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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 s!IX3rz ']bw37_U,
#zf,%IYF )k^y<lC2a 任务说明 ~:JoKm`vU @> |3d J#'8]p3E @k-C>h()C 简要介绍衍射效率与偏振理论 +,Ud 3iS 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 9}|x
N8 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: WEaG/)y w!%"b03q 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 PQd*)6K:A 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: Qx")D?u \; voBU 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 T?g%I {1eW*9 光栅结构参数 <rihi:4K 研究了一种矩形光栅结构。 0SV<Pl^ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 gbrn'NT 根据上述参数选择以下光栅参数: eKUP,y;[I 光栅周期:250 nm 41v#|%\w 填充因子:0.5 <GWzdj? 光栅高度:200 nm ]*Cq'<h$ 材料n_1:熔融石英(来自目录) ^qY?x7mx1 材料n_2:二氧化钛(来自目录) S[;d\Z]~ XiL[1JM
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0[$ p:NIRs 偏振态分析 OQ&'3hv{ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 "h5.^5E6 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 h'nXV{N0 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 s'^sT=b 7_Op(C4,nC 0z$::p$%u $KVCEe!X 模拟光栅的偏振态 LO;?#e7 2EH0d6nt
R=J5L36F ]7{
e~U 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: #9glGPR( 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 MW2{w<-]7 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 K=Z.<f 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 /o^/J~/3 - i#Kpf Passilly等人更深入的光栅案例。 'Rb
tcFb Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 n52Q-6H 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 | Rj"}SC I}+9@d
Z,oCkv("n ZY|$[>X! 光栅结构参数 0!b9%I=j 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 9S|a!9J 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 &;naaV_2T 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 CB0p2WS_ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 v~A*?WU;n
9>@Vk
vpY Vb)NWXmyu 光栅#1——参数 M0$_x~ 假设侧壁倾斜为线性。 '!F'B: 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 8},: 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 zHKx,]9b 光栅周期:250 nm Qb5@e#
光栅高度:660 nm N F,<^ u 填充因子:0.75(底部) F/cA tT.M? 侧壁角度:±6° ?vfZ>7Q n_1:1.46 iS< ^MD n_2:2.08 %NDr5E^cc :'FCeS9
/E!N:g< `nRF"T_ 光栅#1——结果 )nGH$Mu 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 YkbuyUui 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 _\gCdNrD V`8\)FFG
~RH)iI <.2jQ#So 光栅#2——参数 c^<~Y$i 假设光栅为矩形。 =!G{+&j 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ^zW=s$\Fo 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 #-o 'g! 光栅周期:250 nm /Pxny3 光栅高度:490 nm V%B~ q`4 填充因子:0.5 h\2iArw8 n_1:1.46 [FZq'E"87 n_2:2.08 4hxa|f f40OVT@g oQA,57B dUUg}/ 光栅#2——结果 J0imWluhQ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 >?#zPweA 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 K)
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