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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 u+&BR1)C {SY@7G]
GXr9J rs.e J LT10c3 任务说明 r.lH@}i%n Oq7M1|{ Ckj2$c~ ?S~HnIn 简要介绍衍射效率与偏振理论 re2M!m6k5 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 _<6
^r 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: T4]/w|?G AA6_D?)vv 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ='`z 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: a:r8Jzr f7Y0L8D 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 lG I1LUo YiJnh47 光栅结构参数 Qj.]I0d 研究了一种矩形光栅结构。 EcxPbRg 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 "9'~6b 根据上述参数选择以下光栅参数: 5Ev9u),D+v 光栅周期:250 nm jVC`38| 填充因子:0.5 NoTEbFrV 光栅高度:200 nm #k&"Rv;, 材料n_1:熔融石英(来自目录) wzVx16Rvc 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ![h+R@_( 2BZYC5jy 9^6E>S{= O-J;iX } 偏振态分析 "(zvI>A 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ZJ}9g(X..g 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 D99g} 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 '3TwrY?- BgRfy2: xP#vAR )9I>y2WU~ 模拟光栅的偏振态 }{T9`^V:h O=~8+sa
Ir&rTGFN
W; yNg 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: me:~q#k 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 O#LG$Y
n* 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 yY_(o]k 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 nGQc;p5; %:2EoXN" Passilly等人更深入的光栅案例。 5pSo`) Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 p4mi\~Q 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 POvxZU -FQ!
'D`O4TsP> ;;e\"%}@=q 光栅结构参数 <7'`N\a 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Geyy!sr`` 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 p7et>;WRx 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 0U|t@&q 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 p]h;M
;iT@41)7 KaVNRS 光栅#1——参数 Vw-,G7v&E 假设侧壁倾斜为线性。 4'3do>! 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 eS#kDa/ % 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 q^!_jMN5 光栅周期:250 nm ` 9;0Y 光栅高度:660 nm zs/4tNXw 填充因子:0.75(底部) -55[3=# 侧壁角度:±6° UWU(6J|Fk n_1:1.46 eTg8I/)%B n_2:2.08 di.yh3N$ a8 X}r.
o;'E("!<Z MoAie|MKe 光栅#1——结果 /{1s U}k- 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ga?:k,xv 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 X0:V5
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Jw z<_&4)2{ 光栅#2——参数 *Bfo"["0. 假设光栅为矩形。 f^JiaU4 [ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 u<L<o2 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ;R5@]Hg6q 光栅周期:250 nm mJxr"cwHl 光栅高度:490 nm R*[X. H 填充因子:0.5 #|PPkg%v< n_1:1.46 N5PW] n_2:2.08 rn$G.SMgz ]ilQq~X <OH{7>V yj$$k~@ 光栅#2——结果 ,(u-q]8
这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 n~"qbtp} 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 jgvzp awXK9}. ol0i^d*9F e{EC#%x_
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