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1. 建模任务 kcfT|@:MK" 1.1. 模拟条件 K6DN>0sY 光源: EML Emitter (Unit source) 4en3yA0.w 偶极子方向: Polarization BqNsW
(+ Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) sS-dHa 波长: 380~780 nm (10 nm step) NO!Qo: 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) (p>|e\(]0 <YvXyIs 1.2 堆栈结构 V\`Z|'WIQD 9q'&tU'a=c [
U:C62oK, +d3|Up8= 2. 建模过程 /l$enexSt C hF~ 2.1创建新的项目文件 k%6CkCw 2+9VDf2 zsp%Cz7T /p
!A:8 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 PYCN3s#Gi w;lpJB\ NWf=mrS8@$ Sgi`&;PF 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) =UKxf vhBW1/w&F 03~ ADj JI>Y?1i0O 3. 结果分析 l5D)UO g<Z :`00| 极坐标图结果 #Y=^4 U` Bve|+c6W 81Z;hO"~ bv4umL / 等高线图结果 flCT]ZR x?L[*N_ml c{=;lT
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