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内容简介： 1^H<+0
7q{v9xKy 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； kAQ\t?`x
3sg)]3jm2 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 >G3 J3P(
@9kk
f{? 结构设计 $85o%siS' 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 iDkWW
M3Z Jt' | # #+ 8GLQM 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 Kp=3\) &
U-]PWt?C{ / jL{JF>I 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 5_tK3Q8?
r;6YCI=z 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 X)R] a]1A 5tCq}]q#P 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 _ ~#C $-T
HOQ
_T4 Xi`U`7?D(= 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 FLn AN; sFz4^Kn  ^[\53\R~
"?0 G^zu hpi_0lMkI VflPNzixb! 导出加工数据 7 Caap/L:
Nm:<rI,^ 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) : )V0zHo&(
,HO/Q6;N ;< )-*?m9 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 yURh4@
tlxjs]{0E 8RT0&[ 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 ]}Hv,a
Pg8=  T^H ) lC#R
z)y(31K<1 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 \hD
bv5 p~;z"Z 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 p C.P UlZ)|Ya<M 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 /@}# K P= #K*q(ei,7h tfIBsw.
导出加工数据列表 6] A\8Ty
| B WK"G ' g! _Flk LO*a>9LI 导入加工数据 >oYwzK0&
M P&4}De 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI {"AYOc>2|
Pw{{+PBu R JM9Q]#'t 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) 8$tpPOhzb
Z" nuO\zH~ p.Yg-CA 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) `l40awGCz ]`U?<9~Ob 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 1,D
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u"$HWB~@z d"uM7PMs7x  qGUe 0( 5W '|qmJ  @
MoMU 6) 导入完成，观察3D视图 I}3K,w/7mi
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QQ：2987619807
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