摘要:在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程,軟體中內建各種工具讓序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌,其中包含一鍵轉換非序列,以及關鍵光線組等工具。 +GJPj(S
本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光,內容包含: fB80&G9
* 介紹雜散光 Rk,'ujc
* 轉換序列式設計到非序列模式 6r|=^3{
* 設計鎖定工具 y\omJx=,
* 關鍵光線組產生器 & 追跡 rFUR9O.{E
* 用 Filter String 篩選光路徑 5JHWt<n{P
* 使用 Path Analysis 工具分析光路徑 KomMzG:
6hMKAk
文章發布時間:April 23, 2017 2E8G5?qe)
文章作者:Michael Cheng ^T:L6:
}DQTy.d;P
簡介 Ngj&1Ta&[
使用者用序列模式設計鏡頭,處理完成像品質、畸變、相對照度以及公差分析等問題之後,在原型製作之前,還會需要進行機構相關的分析,以避免出現多重反射的鬼影或強烈光源散射的雜光。一般來說,雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統,最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例: MyZVx|7E
|
C^.[)
$xT9e
在照相領域中,常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射,或是視野內的光源通過鏡片二次反射,聚焦到像面上這兩種。而在其他系統,例如天文望遠鏡,可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例: (dfC}x(3h
iC3C~?,7
JK`$/l|7
O\CnKNk,
開啟範例檔 ta6>St7.
首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx 9: .m]QN
作為前置作業,讓我們先把所有的鍍膜都取消,因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。 [YP{%1*RM
N>Ih2>8t
Lb)rloca
|h}4J
設計鎖定工具 m.p$f$A_
接著我們執行Design Lockdown工具,此工具會調整使用者的系統設定,使鏡頭符合實際運作的條件,分析結果更正確。 %3O))Ug5
粗略來說,這個工具所執行的步驟如下: ~`Rar2%B
* 開啟 Ray Aiming YA@MLZm
* 系統孔徑設為 Float By Stop Size "={* 0P
* 改為 Angle 或 Object Height .%y'q!?
* 固定表面孔徑:Circular Aperture pHuR_U5*?
* 移除漸暈係數 Cdy,8*
關於更詳細的說明,使用者可以參考Help文件的說明。 |_+#&x
T60pw
Q-<Qm ?
<}:` Y"
產生關鍵光線組 "w$,`M?2
在轉換到非序列模式之前,讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線,這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中,直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下: Q^ZM| (s#
;p2b^q'
>{QO$F#
T>]T=
轉換到非序列 =6qTz3t
在OpticStudio分析雜散光最方便的就是,我們只需要一個步驟,就能快速地切換到非序列模式中。 ;@T0wd_i|
有關於序列到非序列模式的切換,我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章,讀者有興趣可以參考,此文章標題為:轉換序列式面到非序列物件 0
zK{)HZ
/!2`pv
-$?t+ "/E
h}!9?:E
按一下OK後,可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表,可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface,而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件,他們的位置跟原本序列式系統中的像面,視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外,跟原本序列模式並無不同。 D
HT^.UM28
zBlv?JwG
gs;^SRE I
_XT'h;m
非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同,其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗,並勾選 “Split NSC Rays”,就可以看到如下圖: #GLW3}
^ZO! (
zPND$3&'
Q&N#q53
我們也可以用Shaded Model觀看,效果如下: *2u~5Kc<
;:j1FOj
zxx\jpBBk
~x!up9
檢查關鍵光線組的狀況 GLyPgZ`|
讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下,可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時,將會需要把機構元件的CAD檔匯入,再次使用此工具,確保機構沒有不小心遮蔽到主要光束。 PBnH#zm
u1L^INo/
Jn^b}bk t
GkX Se)#p
分析雜散光所需的設定 C&>*~
在開始追跡檢查雜光狀況之前,讓我們先來調整一些必要的設定。 h#"$W;(
首先是把最大光線分裂次數,以及最大光線與物件交會次數調整到最高,在雜光的分析中,有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的,如果分裂次數或交會次數的設定不足,可能無法充分分析到所有狀況。 >>
"gb/x,
V0v,s^\H
Kc?4q=7q
i? ~-%
然後我們把追跡的光線數降低到5000條,原因是分析雜散光時,通常一條光線會分裂為非常多的子光線,比起不分裂的狀況,速度可能慢上十幾倍到百倍不等,這邊以示範為目的,因此我們把光線數量控制到較少的5000。 y7M{L8{0
+x=)Kp>
iW^J>aKy
T"[]'|'
最後一步是把探測面的像素數設為150x150,這會讓追跡的速度較快。 5\MC5us3
UPU$SZAIx
k1q/L|')
=K18| Q0m
初步追跡結果 o(oOB
然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡,如下圖設定操作。 c%C6d97q
注意如下圖所示,追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。 /V:9*C
NDP"
@
Q0Ft.b
H#_Zv]
追跡完畢後開啟Detector Viewer,此工具的位置如下。 8Rwk
o6x
L)bMO8JH~m
*u1q7JFQk
az6&
並且設定視窗如下圖。 7bzm5w@v
4}h}`KZZ
e4YP$}_L
~2"hh$
可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。 +T$Olz
]alc%(=
*z?Uh$I4
CpO_p%P
使用Filter String (c(F1=K
現在我們要找出這些雜光的發生原因,並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光(鬼影光)。為了特定出這些特定的光線,我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的功能(下圖中紅框框起來的部分)。 p0bWzIH
?b,>+v-w::
z}ar$}T
zHb[.ry~
接下來我們要使用一個快速的技巧,從前述的鬼影光線中,把入射到像面(探測器)上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的,如下圖紅框的部分,此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例,預設是1x10^-6,代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。 a)JXxst
現在請輸入0.005,這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時,就停止追跡。 e~SK*vR%]
0I)$!1~O)
+:.Jl:fx4
25)9R^
此時回到Layout中,重新整理多次之後,可以看到以下幾種路徑。 c4Zpt%:}h
X ha9x,
Reikf}9Q
y("WnVI
Io]FDPN
V:kRr cX
給透鏡加上鍍膜 f1MRmp-f'
為了輕減這些鬼影光,我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層(coating),並了解其效果。 sgp.;h'
這裡我們在 U =.PL\
物件6的Face 2以及 `N *:,8j
物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。 \vAjg
[Cl0Kw.LD
eWcqf/4?"
OOqT 0wN
再次追跡之後,就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。 ?{S>%P A_B
KdR4<qVV}
&u.{]Yjx
KS$t
zFq%[ X
分析特定區域的光 (使用Filter String) W%!(kN&d
初步排除基本雜光之後,我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光,現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的,要怎麼辦? S/'0czDMW
8)X9abC
7Jf~Bn
KNx/1lf
這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中,Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中,可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的,我們還可以使用邏輯符號,例如「&、|、^」等,來組合出無限多種篩選條件。 zuvPV{
X
現在我們要利用以下四個指令的組合,來達成篩選上述區域的功能。 ;5 j|B|v
*,\"}x*
pLB2! +
h<G4tjtk
現在讓我們重新追跡,並且這次追跡時,要勾選Save Rays的選項,如下圖。 q-JTGCFl
這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。 S}@7Z`
] 3{t}qY$A
+`
Md5.w
aOzIo-
然後我們回到Layout中,讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史,並輸入剛剛的Filter String。 ,9P-<P
SyvoN,;Q
J/je/PC
M~:_^B
注意我在前面額外追跡設定了{#50},這代表要篩選出代表性的50條光線。 .k,j64
r
"\b>JV5
回到Layout中,就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。 7rjl-FUA~
但這裡出現了一個問題,那就是我們發現有太多可能的路徑。 o1.~g'!^
根據經驗,我們知道不可能所有的路徑都是強烈的,這些路徑中,很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。 u"v7shRp:
{D4FYr
J
Unk/uk
*7!MG
5)#j }`6
46:<[0Psl/
進階路徑分析 \O|SPhaIf
因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具,工具位置如下。 Lw>B:3e
注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。 vzIo2,/7
C`.YOkpj
P<]U
t+?Bb7p,H
分析後可以看到所有路徑中,幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。 N<)CG,/w[M
讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。 fs!dI
把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單,只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。,可以看到如下圖。 mfraw2H
>]h{[kU %4
X=sE1RB
4Q|>k)H
啊哈!分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑,實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。 z=D5*
o*KAS@&
下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果,跟前面一樣,我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。 )d3
09O
g NI1W@)
h"`\'(,X
uMcI'=
m%|\AZBA#
gT)(RS`_)
B"4 3o7C
{<-s&%/r
`cGks
DGTLlBkT
(转自:中文版 Zemax Forum )