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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 .i7"qq.M ()Img.TIt
}PMlG D.F1^9Q 任务说明 j<?k$8H :p1_ij]ND f'j<v @q|c|X:I 简要介绍衍射效率与偏振理论 9)F$){G]vs 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ,]@Sytky 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: (^ J2( .L)j
ql% 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 U,<?]h 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ![[:Z u\K`TWb% 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 H'@@%nO( I0bkc3 光栅结构参数 w~AO;X*Ke" 研究了一种矩形光栅结构。 |l~#qeZ% 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 }dq)d.c 根据上述参数选择以下光栅参数: _bCIVf` 光栅周期:250 nm |i(@1 l 填充因子:0.5 L>`inrpz=w 光栅高度:200 nm ^Y"|2 : 材料n_1:熔融石英(来自目录) 3|Y.+W 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 7U)w\A;~ @Bsvk9} %8KbVjn JGlp7wro 偏振态分析 dY?>:ce 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 #%/0a 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 S2V+%Z
_J 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 Gbb*p+( 1:Raa 5 K
&G [TmZ\t!5$ 模拟光栅的偏振态 |Mnc0Fgvy, ib(4Y%U6~
jq[Q>"f
9'O@8KB_ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: \`?4PQ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 a;G>56iw 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 8J0#lu 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 )%I62<N,z l=>FoJf!*< Passilly等人更深入的光栅案例。 jrO{A3<E Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 KhNE_.
Z 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 )tx!BJiZ[ %hA0
j[$+hh3: FQB6`
M 光栅结构参数 ^Zq3K 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 .#Lu/w' -M 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 EE~DU;p;] 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 sWMY
Lo 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 &bwI7cO
_lZWy$rm% _^NL{R/ 光栅#1——参数 KD8,a+GL 假设侧壁倾斜为线性。 )VkH':yCM 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 IoxdWQ4]A 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 b59NMGn 光栅周期:250 nm $G#)D^-5G 光栅高度:660 nm 8^qLGUxz 填充因子:0.75(底部) :w26d-QR( 侧壁角度:±6° NU%W9jQYS n_1:1.46 X8 n_2:2.08 =\x(Rs3 j.g9O]pi
h~.z[ a>)|SfsE 光栅#1——结果 b^&nr[DC 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Kfs|KIQ>= 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ^r^) &] I:o.%5)
*l8:%t\ ),U>AiF] 光栅#2——参数 j<'ZO)q`Q 假设光栅为矩形。 0)9'x)l: 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 fqD1Ej 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 f/%QMhM: 光栅周期:250 nm u*<knZ~ty 光栅高度:490 nm j#
!U6T 填充因子:0.5 {h}e 9 n_1:1.46 -i"?2gK n_2:2.08 S,^)\=v hD>cxo 6e:#x:O 8G|kKpX 光栅#2——结果 nQ^ c{Bm: 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 7eQc14 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 W3 2]#M= Tj,1]_`=V$ T8-,t];i I@o42% w2
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