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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 fp tIc#4 P9s_2KOF
[Xq<EEb om>VQ3 任务说明 1lsLG+Rpxi \j:AR4 :P,2K5]y Uuz?8/w}# 简要介绍衍射效率与偏振理论 j-6v2MH 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Z)5klg$c 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Pt(tRH B }7Jp :. qk 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 i pwW%"6 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: !-ZP*V3}h zhjJ>d%w 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 PLdf_/]- ?yf_Dt 光栅结构参数 jr:drzr{I 研究了一种矩形光栅结构。 7JS#a=D# 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 nNu[c[V 根据上述参数选择以下光栅参数: 0$l&i=L 光栅周期:250 nm $ hoYkA 填充因子:0.5 j3LNnZY 光栅高度:200 nm {zu/tCq? 材料n_1:熔融石英(来自目录) <ZV7|'^ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 7BS/T 'f8
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EFWo 6# R;HbkO 偏振态分析 }-dF+m: 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 3}yraX6r! 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 9T/<x-FD 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 cmae&Atotw ONNW.xHp WFXx70n 9'l.TcVm`, 模拟光栅的偏振态 ]Px:d+wX: >H8^0n)?
>|(WS.n 3C %$^$'6\77 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 80cm6?,xu 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 } cRi
A 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 /1U,+g^O> 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ddl3fl#f Q:rT 9&G Passilly等人更深入的光栅案例。 S`fu+^cv Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 cz$c)It 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 <x ^IwS Gl=@>Dc%
G6f%/m` YstXNN4 光栅结构参数 +HYN$> 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 ?|\0)wrRf 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 aIY$5^x 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 M,I68 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 k:@a[qnY
i_'|:Uy*F <1v{[F_ 光栅#1——参数 }x>}:"P;W 假设侧壁倾斜为线性。 h4B+0 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 3ZLr"O1l ) 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 PpI+@:p[ 光栅周期:250 nm =lw4 H_ 光栅高度:660 nm o<9yaQ; 填充因子:0.75(底部) Nu>sp,|A 侧壁角度:±6° 2X
qPZ]2g n_1:1.46 |E>v~qD8I n_2:2.08 =P@M&Yy' wR`w@5,d
77Q4gw~2U My`josJ`Pb 光栅#1——结果 :Q0?ub] 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 HPv&vdr3 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 9u-M! $ OgzGkc@A
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z/?= 光栅#2——参数 :~qtvs;{ 假设光栅为矩形。 qkZ5+2m 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 U>3%!83kF 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ,_e/a 光栅周期:250 nm x _YV{ 光栅高度:490 nm J%O[@jX1 填充因子:0.5 Y'+F0IZ+ n_1:1.46 ZIGbwL n_2:2.08 ZipK;!9by w2M
IY_N? .yHHogbt l72ie 光栅#2——结果 ?()E5 4y 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 z!Pdivx 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Sf.8Ibw JXZ:Wg %3@RZe !@]h@MC$7
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