[求助]镀AR出现的问题，大神们求指点。 [复制链接]

lzh123:均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多 (2017-07-08 18:04)  \\Nt^j3qR  

K~~
LJU3  
好的   ，谢谢指导。我再试试看

fly6947:我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量；
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下；
....... (2017-06-29 08:46)  Jv~^hN2  

%\!@$]3q  
H4  和SIO2用的是用一个。单层和膜系里单层肯定还是有些差异。敏感层是只有几个NM。因为反射要求1.0下。

个人觉得，先去看看你设计的膜系里边有没有特别薄的层，然后该层的蒸发速率有多大，两者之间匹配是否合理，就好比H4总膜厚5nm，然后速率设置的为5A/s，那就是说10s就可以镀完了，在镀膜过程中有一个过冲值，就是挡板收到指令关闭与完全关闭有大概2S的延迟，也就是说这两秒钟还有膜料在蒸镀，这样就会对特性造成很大的影响。第二个就是看一下镀膜过程中光板的位置是否变动较大，导致内外圈差异较大。再或者就是镀膜过程中是否出现镀膜异常。还有就是你的伞罩有没有变形，每次取的测试片是否为同一位置，伞罩变形的话每次取不同位置的镜片特性自然不一样。

敏感层的话，可以降低蒸发速率，增加镀膜伞的转速。最好是在设计上解决。 <6C:\{eo  
一般如果有镀膜伞转5周以内就结束的层，就不是好的设计。

谢谢各位分析！

H4有连续使用吗？或者馅料，打坑过深影响蒸发角度所致

SiO2和H4光斑都不一样，蒸发曲线有差异，修正板形状肯定不一样。 -cP1,>Ahv  
建议你重新确认下单层。 rnBp2'EM  
?h,.1Tb  
敏感层上把伞架转速增加，如果可以同时把蒸发速率降低。 @QF;m  
然后再看看。

奔跑的小骏马:个人觉得，先去看看你设计的膜系里边有没有特别薄的层，然后该层的蒸发速率有多大，两者之间匹配是否合理，就好比H4总膜厚5nm，然后速率设置的为5A/s，那就是说10s就可以镀完了，在镀膜过程中有一个过冲值，就是挡板收到指令关闭与完全关闭有大概2S的延迟，也就是说这两秒钟还有膜 .. (2017-07-10 18:16)  1[\I9dv2  

P@Vs\wAT  
这个膜后少的都是用2.0 或3.0.

suninrain:H4有连续使用吗？或者馅料，打坑过深影响蒸发角度所致 (2017-09-14 00:04)  CC]q\%y-_  

,Uy~O(Ft  
这个有可能是一个锅，有小坑不是很深，这个可能大一点。

有时候层数不一样最佳修正板形状也不一样。 最薄的层是2nm 3nm吗？这个是不是太薄了，膜表面的粗糙度都比这个大吧。感觉会大大增加镀膜误差。