[求助]镀AR出现的问题，大神们求指点。 [复制链接]

图一：同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里？ (&Z`P  
   谢谢各位！！ 5l(Q#pSX  
  图二：是与图二同一台机镀的另外一个工艺（除膜厚外，其他条件是一样的）的反射数据。 *6%r2l'kZ  
N,NEg4 q[  
S~LTLv:>  
        图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2      -nrfu)G  
('.r_F  
  @#5PPXp  
      图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2   a7Rg!%r  
JdeGQ  
|F#L{=B  
JmK[7t  

均匀性问题，建议使用修正板 WSW,}tFp"  

ysc212:均匀性问题，建议使用修正板 vTD`Ja#h  
 (2017-06-20 09:34)  )h~MIpWR  

PF1m :Iz`d  
恩   但是第二张图只是膜厚层数不同，差异就没有第一个大。是不是第一个膜系里面有些敏感层。谢谢回复。

个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象

yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20)  r9@W8](\  

}(dhXOf\q  
我用的晶控，同样的修正版 膜料 镀出来的差异太大了，SIO2  H4是同一个修正板。

KQ xKU?b1  
我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量； I1 j-Q8  
zMKW@  
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下； Tul_/`An  
J(h=@cw  
另外，SIO2的分布比一般的氧化物要差一点，可以选好一点的SIO2 f5Zx:g  
RT8xU;   

這很清楚的。 ]0zXpMNI  
1Qtojph  
若與圖一使用之MASK為同支， ~9
p*zC3M  
pA+W 8v#*  
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 a [iC!F2  
iQZgs@  
至於圖一為什麼會這樣? 我認為是敏感層問題(薄層) &|IY=$-  
M$ `b$il  
若想重複確認，可以鍍單一材料來看看他的5Q，答案即可得知。

均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多

fly6947:我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量；
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下；
....... (2017-06-29 08:46)  Ra}%:  

jw
gXq(  
好的   ，谢谢指导。我回头试试。

johnyu:這很清楚的。
若與圖一使用之MASK為同支，
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 l2QO\O I9m  
....... (2017-07-03 17:36)  R]O!F)_/'  

yBqv'Y  
好的   ，谢谢指导。我也觉得单层有薄层敏感度高的。很均匀的差别。