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1. 建模任务 %B?=q@!QWn 1.1. 模拟条件 5#z1bu 光源: EML Emitter (Unit source) |6y 偶极子方向: Polarization h;'~,xA Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization)
05 ^h" 波长: 380~780 nm (10 nm step) xD=csJ'( 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) )Q JUUn# i"=\d 1.2 堆栈结构 JK]PRDyD -D:b*D
PQE=D0 /g.U&oI]D 2. 建模过程 o5)<$P43 b\5F ]r 2.1创建新的项目文件 yWf`rF{ y>ktcuML
bW:!5"_{H y<.5xq5_3 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 1B\WA8 -tU'yKhn
lk =<A"^S *yGGBqd 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) {2gwk8 dgP3@`YS
@E8+C8' _(zG?]y0P 3. 结果分析 #rg6,.I)< A?0Nm{O;3v 极坐标图结果 og>uj>H& R^e'}+Z
2t1ZIyv3D -7|H}!DFT 等高线图结果 iJ|uvPCE MfkN]\Jyw
8l">cVo]T
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