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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ?V(^YFzZ Td\o9
{d3<W N "h"NW[R 任务说明 3)Ac"nuyqH L,[;k |AhF7Mj* AasZuO_I 简要介绍衍射效率与偏振理论 ?*"srE,#JX 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 W
!}{$ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: }CGSEr4'w~ 95W?{>
@ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ~g;
如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: K{ fsn4rk LaMLv<)k 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 "B7`'jz xJ8%<RR!t 光栅结构参数 9nSWE W 研究了一种矩形光栅结构。 T(?HMyg3 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 v4/-b4ET 根据上述参数选择以下光栅参数: C#pZw[ 光栅周期:250 nm TCKu,}s 填充因子:0.5 Rf-[svA 光栅高度:200 nm =}!Mf' 材料n_1:熔融石英(来自目录) tiPa6tQ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ecJ6 *LC+ PZV@ &[mZD, Y.#:HRtgW 偏振态分析 F/d7q%I 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 6vKS".4C 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ,"0)6=AE 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 #K\?E.9h FCj{AD $
<8~k^ VZn=rw 模拟光栅的偏振态 07g':QU@ zvc`3
FyoEQ%.bI bizTd 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: a&{X!:X 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 <+j)P4O4 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 U5HKRO 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 -Ng'<7 hg@}@Wq\) Passilly等人更深入的光栅案例。 ,B}I?vN. Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 zLw{ {| 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 Q;Wj?8} &)F*@C-
YV4#%I!< |C%Pjl^YkV 光栅结构参数 2I1uX&g 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 zQ6p+R7D 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 %6%<?jZ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 `fXyWrz-k 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 )3<:tV8
w2O!M!1 ZSy?T 光栅#1——参数 2L_6x<u' 假设侧壁倾斜为线性。 AwUi+|7r]) 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 3VnQnd E 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 gwd (N 光栅周期:250 nm RPnRVJ&"Z 光栅高度:660 nm d'6|: z9c 填充因子:0.75(底部) ma$Prd 侧壁角度:±6° nz1'? _5 n_1:1.46 #3=P4FUz. n_2:2.08 2f`nMW DmVP
}ov&.,vQ 2 !"
XzdD 光栅#1——结果 KfCoe[Vv 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 &5{xXWJK 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 . v@>JZC ~9\WFF/
6pOx'u>h+ /%aiEhL 光栅#2——参数 5m:i6,4 假设光栅为矩形。 gnp~OVDqfL 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 <mMTD8Sx] 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 V}o n|A 光栅周期:250 nm 2O"P2(1}v 光栅高度:490 nm Do%-B1{ri 填充因子:0.5 IL/Yc1 n_1:1.46 %owsBO+ n_2:2.08 /"H`.LD.? )Rat0$6 =$8nUX` kPBV6+d~ 光栅#2——结果 L\{IljA 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 Cd79 tu| 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 d%I"/8-J $N']TN b*fgv9Kh' :!;'J/B@..
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