线上培训（第21期） | Ansys Zemax 成像设计 招生中！！

C~ZE95g  
UsLh)#}h  
5jn$7iE`  
培训大纲 0 &*P}U}Uc  
E\R raPkQT  
01 OpticStudio 软件功能介绍; 0rku4T  
02 材料库、镜头库介绍； +P[88!  
03 如何定义新材料； ]`zjRRd  
04 如何使用镜头库； <Gr9^C  
05 像差理论介绍； .-.q3ib  
06 Zemax 里像差分析图谱； $zC6(C(l  
07 优化; : cFF  
08 局部优化 V.;:u#{@-Q  
09 全局优化； /:#j?c  
10 锤形优化； _Fy4DVCg  
11 优化函数架构技巧； !Z U_,[  
12 单透镜优化实例 EvwbhvA(  
13 双胶合优化实例； E7rX1YdR  
14 热分析及衍射光学元件的使用; [#7y[<.P  
15 实例设计及分析； i^je.,Bi  
16 MTF [urH a  
17 双高斯镜头设计及优化； PSW#^o  
18 像质评价与图像模拟； L3B8IDq  
19 坐标变换； QjQ4Z'.r>  
20 坐标断点面的使用技巧 +jp|Y?6Z  
21 序列模式棱镜建模； g9DG=\*A  
22 扫描反射镜设计实例； 3hc#FmLr2b  
23 柯勒照明综合设计实例； }US7Nw  
24 投影系统设计 GS}0;x  
25 集光系统设计； }l.KpdRT2  
26 暗盒系统介绍； HS{P?~:=U  
27 分析工具应用； &nQRa?3,   
28 寻找最佳非球面 54=}GnZN  
29 曲率套样板； azvDvEWCQZ  
30 镜头匹配工具； yrO?Np  
31 Zemax公差分析功能介绍; S&n[4*  
32 加工误差、装配误差； 9n_ eCb)H  
33 灵敏度分析; e@[9C(5E"  
34 反灵敏度分析; LPq2+:JpS  
35 蒙特卡罗分析; PdR >;$1  
36 公差评价标准； dF$KrwDK  
37 公差操作数； Tc:sldtCk  
38 补偿变量的使用； q1UBKhpnH  
39 单透镜公差分析； )j\r,9<K+5  
40 库克镜头公差分析； u/}xE7G  
41 分析报告查看说明； `Gf{z%/  
42 公差脚本的使用； * !X4&#xP  
43 镜头出图、CAD 出图； Z%Vr+)!4  
44 小结及答疑。 F\JLbY{x]  
O-Dc[t%  
!2(.$}E  
培训信息 FnY$)o;  
HP;|'b  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司 9KXym
}  
会议主题：Zemax 成像设计 9 >%+bA(  
培训讲师：武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师 6mwvI4)  
培训时间：2022年10月26日- 27日（9：00-17：00） L5
/mO6;k  
培训费用：￥ 1980元 / 人 BjYOfu'~z  
三人及以上组团报名可享受八折优惠！ \kxh#{$z?  
报名方式：扫码报名 C+`xx('N9  
Y7-*2"!  
<div 50px"="" style="box-sizing: border-box; margin: 0px; padding: 0px; outline: none; font-size: 12px; font-family: Helvetica, Tahoma, Arial, STXihei, 黑体, "Microsoft YaHei", 华文细黑, SimSun, 宋体, Heiti, 微软雅黑, sans-serif; color: rgb(51, 51, 51); background-color: rgb(255, 255, 255);">