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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 6iVxc|Ia T0wW<_jh
{f/~1G[M SA&Rep^ 任务说明 h5*JkRm !"?#6-,Xn ^S4d:-.3 (9''MlGd% 简要介绍衍射效率与偏振理论 2Q/x@aT,h 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 M'?,] an 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: pnl{&<$C%C /?uPEKr 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 g/ T
如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: }"nItcp.1 CpUkCgg 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 $O&b`` $Xv* ,Bq 光栅结构参数 |s7s6k)mm 研究了一种矩形光栅结构。 "%`1]Fr 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 >:74%D0UF 根据上述参数选择以下光栅参数: 6KXtcXQ 光栅周期:250 nm 5kc/Y/4o 填充因子:0.5 ~qiJR`Jj 光栅高度:200 nm ity & v9 材料n_1:熔融石英(来自目录) ,Xu-@br{ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) .[]r}[ lU Go5J%&E9 [^WC lRF m|SUV 偏振态分析 wcrCEX=I>{ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 tURu0`]( 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 l.67++_ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 wT6"U$cV du<tGsy &PR5q7 [>jbhV' 模拟光栅的偏振态 .p<:II:6 [T8WThs
u(z$fG:g L7n D| 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: kYzIp 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 `!obGMTQ< 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Xpr?Kgz 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 XQY#716) QmQ=q7 Passilly等人更深入的光栅案例。 JA %J$d Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 5#HW2"7 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 tIWmp30S 0eT(J7[ <
JB%',J $h+1u$po 光栅结构参数 OSRp0G20k\ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Y4J3-wK5 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 M,j U}yD3 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 +Zb;Vn4 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 $iN"9N%l
6|gCuT4 )MtF23k)g 光栅#1——参数 8EZ$g<} 假设侧壁倾斜为线性。 x)
,eI'mf 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 57'*w]4f 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 G~F b 光栅周期:250 nm Q7HRzA^- 光栅高度:660 nm Uf1!qP/H? 填充因子:0.75(底部) ~k"=4j9 侧壁角度:±6° B al`y n_1:1.46 aHV;N#Lx3 n_2:2.08 ?k+xSV +cJL7=V&
6gL#C& cutu DZ 光栅#1——结果 LGq'WU31:) 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 I5X|(0es 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 .6ylZ } +TORR?
1D7nkAy Ab~3{Q]# 光栅#2——参数 4svBzZdr 假设光栅为矩形。 XD!W: uvb 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 1rNzJ;' 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 WQx?[tW(U 光栅周期:250 nm dph{74Dc 光栅高度:490 nm Giid~e33 填充因子:0.5 ;nI] !g: n_1:1.46 U#0Q) n_2:2.08 lXx=But EB0TTJR?# OsTc5K.U~ g1;:KzVv 光栅#2——结果 vt/x
,Y 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 v3*_9e 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Z|&MKG24 fnpYT:%fG
M f}~{+ 272q1~&
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