《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
u~Zx9>f 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
0zD[mt 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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3_ 第一篇光学多层膜设计
C*A!`Q?1Y 第1章光学薄膜特性的理论计算
>BU"C+a8g 1.1单色平面电磁波
<d".v 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
v8Ga@* 1.3光学薄膜特性的理论计算
@BbqYX 1.4光学多层膜内的电场强度分布
zS]8ma 习题
`w@8i[2J 第2章光学薄膜的设计理论
.(T*mk*> 2.1矢量作图法
BeAkG_uG 2.2有效界面法
&rY73qfP' 2.3对称膜系的等效层
4-RzWSFbo` 2.4导纳图解技术
&jJj6
+P\ 习题
fUy:TCS 第3章光学薄膜
系统的设计
>OP[qj 3.1减反射膜
B%Pg:| 3.2分束镜
p*F.WxB)4 3.3高反射膜
XcfvmlBoD- 3.4干涉截止滤光片
7[=MgnmuC 3.5带通滤光片
Gw4~ 3.6特殊膜系
wxy.&a] 习题
Bp
#:sAG 参考文献
[I*zZ` 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
0q6$KP}q 第4章薄膜制备技术
l423+vo 4.1真空淀积工艺
aj>6q=R 4.2光学薄膜材料
_ISIq3A? 4.3薄膜厚度监控艺术
:m~R<BQ" 4.4膜层厚度的均匀性
8|FHr, 习题
/G}TPXA 参考文献
\]bAXa{ p 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
#^|"dIZ_M 5.1薄膜的形成过程
>NL4&MV: 5.2薄膜的微观结构
VJp; XM 5.3薄膜的成分
!% ' dyj 5.4微观结构和成分对薄膜特性的影响
W!@*3U]2R 5.5薄膜微观结构和改善
<kJ,E[4` 习题
v/NkG;NWM 参考文献
<#c/uIN 第三篇光学薄膜检测技术
r$7zk<01 第6章薄膜透射率和反射率测量
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% # 6.1光谱分析测试系统的基本
原理 ZdcG6IG+ 6.2薄膜反射率的测试
U]!~C 1cmw 6.3薄膜反射率的测量
a#Yo^"*1 6.4利用
激光谐振腔测量激光高反射镜的反射率与损耗
fpESuVKr 6.5总结
CF|4, K) 习题
{3s=U"\ 参考文献
t@hE}R 第7章薄膜的吸收和散射测量
?4G/f<ou 7.1激光量热计基本原理
x=Ef0v 7.2光声、光热偏转法测量薄膜吸收
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