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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 J5@08bZm 6K2e]r
pjl%Jm |@ mz@ 任务说明 :}Jx {+N<
9(O lED!}h'4 Xj?Wvt 简要介绍衍射效率与偏振理论 # @\3{;{R 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ` Xc7b 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: #J5BHY~ pP\Cwo #, 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 jzvK;*N 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: sYTz6- , 5'o>Y 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 l,ny=Q$[1' $+eeE 光栅结构参数 g/?Vl2W 研究了一种矩形光栅结构。 WR+j?Fcf 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 c
'|*{%<e2 根据上述参数选择以下光栅参数: p^l#Wq5 光栅周期:250 nm +/OSg. 填充因子:0.5 a[{qb 光栅高度:200 nm +)jUA]hJ/ 材料n_1:熔融石英(来自目录) aRd~T6I 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 3ML][|TR T2{e1 =Z7 "tEp8m ?pL|eS7 偏振态分析 HG]ARgOB 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ,@"yr>Q9#6 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 31n"w; 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 $-_" SWG. %$BRQ-O H`[FC|RYyE 5-dt0I@< 模拟光栅的偏振态 +h)"m/mE VPCI5mS_
B'/U#>/ gI:g/ R 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: t Cuvb 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 tpI/Ibq 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 *0U#Z]t 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 b"g^Jm! j * :"*' Passilly等人更深入的光栅案例。 UMcM&yu- Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 g4W$MI 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 -]%EX:bm k|fM9E
q NGR6i hB?#b`i^ 光栅结构参数 lp*5;Ls'q 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 /%YW[oY{V 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ,Csdon 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 1$Up7=Dr= 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 kV-<[5AWW
DksYKv $.,PteYK 光栅#1——参数 bbL\ xq^ 假设侧壁倾斜为线性。 lyL6w1 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 %6ckau1_; 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 3qV^RW& 光栅周期:250 nm o*T?f)_[p 光栅高度:660 nm <?7CwW 填充因子:0.75(底部) Ust +g4 侧壁角度:±6° +;,{`*W+N n_1:1.46 74_?@Z( n_2:2.08 pI@71~|R 5N9Cd[4
%/eG{oh- TF%n1H-sF 光栅#1——结果 Uahh|>s 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 `!8\|/ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 "t2T*'j{ 8;M,l2pmR{
k(f),_ mbAzn 光栅#2——参数 l@4pZkdq 假设光栅为矩形。 HOD?i_ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 g.\b@0Uy' 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 :7@[=n 光栅周期:250 nm [w](x 光栅高度:490 nm H
Qj,0#J) 填充因子:0.5 HX.K{!5 n_1:1.46 $y;w@^ n_2:2.08 ]xf89[;0 /@"mQx~[q Rd(8j+Q?ps "'BDVxp'w 光栅#2——结果 h5{//0 y 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 U["<f`z4\ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 {F_>cyR *wAX&+); 4=MVn }51QUFhL0
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