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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 o&t*[# <~ Dq8If
2jVvK"C |Q(3rcOrV" 任务说明 4-CGe =dT
#x 3jqV/w[- n#l~B@ 简要介绍衍射效率与偏振理论 6`h}#@ ( 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 l\/uXP? 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: a'%eyN B,q)<z6< 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ]+k]Gbty6 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: "X(9.6$_ !b"2]Qv 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 pJ3-f k"i 4wkmgS
光栅结构参数 oO3X>y{gN 研究了一种矩形光栅结构。 Ueu~803~ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 qOTo p- 根据上述参数选择以下光栅参数: !gm@QO cF 光栅周期:250 nm i*]$_\yl" 填充因子:0.5 ZBkbr 光栅高度:200 nm S"cim\9xP 材料n_1:熔融石英(来自目录) Ihd{tmr< 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Pil_zQ4 F-XL TFNB%| 7Y%Si5 偏振态分析 z41v5rB4 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
/ M@[ 8 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 *=}\cw\A 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 <74r b&*)C#7/T 6zp]SPY "$n ff=] 模拟光栅的偏振态 :'4", +w2 `
l`Ae&nc6 =3Ohy,5L 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: o3X0c6uU 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 hK UK#xx 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 1d!TU=* 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 J)EL<K$Z[ 7lx]`u> Passilly等人更深入的光栅案例。 '-BD.^!! Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 pupt__NZ)n 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 4iv&!hAc; #0:rBKm,
b(Yxsy{U Yw6uh4 光栅结构参数 n= q7*<l 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 R:`)*=rL% 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 } 4ZWAzH 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 z~th{4#E; 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 `|<? sjY
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w;490g &
h\!#X0 光栅#1——参数 2Z-QVwa*U
假设侧壁倾斜为线性。 X4JSI%E 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 iB}*<~`.Eg 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 } "&Ye 光栅周期:250 nm T930tX6"h 光栅高度:660 nm Dqc2;> 填充因子:0.75(底部) 9/=+2SZ 侧壁角度:±6° WIN3*z7oW n_1:1.46 A*{CT> n_2:2.08 2;x+#D8 A: O"N
B dP+>Ij *#1J 光栅#1——结果 HLC I 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 {(l,Uhxl"" 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 MvTp%d. m86ztP)
dwouw*8 !8Y A1 o 光栅#2——参数 _K B%g_{ 假设光栅为矩形。 yG^pND>_df 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Hb[P|pPT 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 X6j:TF 光栅周期:250 nm QabLMq@n` 光栅高度:490 nm aK8s0G!z?5 填充因子:0.5 }lP`3e n_1:1.46 $WO{!R n_2:2.08 @SI,V8i 2$'bOo L^=G(op* o?^Rw*u0/ 光栅#2——结果 *;F:6p4_ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 AwZz}J+ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 vSY
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