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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 *\wf(o>Q k1WyV_3
,H su;I~ w?p8)Q6m
任务说明 (WS<6j[q 1]jUiX=T z;i4F.p a% 82I::t 简要介绍衍射效率与偏振理论 M$LzV}k 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 q/YO5>s15 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Jbz>j\ 7)3cq}]O 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 >5]w\^QN9_ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: o&:n>:im C)s*1@af 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ,%]s:vk[u #9hSo 光栅结构参数 TsZX'Yn 研究了一种矩形光栅结构。
DWJkN4}o 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 qT_E=)1 根据上述参数选择以下光栅参数: \"@ `Rf
光栅周期:250 nm e%DF9}M 填充因子:0.5 @sb00ad2q 光栅高度:200 nm D61e 材料n_1:熔融石英(来自目录) m-!z(vcn 材料n_2:二氧化钛(来自目录) !' @ 4?&CK _b 8XF&O ?GGh )";y 偏振态分析 zn{[]J 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 fYv{M; 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 !J@pox-t 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 mkmVDRK j2|!h%{nI kOuQR$9s
cYEe`?* 模拟光栅的偏振态 Pi|oO-M 6Bm2_B
6hm6h7$F1 KbV%8nx!! 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 6ypqnOTr 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 X{riI^( 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 *:A)j?( 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 l+V5dZ8W }"?KHy Passilly等人更深入的光栅案例。 >(HUW^T/9z Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 !P26$US%P 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 L:F:ZOM6` =<[ZFO~v
Q-N.23\1 &_E*]Sj\ 光栅结构参数 57b;{kl 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 YR`Mi.,Sfm 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 $rC`)"t 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 8Lpy`He 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ZvO:!u0+"
9? W38EF a[8_O- 光栅#1——参数 8)k.lPoo. 假设侧壁倾斜为线性。 4[&6yHJ^ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 @*O(dw 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 %tzz3Y 光栅周期:250 nm b\\?aR
| 光栅高度:660 nm {:enoV" 填充因子:0.75(底部) y!^RL,HIL 侧壁角度:±6° ':w6{b n_1:1.46 c~|/,FZU' n_2:2.08 <`9:hPp0 &,&oTd.
\ca4X{x 4"j5@bppJ 光栅#1——结果 yK&)H+v 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 2s6Hr;^w.1 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 8YN+
\ +o/;bm*U<K
q#Qr@Jf }%R6Su]y 光栅#2——参数 {+t'XkA 假设光栅为矩形。 =4MiV] 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 5>w>J 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 O!]wJ 光栅周期:250 nm +V8yv-/{ 光栅高度:490 nm .+B)@? 填充因子:0.5 3G8uXB_`} n_1:1.46 l>&)_:\ n_2:2.08 oa1a5+A "rjJ"u1 n(f&uV_): @3S2Xb{ra1 光栅#2——结果 ?\#4`9 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 %e1vq 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 V`WfJ>{;Z +ic~Sar G:e} >' sfrh+o57
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