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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 }>p)|YT"/ lSbAZ6
Z4t9q`}h @B1rtw6 任务说明 VW'e&v1 . [u-~<80 `T~M:\^D .JH3,L"S^ 简要介绍衍射效率与偏振理论 a?D\H5TF- 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 }~A-ELe: 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 0"<gg5 "b} ^xy 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 l~uRZLx 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: qWP1i7]=/ w|RG 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 bggSYhJ?\#
Q.cxen 光栅结构参数 n*-#VKK^ 研究了一种矩形光栅结构。 d;dcLe 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 u2!8'-Ai 根据上述参数选择以下光栅参数: (s"_NU j6 光栅周期:250 nm l
"d&Sgnj 填充因子:0.5 Mg;;o 光栅高度:200 nm )6!SFj>.O 材料n_1:熔融石英(来自目录) q4U?}=PD 材料n_2:二氧化钛(来自目录) o^>*aQ!7<D N\xqy-L9 e[{LNM{/# M/B_-8B_D 偏振态分析 Y6g[y\*t 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 yqB{QFXO 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 G19FSLrtA 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 {Y
IVHl ;rk}\M$+ /e\}
qq D./e|i? 模拟光栅的偏振态 FUHa"$Bg mu:Q2t^
5oORwOP A03PEaZO 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: OlV>zam 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 a0AIq44 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Iy e 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ?(ks=rRK lW7kBCsz# Passilly等人更深入的光栅案例。 8zZR%fZ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 &A%#LVjf 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 )u[2TI1 &_!BMzp4
LfF<wDvXf aeP4%h 光栅结构参数 y.mojx%?a 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 lr^- 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 YBg\L$|n 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 e6{/e+/R 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 \`4}h[
"7gS*v,r ZXr]V'Q? 光栅#1——参数 >-oa`im+ 假设侧壁倾斜为线性。 'v\!}6 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ^S, "iV 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 \@I.K+hj$ 光栅周期:250 nm }S%a] 光栅高度:660 nm 0MPsF{Xw[ 填充因子:0.75(底部) r+
vtKb 侧壁角度:±6° in B}ydk n_1:1.46 +Mg^u-(A n_2:2.08 x6F\|nb =m-_0xo
[i&z_e) R2M,VK?Wx 光栅#1——结果 zSkM8LM2 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 b8QW^Z 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 $\a;?>WA" Kji}2j'a
l:faI&o.@ y@hdN=- 光栅#2——参数 /mr&Y}7T 假设光栅为矩形。 }KZ/>Z;^ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 i*2z7M Y
矩形光栅足以表示这种光栅结构。 {\0 R[+d 光栅周期:250 nm EiT
raWV"O 光栅高度:490 nm 2|Tt3/Rn 填充因子:0.5 R %}k52` n_1:1.46 oNiS"\t n_2:2.08 o AQ92~b G+5G,|} xD_jfAH' -=g`7^qa> 光栅#2——结果 8V4Qyi|@F 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 gg8T],s1!a 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 R~c(^.|r TF3Tha] `knw1,qL" sCnZ\C@u
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