysc212
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    只看该作者 1楼 发表于: 06-20
    均匀性问题,建议使用修正板 o_mjI:  
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    只看该作者 2楼 发表于: 06-22
    回 ysc212 的帖子
    ysc212:均匀性问题,建议使用修正板 g7hI9(8+  
     (2017-06-20 09:34)  }ixCbuD  
    Qu'#~#L`  
    恩   但是第二张图只是膜厚层数不同,差异就没有第一个大。是不是第一个膜系里面有些敏感层。谢谢回复。
    离线yzhuang
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    只看该作者 3楼 发表于: 06-27
    个人感觉是膜层敏感度的原因,特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象
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    只看该作者 4楼 发表于: 06-29
    回 yzhuang 的帖子
    yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因,特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20)  rrgOp5aV"  
    54WX#/<Yik  
    我用的晶控,同样的修正版 膜料 镀出来的差异太大了,SIO2  H4是同一个修正板。
    离线fly6947
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    只看该作者 5楼 发表于: 06-29
    %52x:qGa  
    我建议你做一下图一的重复性,如果每炉差,但是情况不一样,那么是你的敏感层是H4,要么膜系结构优化一下,(图2是单峰结构,敏感度没那么高)要么控制H4的预熔与充氧量; ra^%__N}  
    A{)pzV25  
    如果每炉都这样,那肯定是均匀性没做好,有条件的话  高低折射率的mask单独修一下; (5:pHX`P  
    z"QtP[_m  
    另外,SIO2的分布比一般的氧化物要差一点,可以选好一点的SIO2 c}),yQ|!:  
    _e8v12s  
    离线johnyu
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    只看该作者 6楼 发表于: 07-03
    這很清楚的。 .tHc*Eh  
    _tje xS'  
    若與圖一使用之MASK為同支, >X:!Y[N  
    UpSJ%%.n  
    圖二看起來均勻性OK,即表示MASK為好的。 QKVOc,Fp7i  
    't*]6^  
    至於圖一為什麼會這樣? 我認為是敏感層問題(薄層) b&_Ifx_YF  
    Nq9M$Nt]  
    若想重複確認,可以鍍單一材料來看看他的5Q,答案即可得知。
    离线lzh123
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    只看该作者 7楼 发表于: 07-08
    均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多
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    只看该作者 8楼 发表于: 07-10
    回 fly6947 的帖子
    fly6947:我建议你做一下图一的重复性,如果每炉差,但是情况不一样,那么是你的敏感层是H4,要么膜系结构优化一下,(图2是单峰结构,敏感度没那么高)要么控制H4的预熔与充氧量;
    如果每炉都这样,那肯定是均匀性没做好,有条件的话  高低折射率的mask单独修一下;
    ....... (2017-06-29 08:46)  ,]]IJ;:w  
    ^~@3X[No  
    好的   ,谢谢指导。我回头试试。
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    只看该作者 9楼 发表于: 07-10
    回 johnyu 的帖子
    johnyu:這很清楚的。
    若與圖一使用之MASK為同支,
    圖二看起來均勻性OK,即表示MASK為好的。 IA[:-2_  
    ....... (2017-07-03 17:36)  `YE= B{q  
    2 >j0,2  
    好的   ,谢谢指导。我也觉得单层有薄层敏感度高的。很均匀的差别。
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