[求助]镀AR出现的问题，大神们求指点。 [复制链接]

图一：同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里？ /3^XJb$Sa  
   谢谢各位！！ CadIux^  
  图二：是与图二同一台机镀的另外一个工艺（除膜厚外，其他条件是一样的）的反射数据。 4vN:Kj  
t2OBVzK  

图片:A5254BD4984F47E3B7FB814F3297C810.jpg

z,E`+a;  
        图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2      kRwUR34yc  
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Z1  

图片:9CAEB8CFAB0D98EAB544F93840406934.jpg

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      图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2   1:^Xd~X  
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JrLh=0i9  

均匀性问题，建议使用修正板 o_mjI:  

ysc212:均匀性问题，建议使用修正板 g7hI9(8+  
 (2017-06-20 09:34)  }ixCbuD  

Qu'#~#L`  
恩   但是第二张图只是膜厚层数不同，差异就没有第一个大。是不是第一个膜系里面有些敏感层。谢谢回复。

个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象

yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20)  rrgOp5aV
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54WX#/<Yik  
我用的晶控，同样的修正版 膜料 镀出来的差异太大了，SIO2  H4是同一个修正板。

%52x:qGa  
我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量； ra^%__N}  
A{)pzV25  
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下； (5:pHX`P  
z"QtP[_m  
另外，SIO2的分布比一般的氧化物要差一点，可以选好一点的SIO2 c}),yQ|!:  
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這很清楚的。 .tHc*Eh  
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若與圖一使用之MASK為同支， >X:!Y[N  
UpSJ%%.n  
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 QKVOc,Fp7i  
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至於圖一為什麼會這樣? 我認為是敏感層問題(薄層) b&_Ifx_YF  
Nq9M$Nt]  
若想重複確認，可以鍍單一材料來看看他的5Q，答案即可得知。

均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多

fly6947:我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量；
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下；
....... (2017-06-29 08:46)  ,]]IJ;:w  

^~@3X[No  
好的   ，谢谢指导。我回头试试。

johnyu:這很清楚的。
若與圖一使用之MASK為同支，
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 IA[:-2_  
....... (2017-07-03 17:36)  `
YE=B{q  

2 >j0,2  
好的   ，谢谢指导。我也觉得单层有薄层敏感度高的。很均匀的差别。