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1. 建模任务 b+3pu\w` 1.1. 模拟条件 l},%g%}iMU 光源: EML Emitter (Unit source) .XmD[= 偶极子方向: Polarization 6= Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) ,oCr6 ] 波长: 380~780 nm (10 nm step) S%4K-I 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) KH;e)91 6Z$T&Ul{ 1.2 堆栈结构 E-x(5^b" (8I0%n}.Zo
>g?,BK@ eg3{sDv, 2. 建模过程 Abl=Ev 5XhV+t
g. 2.1创建新的项目文件 <ANKoPNie ,FTF@h-Cs
l$FHL2?Cp
>4Lb+] 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 6jn<YR
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43eGfp'
yS?1JWUC> olqHa5qn 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) 7
MfpZgC -x7L8Wj
+,smjg:O K46\Rm_:B; 3. 结果分析 =Rui 3Ry?{m^ 极坐标图结果 /XXW4_> mBNa;6w?{*
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=lAHn& (]ORB0kl 等高线图结果 y]/{W}D A >x{\
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