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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ](K0Fwo`;" 2~c~{ jl\
NY.k. naNyGE7) 任务说明 @5<CXTdF9c ^Jx$t/t Tby,J
B^U Vhg1/EgUr 简要介绍衍射效率与偏振理论 !/I0i8T 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 +F@_Es<6 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: .T.5TMiOSq q'S
=Eav8 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 rZwB>c 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
lCb+{OB ;-@= 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ,&]MOe4@> ?IYY'fS" 光栅结构参数 `M@Ak2gcR+ 研究了一种矩形光栅结构。 >3D7tK( 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 'Bq ZOZw 根据上述参数选择以下光栅参数: ?S#\K^ 光栅周期:250 nm z,f=}t[.Y 填充因子:0.5 fCUT[d +H 光栅高度:200 nm $3P`DJo 材料n_1:熔融石英(来自目录) A7-r<s 材料n_2:二氧化钛(来自目录) kE)!<1yy2 rT7^-B* s#-eN)1R z,Lzgh 偏振态分析 .;I29yk\XS 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 [ygF0-3ND 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 TZB+lj1 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 79Bg]~}Z \ e:d)^cbh \,xFg w4 WS0JS' 模拟光栅的偏振态 'Z8aPHD 8L{u}|{
Kn}ub+
"J mh`|=M]8E 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: wD9a#AgEd 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 lpC
@I^: 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 k`YYZt]@ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 t9
F=^)s ;u-4KK Passilly等人更深入的光栅案例。 9O98Q6-s Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 i@$*Csj\9* 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 }DIF%}UK\ O!F]^'!
(4+1lOd oyeG$mpg 光栅结构参数 D<):ZfUbI 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 `/:cfP\ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 <Oz66bTze 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 wGLF%;rRe4 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 $99R| ^
v 81rfB5 %$mjJw<|& 光栅#1——参数 HnZPw&* 假设侧壁倾斜为线性。 -
q@69q 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 kX;$}7n 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 |4>:M\h
光栅周期:250 nm sdr.u 光栅高度:660 nm ycpE=fso' 填充因子:0.75(底部) kQIw/@WC 侧壁角度:±6° nX[;^v/ n_1:1.46 ; B$*)X9 n_2:2.08 x)viY5vjH .Ff_s
MCy~@)-IN J r*"V` 光栅#1——结果 @ss):FwA 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 8(lCi$ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 #PAU'u
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a%J/0'(d o#{#r@,i 光栅#2——参数 W"qL-KW 假设光栅为矩形。 O@,i1ha% 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 vLn> 4SK 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 JDhwN<0R 光栅周期:250 nm +by| 光栅高度:490 nm t9D
S]Li 填充因子:0.5 yN:>!SQ n_1:1.46 V9{B}5KC
n_2:2.08 }td6fj_{ az
bUc4M *k6$ eT\p-4b 光栅#2——结果 7}07Pit 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 t>oM%/H 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 *a4
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