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1. 建模任务 M~-jPY,+ 1.1. 模拟条件 =EUi|T4: 光源: EML Emitter (Unit source) gF&HJF 0x 偶极子方向: Polarization 6Lz:J:Q) Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) qQe23,x@5 波长: 380~780 nm (10 nm step) ]-g4Ct_V 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) E7j9A` no8FSqLUS~ 1.2 堆栈结构 g BV66L 5Cl;h^R|m
v Yw$m#@ qrY]tb^K 2. 建模过程 6adXE V,>uM
>$ 2.1创建新的项目文件 HKYJgx %$zX a%A
zzZK S pLsJa?}R 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 we2D!Ywr z[De?8=)
Schvwlm~i A IsXu" 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) )U:W
9% UYsyVY`Fm|
q|kkdK|N/Y 2qDVAq^@ 3. 结果分析 A9ru]|? 0uS6F8x@ 极坐标图结果 7A4_b8 n]snD1?KX
NEcE-7aT /PgcW 等高线图结果 PVX23y; >kG: MJj
U$AV"F&!&}
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