摘要：在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程，軟體中內建各種工具讓
序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌，其中包含一鍵轉換非序列，以及關鍵光線組等工具。
wFHbz9|@I 本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光，內容包含：
q=+AN</ * 介紹雜散光
,f(:i ^iz! * 轉換序列式設計到非序列模式
^vQ,t*Uj= * 設計鎖定工具
i[\`]C{gf * 關鍵光線組產生器 & 追跡
(='e9H!3D * 用 Filter String 篩選光路徑
m0(]%Kdw * 使用 Path Analysis 工具分析光路徑
_,C>+dv) N)t qjq 文章發布時間：April 23, 2017
(tLAJ_v!.K 文章作者：Michael Cheng
U<"@@``+ N mO1r~-~AJ 簡介
*53@%9 {u 使用者用序列模式設計鏡頭，處理完
成像品質、畸變、相對
照度以及
公差分析等問題之後，在原型製作之前，還會需要進行機構相關的分析，以避免出現多重反射的鬼影或強烈
光源散射的雜光。一般來說，雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統，最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例：
)t#v55M 
k9|8@3(h =,4iMENm! 在照相領域中，常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射，或是視野內的光源通過鏡片二次反射，聚焦到像面上這兩種。而在其他系統，例如天文望遠鏡，可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例：
=Co[pt 
;I5u"MDHGI ]g0h7q)79 <h A1[S} 開啟範例檔
{0t -Q k 首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx
j4fv -{=$ 作為前置作業，讓我們先把所有的鍍膜都取消，因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。
w$2Z7S 
TjswB# m\];.Da 2 x x 設計鎖定工具
8M DX()Bm 接著我們執行Design Lockdown工具，此工具會調整使用者的系統設定，使鏡頭符合實際運作的條件，分析結果更正確。
" Om4P| 粗略來說，這個工具所執行的步驟如下：
|sIr}} * 開啟 Ray Aiming
-? |-ux * 系統孔徑設為 Float By Stop Size
&~SPDiu.t * 改為 Angle 或 Object Height
MkCq$MA * 固定表面孔徑：Circular Aperture
)8rN * 移除漸暈係數
T cP
(?v 關於更詳細的說明，使用者可以參考Help文件的說明。
s,*kWy"jp 0OrT{jo 
6_.K9;Gd fZH";_"1 產生關鍵光線組
M&/([ >Q 在轉換到非序列模式之前，讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線，這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中，直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下：
UDUj 6hvmp 
1;Dug j18qY4Gw) 轉換到非序列
!jIpgs5 在OpticStudio分析雜散光最方便的就是，我們只需要一個步驟，就能快速地切換到非序列模式中。
a0]n>C`~ 有關於序列到非序列模式的切換，我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章，讀者有興趣可以參考，此文章標題為：轉換序列式面到非序列物件
yL#bZ9W
} c2aW4 TX2 
c@]_V
MBO3y&\S4 按一下OK後，可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表，可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface，而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件，他們的位置跟原本序列式系統中的像面，視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外，跟原本序列模式並無不同。
_?+gfi+ ]sbj 8 
e_6-+l!f mg )Zo C 非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同，其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗，並勾選 “Split NSC Rays”，就可以看到如下圖：
Xaca=t sO D@]*{WO 
X4D> 3ZF - n` 我們也可以用Shaded Model觀看，效果如下：
xMb)4 cw} 5dPPm%U{ 
z' (][SB jYv`kt 檢查關鍵光線組的狀況
Pl>S1 讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下，可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時，將會需要把機構元件的
CAD檔匯入，再次使用此工具，確保機構沒有不小心遮蔽到主要
光束。
V\ 7O) g *s"dC c 
\"X<\3z2 w[A$bqz 分析雜散光所需的設定
<![]=~z $ 在開始追跡檢查雜光狀況之前，讓我們先來調整一些必要的設定。
PS13h_j 首先是把最大光線分裂次數，以及最大光線與物件交會次數調整到最高，在雜光的分析中，有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的，如果分裂次數或交會次數的設定不足，可能無法充分分析到所有狀況。
nVp*u9] n&`=.[+A 
has \W\( S S/9fT"[ 然後我們把追跡的光線數降低到5000條，原因是分析雜散光時，通常一條光線會分裂為非常多的子光線，比起不分裂的狀況，速度可能慢上十幾倍到百倍不等，這邊以示範為目的，因此我們把光線數量控制到較少的5000。
5c W2 T/A[C 
POl[]ni=> FBR]) h'Z 最後一步是把探測面的
像素數設為150x150，這會讓追跡的速度較快。
8l, R|$RKP m o$`a6[h< 
< ah!! RO]Vn]qb 初步追跡結果
2}ttC m 然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡，如下圖設定操作。
xw)$).yc 注意如下圖所示，追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。
5$(qnOi [|XMR=\> 
mihR
*8p # -0}r 追跡完畢後開啟Detector Viewer，此工具的位置如下。
G<S(P@ss S :*.,zC 
;~2RWj=- e)Be*J]4 並且設定視窗如下圖。
u+&t"B 7({"dW 
xUiSAKrcM sO5~!W>Z 可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。
OMi_')J K!JXsdHK 
U X?EOrfJ 7kQZ$sLc 使用Filter String
x9, X0JO 現在我們要找出這些雜光的發生原因，並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光（鬼影光）。為了特定出這些特定的光線，我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的
功能（下圖中紅框框起來的部分）。
. %.bIT SnK#YQCDt 
wVSk.OOB N,iYUM? 接下來我們要使用一個快速的技巧，從前述的鬼影光線中，把入射到像面（探測器）上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的，如下圖紅框的部分，此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例，預設是1x10^-6，代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。
vS!%!-F 現在請輸入0.005，這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時，就停止追跡。
.d^XM +zU[rhMk' 
: J3_ g<@ 9K9{$jN~ 此時回到Layout中，重新整理多次之後，可以看到以下幾種路徑。
EH*Lw
c sS 5aJ}Qs 
<vMdfw"( O% 1X[ 
MDHTZ9 4\Q $IM}d"/9 給透鏡加上鍍膜
qmWK8}F.cE 為了輕減這些鬼影光，我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層（coating），並了解其效果。
69z,_p$@: 這裡我們在
7V n;LW 物件6的Face 2以及
w:|BQ, 物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。
jp~C''Sj xnBU)#<]S 
b,Z\{M:f;F S? -6hGA
j 再次追跡之後，就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。
[VD)DO5 h!vq~g 
7K 8tz} 7j9X<8 * XLog+F$` 分析特定區域的光 (使用Filter String)
Uz;z 初步排除基本雜光之後，我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光，現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的，要怎麼辦？
&!kD81 ?Mm 4RLuv?,)~ 
mbij& 0 j>OuNeo@4 這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中，Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中，可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的，我們還可以使用邏輯符號，例如「&、|、^」等，來組合出無限多種篩選條件。
aSN"MTw. 現在我們要利用以下四個指令的組合，來達成篩選上述區域的功能。
C78V /{ jjT|@\ -u 
qu}&4_`%:V F2B9Q_>P 現在讓我們重新追跡，並且這次追跡時，要勾選Save Rays的選項，如下圖。
@@?P\jv~ 這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。
Vy- kogVt jm~qD
T, 
5._=m"Pl da'7*
&/ 然後我們回到Layout中，讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史，並輸入剛剛的Filter String。
55mDLiA T6P9Icv?@7 
/3 (|P L \CufAN 注意我在前面額外追跡設定了{#50}，這代表要篩選出代表性的50條光線。
9XH}/FcP_O gbC! >L V 回到Layout中，就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。
hC nqe 但這裡出現了一個問題，那就是我們發現有太多可能的路徑。
QSaJb?I 根據經驗，我們知道不可能所有的路徑都是強烈的，這些路徑中，很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。
b?=>)':f g9rsw7 
_ ?\4k{ET fsA-}Qc 
+&U{>? .u v0d<P2ix 進階路徑分析
zFR=inI 因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具，工具位置如下。
%
T2C0P 注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。
}Q=@$YIesD 'ot,6@~x> 
,X&(BQj h }"sZ )FE 分析後可以看到所有路徑中，幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。
#fuc`X3:HL 讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。
>h[ { _+ 把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單，只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。，可以看到如下圖。
F+lsza 'QMvj` - 
"G(^v?x:P `:4\RcTb/ 啊哈！分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑，實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。
M_ GN3 2E*k@ 下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果，跟前面一樣，我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。
ssWSY (j] jP{W|9@ ( 
_w'N&# W=$cQ(x4Z 
ql +tqgo !6d6b@Mv 
) (aj -t5DcEAb$ 
PCx] >& P XH"%vVF （转自：中文版 Zemax Forum ）
