《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
74</6T]^ 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
-M(58/y 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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(5CX *)R yDl5t-0` 第一篇光学多层膜设计
3M5=@Fwkr 第1章光学薄膜特性的理论计算
Tg}H < T 1.1单色平面电磁波
vM$#m1L? 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
#EwRb<'Em 1.3光学薄膜特性的理论计算
0.3[=a43 1.4光学多层膜内的电场强度分布
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"s~ 习题
60SenHKles 第2章光学薄膜的设计理论
-bG#h)yj 2.1矢量作图法
0o\=0bH&s 2.2有效界面法
y[Fw>g1`q 2.3对称膜系的等效层
v:!7n 2.4导纳图解技术
iz$v8;w 习题
Q}`2Y^. 第3章光学薄膜
系统的设计
pRa oR 3.1减反射膜
lqwJ F & 3.2分束镜
2R~=@ 3.3高反射膜
!3gpiQH{ 3.4干涉截止滤光片
ui: >eYv 3.5带通滤光片
R _~m\P 3.6特殊膜系
+RKE|*y 习题
#6#BSZ E 参考文献
Qc)RrqYNGF 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
1Rb<(% 第4章薄膜制备技术
=Am*$wGI 4.1真空淀积工艺
L< nkI 4.2光学薄膜材料
2+hfbFu,1 4.3薄膜厚度监控艺术
2v;
7ohK 4.4膜层厚度的均匀性
ag*Hs<gi 习题
AF{7<v>/P 参考文献
% /wP2O< 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
_s#/f5<:B 5.1薄膜的形成过程
B3k],k 5.2薄膜的微观结构
AfbA.- 5.3薄膜的成分
y*TNJJ| 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
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