《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
z4.|N 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
] %7m+-h@ 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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,9:v2=C_ <6N3()A)%1 第一篇光学多层膜设计
4wS!g10 } 第1章光学薄膜特性的理论计算
muK)Yw[#N 1.1单色平面电磁波
F":dS-u&L 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
h9A=20fj 1.3光学薄膜特性的理论计算
fb8xs< 1.4光学多层膜内的电场强度分布
('_S1?y 习题
Odt<WG 第2章光学薄膜的设计理论
{dl@#Tu 2.1矢量作图法
}sZy |dd 2.2有效界面法
>Y3zO 2Cr 2.3对称膜系的等效层
1{xkAy0 2.4导纳图解技术
zS\m8[+] 习题
0,LUi*10 第3章光学薄膜
系统的设计
&6Wim<* 3.1减反射膜
CwEb ? 3.2分束镜
TTxSl p2=; 3.3高反射膜
fK4O
N'[R: 3.4干涉截止滤光片
s;[64ca]Q 3.5带通滤光片
:d~&Dt<c 3.6特殊膜系
G~lnX^46" 习题
%eu_Pr 6X 参考文献
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u>6UjV 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
j1@PfKh 第4章薄膜制备技术
w^$$'5= 4.1真空淀积工艺
MIv,$ 4.2光学薄膜材料
>&qaT*_g 4.3薄膜厚度监控艺术
xl,?Hh%# 4.4膜层厚度的均匀性
^6,}*@ 习题
kb*b|pWlO 参考文献
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