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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 3^'#ny?l |o|gP8
xdCs5ko GPMrs)J*! 任务说明 z?I+u*rF6 M,ppCHy/$ FSFFk~ l~4_s/ 简要介绍衍射效率与偏振理论 vs+We*8H 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 hzW{_Q.|? 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: ws.?cCTpt i+U@\:= 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 Th_Q
owk 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: HUK"OH R9bhC9NP 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 <( cM*kV `B:B7Cpvn 光栅结构参数 `D4oAx d9 研究了一种矩形光栅结构。
dD : 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 jC#`PA3m= 根据上述参数选择以下光栅参数: U8EJC
.e&O 光栅周期:250 nm C{DlcZ< 填充因子:0.5 7 kEx48 光栅高度:200 nm /rn" 材料n_1:熔融石英(来自目录) 0`V3s]%iu 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Ng?apaIi@~ mJSK; @w<O n9N#&Q"7m
Cc@=? 偏振态分析 UwZu:[T6H 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 Czq1
kz 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 B>{|'z?%> 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 _{[k[] XulaPq =X)Q7u".7 y;zt_O/ 模拟光栅的偏振态 .WBI%ci x%_qJ]o
5{8x*PSl TP{>O%b 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: <WZ1- 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 6F@zCv"w 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 #;wkr)) 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ERUs0na] IXbdS9,>F Passilly等人更深入的光栅案例。 ZMdM_i? Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 0@II& 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 +9F^F>mu jl;kcGE
Cf.pTYSl Wv6z%r< 光栅结构参数 sN6 0o 7. 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 qf_hb 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 "z^BKb5 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 qk_p}l-F1 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 d9`3EP)n
3I'M6WA t}5'(9 光栅#1——参数 &:;/]cwj 假设侧壁倾斜为线性。 ?)Tz'9l 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 f o/
D3 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 dNR7e 光栅周期:250 nm zF[3%qZE:T 光栅高度:660 nm =fKhXd 填充因子:0.75(底部) J0IdFFZ|w 侧壁角度:±6° %Nwyx;>9^K n_1:1.46 *%ed;>6:Q n_2:2.08 |#DC.Ga! s[0prm5.
{B'Gm]4 D)H?=G 光栅#1——结果 y8<lp+ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 x:f|3"\s 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 +Z 93` wc<2Uc
DBj;P|L_ OhSt6&+ 光栅#2——参数 xm<5S;E5U4 假设光栅为矩形。 yDCooX0 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 'DL;c@}37 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 [oQ`HX1g 光栅周期:250 nm #U",,*2 光栅高度:490 nm G/LXUhuif 填充因子:0.5 t7U,AQ=;P5 n_1:1.46 TS\A`{^T n_2:2.08 vSyi}5D *tq|x[< "6`)vgI~ tF#b&za 光栅#2——结果 C:tSCNH[ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 h 7(H%(^_ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 HKEop bMK#^ZoH 3/A[LL| \,@Yl.,+
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