《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 Szus*YL7  
I.2J-pu}  
3a/n/_D  
39pG-otJ  
[}RoZB&I  
第1章光刻工艺概述 U$rMZk  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 U, 6iT  
1.2光刻技术的发展史_3 0c_xPBbB+  
1.3投影光刻机的空间成像_5 aQk&#OQy  
1.4光刻胶工艺_10 d|`Ll  
1.5光刻工艺特性_12 /r}L_wI  
1.6小结_18 $Y$9]G":  
参考文献_18 azcPeAe  
EeIDlm0o  
第2章投影光刻的成像原理 jvT'N@  
2.1投影光刻机_20 k3\N.@\  
2.2成像理论_21 :5d>^6eoB?  
2.2.1傅里叶光学描述_21 (!j#u)O  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 L'e_?`!:  
2.2.3其他成像仿真方法_30 8v:{BHX  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 t6+m` Kq  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 J~YT~D2L  
2.3.2影响_36 HpwMm^  
2.4小结_39 >r.]a`  
参考文献_39 \P\Z<z7jy  
"S#FI  
第3章光刻胶 en<mm#Ab  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 nHK(3Z4G  
3.1.1光刻胶的分类_42 I[Ra0Q>([k  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 MNT~[Z9L5G  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 UD I{4+z  
3.1.4现象学模型_48 V0ze7tSG[f  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 +2uSMr  
3.2.1技术方面_50 A_9WSXR  
3.2.2曝光_51 k.T=&0J_1  
3.2.3曝光后烘焙_54 Z%T Ajm  
3.2.4化学显影_58 D0. )%  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 J0G@]H  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 jnH\}IB  
3.5小结_68 [m~J6WB  
参考文献_69 Dc9uq5l  
X-pbSq~5  
第4章光学分辨率增强技术 MqmQ52HR  
4.1离轴照明_74 A^U84kV=  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 +ikSa8)*i  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 =]5tYI
U  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 <O#&D|EMd|  
4.2光学邻近效应校正_81 }$6L]   
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 AGhenDNV  
4.2.2线端缩短补偿_84 |}"YUk^  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 )ycI.[C  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 1v@#b@NXM7  
4.3相移掩模_89 D:P(;  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 $H:!3-/  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 ]uXJjS f  
4.4光瞳滤波_100 CTMC78=9}  
4.5光源掩模协同优化_102 -FeXG#{)  
4.6多重曝光技术_106 E^8|xT'h6  
4.7小结_109 6v%yU3l  
参考文献_110 OVK )]- ~  
%9-^,og  
第5章材料驱动的分辨率增强 ]jT}]9Q$  
5.1分辨率极限的回顾_115 mV0,T*}e  
5.2非线性双重曝光_119 Pz)lq2Zm9  
5.2.1双光子吸收材料_119 r$jWjb  
5.2.2光阈值材料_120 Q%e<0t7  
5.2.3可逆对比增强材料_121 ||+~8z#+,  
5.3双重和多重成形技术_124 >oh
Cz@~  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 k1&9 bgI  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 y)kxR  
5.3.3自对准双重成形_126 {Jn0G;  
5.3.4双色调显影_127 *l5?_tF  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 qqDg2,Yb  
5.4定向自组装_129 -^&=I3bp  
5.5薄膜成像技术_133 9QQ XB-  
5.6小结_135 ~aC ?M&  
参考文献_135 HxI6_>n^I  
s'HsLe0|  
第6章极紫外光刻 v l"8Oi*r^  
6.1EUV光源_141 XkI'm\W  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 .*zN@y3  
6.3EUV掩模_146 N{J
1C6  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 R"ON5,E  
6.5EUV光刻胶_156 s`yzeo  
6.6EUV掩模缺陷_157 O
P/DWf  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 ~ l}f@@u  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 Po?MTA  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 >u=  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 r1!1u7dr t  
6.8小结_167 Vh-8pFt  
参考文献_168 ^0]0ss;##R  
- 2)k!5X=  
第7章投影成像以外的光刻技术 i(~DhXz*T  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ^4=#,K  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 Yxq!7J  
7.1.2技术实现_179 ; Z:[LJd  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 @=kgK[t 9  
7.2无掩模光刻_186 zPnb_[YF  
7.2.1干涉光刻_186 !Z_+H<fi+I  
7.2.2激光直写光刻_189 4,y7a=qf3  
7.3无衍射限制的光刻_194 E&9<JS  
7.3.1近场光刻_195 /&Q{B f  
7.3.2利用光学非线性_198 7z?;z<VJ  
7.4三维光刻_203 Y` }X5(A@  
7.4.1灰度光刻_203 `r$7Cc$C  
7.4.2三维干涉光刻_205 b8d0]YS  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 fkI 5~Y|  
7.5浅谈无光刻印_209 m%0-3c(  
7.6小结_210 3ijPm<wn  
参考文献_211 _}R9!R0O  
+b 6R  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 tV!?Ol  
8.1实际投影系统中的波像差_220 W ^'|{9&m  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 ||hQ*X<m>  
8.1.2波前倾斜_226 iC3z5_g*@  
8.1.3离焦像差_226 nI6gd%C  
8.1.4像散_228 tp`1S+'~j  
8.1.5彗差_229 z}E_wg  
8.1.6球差_231 }{R*pmv$bN  
8.1.7三叶像差_233 C8K2F5c5  
8.1.8泽尼克像差小结_233
k6CXuU  
8.2杂散光_234 jn^X{R\  
8.2.1恒定杂散光模型_235 * zp tbZ  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 @v2<T1UC  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 t"$~o:U&)  
8.3.1掩模偏振效应_240 {KgA V  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 $z=%e#(!I  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 c'2/C5  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 oz&`
3`  
8.3.5偏振照明_248 FMdu30JV  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 D[+LU(  
8.5小结_250 %mC@}  
参考文献_251 r,;ca6>5H  
HAn{^8"@  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 NifQsy)*%  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 V}V->j*  
9.1.1时域有限差分法_257 E !!,JnU  
9.1.2波导法_260 "'CvB0>  
9.2掩模形貌效应_262 zA5nr`  
9.2.1掩模衍射分析_263 !R8%C!=a  
9.2.2斜入射效应_266  w*`:v$  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 .HZd.*  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 ?L }>9$"  
9.2.5各种三维掩模模型_277 ]nsjYsT  
9.3晶圆形貌效应_279 XO]^+'U}p  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 ,1ev2T  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 [-\Y?3  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 u[)X="-e#  
9.4小结_283 yv-R<c!'  
参考文献_283 _UVpQ5pN  
|jIHgm  
第10章先进光刻中的随机效应 RQE]=N  
10.1随机变量和过程_288 +;W%v7%<  
10.2现象_291 Nk9=A4=|  
10.3建模方法_294 h8(#\E  
10.4依存性及其影响_297 qy|bOl  
10.5小结_299 fAJyD`]Z  
参考文献_299 Bj7*2}  
专业词汇中英文对照表 jV2H61d  
Xy(QK2|