[求助]镀AR出现的问题，大神们求指点。 [复制链接]

图一：同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里？ }8AH/  
   谢谢各位！！ o6^ETQ  
  图二：是与图二同一台机镀的另外一个工艺（除膜厚外，其他条件是一样的）的反射数据。 T}{z
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图片:A5254BD4984F47E3B7FB814F3297C810.jpg

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        图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2      2ih}?
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图片:9CAEB8CFAB0D98EAB544F93840406934.jpg

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      图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2   '+Jy//5?  
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敏感层导致的

好文！

有时候层数不一样最佳修正板形状也不一样。 最薄的层是2nm 3nm吗？这个是不是太薄了，膜表面的粗糙度都比这个大吧。感觉会大大增加镀膜误差。

suninrain:H4有连续使用吗？或者馅料，打坑过深影响蒸发角度所致 (2017-09-14 00:04)  N2 3:+u<)E  

wmVb0~[  
这个有可能是一个锅，有小坑不是很深，这个可能大一点。

奔跑的小骏马:个人觉得，先去看看你设计的膜系里边有没有特别薄的层，然后该层的蒸发速率有多大，两者之间匹配是否合理，就好比H4总膜厚5nm，然后速率设置的为5A/s，那就是说10s就可以镀完了，在镀膜过程中有一个过冲值，就是挡板收到指令关闭与完全关闭有大概2S的延迟，也就是说这两秒钟还有膜 .. (2017-07-10 18:16)  '^WR5P<8c  

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这个膜后少的都是用2.0 或3.0.

SiO2和H4光斑都不一样，蒸发曲线有差异，修正板形状肯定不一样。 O\o@]  
建议你重新确认下单层。 [bo"!Qk%  
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敏感层上把伞架转速增加，如果可以同时把蒸发速率降低。 S=V  
然后再看看。

H4有连续使用吗？或者馅料，打坑过深影响蒸发角度所致

谢谢各位分析！

敏感层的话，可以降低蒸发速率，增加镀膜伞的转速。最好是在设计上解决。 =|$U`~YB  
一般如果有镀膜伞转5周以内就结束的层，就不是好的设计。