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1. 建模任务 O(f&0h
! 1.1. 模拟条件 Ry iS 光源: EML Emitter (Unit source) DYvg ^b 偶极子方向: Polarization mnWbV\ VY Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) <\S
j5 波长: 380~780 nm (10 nm step) xDBHnr}[ 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) ,4z?9@wQ yzmwNsu 1.2 堆栈结构 Oe%jV,S |V ) "Toh=x]
H>2f M^ jF%[.n[BU 2. 建模过程 (-rw]=Qu vdN0YCXG 2.1创建新的项目文件 rSfvHO:R
z@S39Xp==
z;EnAy {9 Eq?d+s> 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 yS:1F
PA$_ Z<0+<tt
5&*B2ZBzH ewcgg 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) HR83{B21 "ZyWU f
,0Y5O?pu\ U1^R+ *yp 3. 结果分析 juuV3et 5U/1Z{ 极坐标图结果 b,#E.%SLw Qvd$fY**
S*1Km& A{Q :,S) 等高线图结果 %Sdzr!I7* :{v:sK
R?Or=W)i
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