《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
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Pcw 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
75a3hPCZ 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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_Q:z -si g$]WKy(D 第一篇光学多层膜设计
s(py7{ ^K 第1章光学薄膜特性的理论计算
)bM,>x 1.1单色平面电磁波
N]FRL\K 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
P;"moluE; 1.3光学薄膜特性的理论计算
9mxg$P4 1.4光学多层膜内的电场强度分布
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U}6^yc 习题
ECt<\h7} 第2章光学薄膜的设计理论
m 3UK`~ji 2.1矢量作图法
D\M"bf>q1 2.2有效界面法
5Pf=Uj6D 2.3对称膜系的等效层
ypEMx'p 2.4导纳图解技术
.xqi7vVHZ 习题
j7)mC4o:% 第3章光学薄膜
系统的设计
U[MeK)* 3.1减反射膜
%|JiFDjp 3.2分束镜
='jT
5Mg 3.3高反射膜
&]YyV . 3.4干涉截止滤光片
Mf14> `<` 3.5带通滤光片
*%/O (ohs@ 3.6特殊膜系
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bHkI~ 习题
%16Lo<DPm 参考文献
<O7!( 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
#OPEYJ;*9d 第4章薄膜制备技术
d<d3j9u(# 4.1真空淀积工艺
,KJHY m=Q 4.2光学薄膜材料
8#;=>m% 4.3薄膜厚度监控艺术
zg3kU65PJE 4.4膜层厚度的均匀性
\dJhDR 习题
N& 参考文献
FzEs1hpl 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
A:Wr5`FJ 5.1薄膜的形成过程
E"9(CjbQ[ 5.2薄膜的微观结构
0U~$u 5.3薄膜的成分
Q>D//_TF 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
Ho&:Zs 5.5薄膜微观结构和改善
ATqblU>D 习题
KANR=G 参考文献
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@v 第三篇光学薄膜检测技术
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