摘要：在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程，軟體中內建各種工具讓
序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌，其中包含一鍵轉換非序列，以及關鍵光線組等工具。
W h| L 本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光，內容包含：
.f>,6? * 介紹雜散光
,"Tjpdf * 轉換序列式設計到非序列模式
TPHYz>D] * 設計鎖定工具
tPA:_ * 關鍵光線組產生器 & 追跡
=3*Jj`AV * 用 Filter String 篩選光路徑
9x=3W?K:, * 使用 Path Analysis 工具分析光路徑
~r<p@k=.#0 ! k,<|8(0 文章發布時間：April 23, 2017
2MuO*.9D 文章作者：Michael Cheng
6xHi\L IAI(Ix 簡介
BCx!0v?9 使用者用序列模式設計鏡頭，處理完
成像品質、畸變、相對
照度以及
公差分析等問題之後，在原型製作之前，還會需要進行機構相關的分析，以避免出現多重反射的鬼影或強烈
光源散射的雜光。一般來說，雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統，最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例：
Z,WubX< 
ASW4,% cl lEHwZ< je 在照相領域中，常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射，或是視野內的光源通過鏡片二次反射，聚焦到像面上這兩種。而在其他系統，例如天文望遠鏡，可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例：
zmI5"K"'F 
"tL2F*F"6X KA ed!z9 =}v ;1m 開啟範例檔
1Bg_FPu 首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx
vU!8`x) 作為前置作業，讓我們先把所有的鍍膜都取消，因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。
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/7gi/uh~-( IaLMWoh Seda } 設計鎖定工具
aG!
*WHt 接著我們執行Design Lockdown工具，此工具會調整使用者的系統設定，使鏡頭符合實際運作的條件，分析結果更正確。
R}r~p?(M 粗略來說，這個工具所執行的步驟如下：
>," sHm}l% * 開啟 Ray Aiming
e .l!3xY2' * 系統孔徑設為 Float By Stop Size
"Sjr_! u * 改為 Angle 或 Object Height
C Wi8Fv * 固定表面孔徑：Circular Aperture
}c%
pH{ HI * 移除漸暈係數
,r=re!QI7 關於更詳細的說明，使用者可以參考Help文件的說明。
',ZF5T5z@ WPo: ^BD 
T%(C-Quh QU T"z' 產生關鍵光線組
-[DWM2C$K4 在轉換到非序列模式之前，讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線，這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中，直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下：
cy|%sf` ?TpUf 
p@y gne 4
d(7NO;S8 轉換到非序列
-7%X] 在OpticStudio分析雜散光最方便的就是，我們只需要一個步驟，就能快速地切換到非序列模式中。
q8xd*--# 有關於序列到非序列模式的切換，我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章，讀者有興趣可以參考，此文章標題為：轉換序列式面到非序列物件
1fFj:p./l_ I@\+l6&#; 
uZIJoT {)@D`{$ 按一下OK後，可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表，可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface，而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件，他們的位置跟原本序列式系統中的像面，視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外，跟原本序列模式並無不同。
gnLn7? Jdj?I'XtY 
zizk7<?L . MBw-*K'?zB 非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同，其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗，並勾選 “Split NSC Rays”，就可以看到如下圖：
{38\vX,I(w y=a V=qD 
dMvp&M\\' "DQ'C% sL9 我們也可以用Shaded Model觀看，效果如下：
|P~;C6sf SfB8!V|; 
1 ] #9
8TWTbQ 檢查關鍵光線組的狀況
2Y OKM #N] 讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下，可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時，將會需要把機構元件的
CAD檔匯入，再次使用此工具，確保機構沒有不小心遮蔽到主要
光束。
gU1 #`r>[) \+nGOvM 
8SC%O\, "A3dvr 分析雜散光所需的設定
H&4~Uo.5 在開始追跡檢查雜光狀況之前，讓我們先來調整一些必要的設定。
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~ f 首先是把最大光線分裂次數，以及最大光線與物件交會次數調整到最高，在雜光的分析中，有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的，如果分裂次數或交會次數的設定不足，可能無法充分分析到所有狀況。
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TD Nf)Mm 
3[IJhR[ qlsQ|/'D 然後我們把追跡的光線數降低到5000條，原因是分析雜散光時，通常一條光線會分裂為非常多的子光線，比起不分裂的狀況，速度可能慢上十幾倍到百倍不等，這邊以示範為目的，因此我們把光線數量控制到較少的5000。
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`tEo]p bRo|uJ:d 最後一步是把探測面的
像素數設為150x150，這會讓追跡的速度較快。
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_P7t n Xww @ -:]P8 初步追跡結果
h7yqk4'Lq 然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡，如下圖設定操作。
$ uh z 注意如下圖所示，追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。
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m:+8J,jW 8g~EL{ ' 追跡完畢後開啟Detector Viewer，此工具的位置如下。
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d 8 o53a] ?GT@puJS- 並且設定視窗如下圖。
G"dS+,Q X~9j$3lUBR 
+T{'V^ )2e#HBnH 可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。
Ao9R:|9 I f-_?wZe 
e}yX_Z' P< FM w&( 使用Filter String
zaimGMJ , 現在我們要找出這些雜光的發生原因，並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光（鬼影光）。為了特定出這些特定的光線，我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的
功能（下圖中紅框框起來的部分）。
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39i9wrP MGpt}|t- 接下來我們要使用一個快速的技巧，從前述的鬼影光線中，把入射到像面（探測器）上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的，如下圖紅框的部分，此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例，預設是1x10^-6，代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。
#*%q'gyHT 現在請輸入0.005，這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時，就停止追跡。
4Xj4|Rw% 0(TTw(; 
m#!=3P7T 1bnBji 此時回到Layout中，重新整理多次之後，可以看到以下幾種路徑。
s1N?/>lmB N)2f7j4C & 
:[l\@>H1tX 6xK[34~ 6 
b7 `D|7D )cJ#-M2 給透鏡加上鍍膜
7[# yu 2 為了輕減這些鬼影光，我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層（coating），並了解其效果。
LNYKm~c N 這裡我們在
.Pndx%X9s 物件6的Face 2以及
YI RZ+H<Q 物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。
"SxLN
8.: [Nm4sI 11 
%r\n% $@_ C4$:mJ>y 再次追跡之後，就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。
k%c{E TdE N2r/ho}8 
{7hLsK[]) y9H%
Xl JuR"J1MY 分析特定區域的光 (使用Filter String)
4R^ mI 初步排除基本雜光之後，我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光，現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的，要怎麼辦？
M9\# Aq&\i LkruL_E> 
HSUI${ < tC?=E#3 V 這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中，Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中，可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的，我們還可以使用邏輯符號，例如「&、|、^」等，來組合出無限多種篩選條件。
z4%uN |V 現在我們要利用以下四個指令的組合，來達成篩選上述區域的功能。
f"[ J "j8 #p(h]T32 
3rW|kkn \W5O&G-C 現在讓我們重新追跡，並且這次追跡時，要勾選Save Rays的選項，如下圖。
8 `>h}Q$ 這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。
}_/ Hd mmx 39 81ie 
^ |~ml Y@w SvM6iZ] 然後我們回到Layout中，讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史，並輸入剛剛的Filter String。
(_kp{0r# (tah]Bx 
lf{e[!ML' rEhX/(n# 注意我在前面額外追跡設定了{#50}，這代表要篩選出代表性的50條光線。
lz#GbX n. bK"SKV 回到Layout中，就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。
:o-,SrORM 但這裡出現了一個問題，那就是我們發現有太多可能的路徑。
{N2g8W: 根據經驗，我們知道不可能所有的路徑都是強烈的，這些路徑中，很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。
-C-?` R c .3ZXqpI; 
_
n A p6i iX u]e;6 
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/tV/85r 進階路徑分析
? &G`{Ey 因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具，工具位置如下。
qf@q]wtar 注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。
nkxzk$ <?-Y TY| 
M# "524Nz AqK z$ 分析後可以看到所有路徑中，幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。
Wt)Drv{@ { 讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。
'j^xbikr 把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單，只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。，可以看到如下圖。
D 0k
8^ <DKS +R 
PWh^[Rd) HX'FYt/?t 啊哈！分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑，實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。
i|w8.}0 xq-17HKs 下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果，跟前面一樣，我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。
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pi=-#g(2 l Z#o+d2Y 
Fc~'TBf,,` &PkLp4mQ 
vS\%3A4^+5 A(?\>X
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Cm$.< CV hjaT^(Y （转自：中文版 Zemax Forum ）
