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1. 建模任务 YQ+Kl[ec 1.1. 模拟条件 ?) ~j>1"S 光源: EML Emitter (Unit source) _~ipO1* 偶极子方向: Polarization $iblLZhj Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) hsUP5_ 波长: 380~780 nm (10 nm step) Hf'yRKACj 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) dIR6dI mxRe2<W 1.2 堆栈结构 -^JGa{9* Xkv+"F=-
6/#5TdJA z4nVsgQ$ 2. 建模过程 S}hg*mWn{$ H?=D, 2.1创建新的项目文件 D?w-uR%Y %TJF+;
(Rc0 l; CKTD27}) 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 H5N(MihT B43o_H|s
d%istFL) N3};M~\ 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) diLjUC`69 Lu~e^Ul
Yb|zE |7CH 3. 结果分析 DT=! e< Ee2pGX 极坐标图结果 N[$(y}
!s >Q~"/-bN)
7<=7RPWmD BX),U 等高线图结果 5m+:GiI "z }bgy
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