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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 fnL!@WF xqmJPbA
g3e\'B' q fadsVp 任务说明 0N_Ma')i (^eE8j/K o Ep\po1 -
Kj$A@~x 简要介绍衍射效率与偏振理论 (ai E!c 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 eZI&d;i 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: VskyRxfdW3 &>i+2c~ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 L
a0H 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 9i,QCA sJt&`k Z 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 S%mN6b~{ JAmv 7GL'6 光栅结构参数 &q``CCOF& 研究了一种矩形光栅结构。 ra_`NsKF} 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 XZZ Ml 根据上述参数选择以下光栅参数: "%qGcC8 光栅周期:250 nm CuT[V?^iD 填充因子:0.5 Uu
}ai."iB 光栅高度:200 nm S>*i^If 材料n_1:熔融石英(来自目录) jW?.>( 材料n_2:二氧化钛(来自目录) So bK<6 d[-w&[iy e|"`W`"- 4q~+K'Z 偏振态分析 fCO!M1 t 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 M6pGf_qt 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 niqi DT/ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 o LuGW5wzj s-o0N{b?#' -]W AB9 n8iejdA' 模拟光栅的偏振态 i,<TaW*I + :iNoDz
c5R58#XK= BU<A+Pe> 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: uDQ
d48> 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 5s;HF |2x 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Co[ rhs 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Tx`;y| /NMd GKr Passilly等人更深入的光栅案例。 }yx'U 3 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 Ko>pwhR} 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 JV(|7Sk + [|2k(U
g[q1P:I@W \iSaxwU_ 光栅结构参数 <,HdX,5 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
^qS[2Dy 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 psgXJe$ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 e@NS=U` < 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 T AwA)Zg
w[~$.FM/ E`u=$~K 光栅#1——参数 d]0fgwwGC 假设侧壁倾斜为线性。 |9~{&<^X 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 "_}Hzpy5k 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 tm#T8iF 光栅周期:250 nm ]wER&/v" 光栅高度:660 nm Do=*bZ;A 填充因子:0.75(底部) [ -{L@ 侧壁角度:±6° mI@E>VCV[ n_1:1.46 kbM 4v G n_2:2.08 #gUM%$ A_CEpG]
sn}U4=u %kKe"$)0 光栅#1——结果 q,PB;TT 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
[^8*9?i4 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 m%qah>11 VkRvmKYl
Jc-0.^]E} h<$V ry} 光栅#2——参数 IT'~.!o7/ 假设光栅为矩形。 \3O#H 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 \2L%%M 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 _^0yE_ili 光栅周期:250 nm zY bSv~) 光栅高度:490 nm !FA^~ 填充因子:0.5 5A>W;Q\4 n_1:1.46 J2v=b?NE n_2:2.08 !D7/Ja f:KKOLm lJ62[2=V DSM,dO' 光栅#2——结果 05TZ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 u f.Zg;Vc 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 |F iL1_ 6HCP1`gg y4/>3tz; xD8x1-
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