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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 (f Gmjx ~3,>TV
OC(S"&D PAYbsn 任务说明 l'Oz-p.@ Zq,[se'nh" N*vBu` CJn{tP 简要介绍衍射效率与偏振理论 c,wYXnJ_t 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 r8]y1
Om< 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: y,D@[*~Xb zk#NM"C+ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 uv&??F]/ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: HNFG:t9 Z>9uVBE02 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 i .O670D olHT* mr 光栅结构参数 MM+x}g.? 研究了一种矩形光栅结构。 . 5cL+G1k# 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 p }p@])}8 根据上述参数选择以下光栅参数: mgODJ 光栅周期:250 nm
>M2~BDZ 填充因子:0.5 2 %`~DVo 光栅高度:200 nm ^(w%m# 材料n_1:熔融石英(来自目录) z' oK
0" 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 8[PD`*w #pe#(xoI $oPx2sb +-s$Htx 偏振态分析 iZ^tLnc 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 fu=GgD* 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 R]LRgfi9 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 /b|V=j}W G}|!Jdr vS@;D7ep a/@F?\A 模拟光栅的偏振态 `f|Gw5R _S$SL%;\
LBcnBo</v )U2cS\k'7n 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 4V6^@ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 ApT8;F B 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 GBh$nVn$ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 @zQ.d{ $u ae8h Passilly等人更深入的光栅案例。 B IW?/^ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 b6]MJ0do 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 vzXfJP >'/KOK"
3QD+&9{D k=^~\$e 光栅结构参数 {E 'go] 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 2#i*'. 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 uQ(C,f[6p 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 g,k} nkIT 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 jmE\+yz
1M={8}3 :l;SG=scx 光栅#1——参数 '5usPD 假设侧壁倾斜为线性。 i".nnAI: 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ]%Db %A 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ,E._A(Z 光栅周期:250 nm "p"M9P' 光栅高度:660 nm \nzaF4+$ 填充因子:0.75(底部) i&di}x 侧壁角度:±6° ?=FRnpU? n_1:1.46 ;^"#3_7T] n_2:2.08 KAFx^JLo bTd94
5McOSy ;_nV*G.y#^ 光栅#1——结果 9kO}054 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 [YTOrN 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ^&|KuI+u QnZ7e#@UP
`Lr I^9Z R'z
-#*[ 光栅#2——参数 g'pB<?'E' 假设光栅为矩形。 'CfM'f3uu 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 &F 3'tf? 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 PF+SHT'4}# 光栅周期:250 nm LJh^-FQ 光栅高度:490 nm ;+Sc Vz 填充因子:0.5 +\ZaVi n_1:1.46 `,7;2ZG~O n_2:2.08 .wPu
#* !xRboPg jTh^#Q aj|gt 光栅#2——结果 >39\u&) 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 b]oPx8*' 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 GEGg
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