[转载]各種雜散光分析工具介紹 [复制链接]

摘要：在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程，軟體中內建各種工具讓序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌，其中包含一鍵轉換非序列，以及關鍵光線組等工具。 vy_D>tp  
本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光，內容包含： bKj%s@x  
* 介紹雜散光 baJxU:Y=p  
* 轉換序列式設計到非序列模式 iv?gZg   
* 設計鎖定工具 Rop'e8Q  
* 關鍵光線組產生器 & 追跡 8%%f%y
  
* 用 Filter String 篩選光路徑 uum;q-"  
* 使用 Path Analysis 工具分析光路徑 ^ "i l}8`  
vohoLeJTj  
文章發布時間：April 23, 2017 &j?#3Qt'_  
文章作者：Michael Cheng %YSpCI  
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L&WB  
簡介 @Ys!DScY,  
使用者用序列模式設計鏡頭，處理完成像品質、畸變、相對照度以及公差分析等問題之後，在原型製作之前，還會需要進行機構相關的分析，以避免出現多重反射的鬼影或強烈光源散射的雜光。一般來說，雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統，最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例： \%/#x V  
lZyG)0t,g  
XW -2~?$  
在照相領域中，常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射，或是視野內的光源通過鏡片二次反射，聚焦到像面上這兩種。而在其他系統，例如天文望遠鏡，可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例： 6An9S%:_  
UbEb&9}  
bV edFm  
=8r 0 (c  
開啟範例檔 S!Omy:=;i  
首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx }"|"Q7H  
作為前置作業，讓我們先把所有的鍍膜都取消，因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。 c1$ngH0  
D\@m6=L  
oY1';&BO9  
4l!@=qwn  
設計鎖定工具 QCH}-q)  
接著我們執行Design Lockdown工具，此工具會調整使用者的系統設定，使鏡頭符合實際運作的條件，分析結果更正確。 JYrY
[',u  
粗略來說，這個工具所執行的步驟如下： |,#t^'S!  
* 開啟 Ray Aiming hq:&wN7Q  
* 系統孔徑設為 Float By Stop Size -+7uy.@cS  
* 改為 Angle 或 Object Height A a=u+  
* 固定表面孔徑：Circular Aperture L7= Q<D<  
* 移除漸暈係數 !).}u,*'no  
關於更詳細的說明，使用者可以參考Help文件的說明。 V?P,&c?
84  
-b9;5eS!  
UPc<gB  
1iX)d)
(b  
產生關鍵光線組 3' ~gviI  
在轉換到非序列模式之前，讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線，這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中，直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下： ?gO8kPg/D  
3
m>+-})d  
Py>{t4;S  
3I!?e!y3(  
轉換到非序列 b+6"#/s  
在OpticStudio分析雜散光最方便的就是，我們只需要一個步驟，就能快速地切換到非序列模式中。 %'x
b%`t  
有關於序列到非序列模式的切換，我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章，讀者有興趣可以參考，此文章標題為：轉換序列式面到非序列物件 v~T7`   
`%E8-]{uS  
S@}1t4Ls:  
G [:N0{v5  
按一下OK後，可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表，可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface，而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件，他們的位置跟原本序列式系統中的像面，視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外，跟原本序列模式並無不同。 KjFK/Og.  
P7 ]
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oT{@_U{*J  
2+cNo9f  
非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同，其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗，並勾選 “Split NSC Rays”，就可以看到如下圖： 1VF    
5aBAr  
Tx1vL  
-*~CV:2iq-  
我們也可以用Shaded Model觀看，效果如下： 3)ma\+< 6  
+vNZW@_$D  
hY*0aZ|(  
zVi15P$  
檢查關鍵光線組的狀況 Z1ALq5  
讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下，可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時，將會需要把機構元件的CAD檔匯入，再次使用此工具，確保機構沒有不小心遮蔽到主要光束。 =\,uy8HX  
'S<%Xm  
j}BHj.YuP  
+&X%<
S W  
分析雜散光所需的設定 !PMU O\y  
在開始追跡檢查雜光狀況之前，讓我們先來調整一些必要的設定。 ~ ^>417>  
首先是把最大光線分裂次數，以及最大光線與物件交會次數調整到最高，在雜光的分析中，有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的，如果分裂次數或交會次數的設定不足，可能無法充分分析到所有狀況。 !Oj)B1gc6&  
Z2Zq'3*  
k-E{d04-2  
"c(Sysl.L  
然後我們把追跡的光線數降低到5000條，原因是分析雜散光時，通常一條光線會分裂為非常多的子光線，比起不分裂的狀況，速度可能慢上十幾倍到百倍不等，這邊以示範為目的，因此我們把光線數量控制到較少的5000。 TgTnqR@/  
f`8OM}un&  
F( Ak  
j}F-Xs+  
最後一步是把探測面的像素數設為150x150，這會讓追跡的速度較快。 ewuXpv%vwW  
K7e4_ZGI  
)i>[M"7  
\ A%eG&  
初步追跡結果 ckjrk  
然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡，如下圖設定操作。 PSRzrv$l  
注意如下圖所示，追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。 4Hb $0l  
T*I?9d{k  
EQIUSh)M  
0G <hn8>  
追跡完畢後開啟Detector Viewer，此工具的位置如下。 <e)o1+[w  
K9[e>  
6*n
Ao8gl  
8ZcU[8r  
並且設定視窗如下圖。 D6~+Y~R  
'4OcZ/oI  
~:lKS;PRuK  
Cs@ +r  
可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。 0rokR&Y-d  
C}?0`!Cc%  
zSv^<`X3  
0IT@V5Gdj  
使用Filter String 3+xy4G@L  
現在我們要找出這些雜光的發生原因，並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光（鬼影光）。為了特定出這些特定的光線，我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的功能（下圖中紅框框起來的部分）。 mxFn7.|r~  
zTo8OPr  
}wwe}E-e  
'PlaMOy  
接下來我們要使用一個快速的技巧，從前述的鬼影光線中，把入射到像面（探測器）上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的，如下圖紅框的部分，此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例，預設是1x10^-6，代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。 ?0<w  
現在請輸入0.005，這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時，就停止追跡。 `@`1pOb  
D);'pKl  
a :HNg  
| A:@&|  
此時回到Layout中，重新整理多次之後，可以看到以下幾種路徑。 K?u(1  
TNY4z(r  
[m'CR 4(|  
8[bkHfI  
t~M $%)h  
d"~(T:=r  
給透鏡加上鍍膜 !OcENV  
為了輕減這些鬼影光，我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層（coating），並了解其效果。 Vv*NFJ|  
這裡我們在 kw,$NK'  
物件6的Face 2以及 9l+{OA  
物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。 7ODaX.t->  
9.M{M06;  
ohc1 ~?3b  
Q;h3v1GC\P  
再次追跡之後，就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。 \k.vN@K#  
!:fv>FEI9  
*(GZ^QH.  
z,*:x4}F  
7;LO2<|1  
分析特定區域的光 (使用Filter String) 2L\3S ukj  
初步排除基本雜光之後，我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光，現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的，要怎麼辦？ Y:x/!-  
H
5nS%D  
vz`@x45K  
N dR ]  
這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中，Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中，可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的，我們還可以使用邏輯符號，例如「&、|、^」等，來組合出無限多種篩選條件。 lQ*eH10H  
現在我們要利用以下四個指令的組合，來達成篩選上述區域的功能。 ?\H.S9CZ^  
r
Ol6lQW  
2H[)1|]l  
;RN8\re  
現在讓我們重新追跡，並且這次追跡時，要勾選Save Rays的選項，如下圖。 =^h~!ovj:  
這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。 o;`
!kIQ  
Jp;k+"<q  
j%& IL0  
ARL  
然後我們回到Layout中，讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史，並輸入剛剛的Filter String。 *M~.3$NN  
fk5XvL  
oEzDMImJ5  
's@MQ! *  
注意我在前面額外追跡設定了{#50}，這代表要篩選出代表性的50條光線。 B}*V%}:)  
h8^i\j  
回到Layout中，就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。 K6pw8  
但這裡出現了一個問題，那就是我們發現有太多可能的路徑。 :%_q[}e  
根據經驗，我們知道不可能所有的路徑都是強烈的，這些路徑中，很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。 V,QwN&  
\~"#ld(x7  
U6WG?$x  
]b[,LwB\`~  
?ow'^X-  
N&;\PfG  
進階路徑分析 qj?2%mK`  
因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具，工具位置如下。 gM_:l  
注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。 o+)A'S  
wz@FrRP=  
e)pTC97^L  
~8Sqa%F>  
分析後可以看到所有路徑中，幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。 lL2-.!]R  
讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。 k
fpm=dKL  
把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單，只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。，可以看到如下圖。 1 Nk1MGV  
d7i#w #  
c2b6B.4  
1=TSJ2{9  
啊哈！分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑，實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。 Hptq,~_t  
J'
7 y   
下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果，跟前面一樣，我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。 u 2lXd'  
mq`5w)S)\o  
:c;_a-69  
ggCr-  
u&3EPu  
)l2P}k7`  
</w7W3F  
XqFu(Lm8=  
eJf>"IF-  
xT+ ;w[s  
（转自：中文版 Zemax Forum ）

这个功能不错

多谢楼主分享

这个操作起来有点繁琐，不如tracePro来的简单明了

dio中從設計鏡頭到分析雜