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内容简介: LZ}m; 7* R
%zJ 1.在VirtualLab中如何进行结构设计; C8KV<k %:N;+1 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 t03T1.:(Mg UK5u"@T 结构设计 9c{T|+] 1) 点击 ,打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 oer3DD( 3FG'A[x3O 6%Pvh- ~_ 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布,默认为振幅视图. 点击 ,将默认的振幅视图转换为相位视图,点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 e/b
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sl p]rV\,Yss 3?Fe(!@ 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口
G *
=> 3}5Ya\x 目标(Target)标签,可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 *r)dtI* KM9H<;A 光学设置(Optical Setup)标签,在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate),并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium),同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长(Wavelength)。 I#/"6%e GG
%*d] x}~Z[ bx 光学界面参数(Interface Parameters)标签,在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None),以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面,并选择像素化的高度轮廓(最临近点插值)[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 3,0b<vfSv [&sabM`Ul H"c2kno9 4) 完成结构设计,在新的LPD中设计好的结构已经包含在名为“Generated Structure Design Component”的元件中 M^{=& Uc9hv? C6A!JegU yp]z@SYA@ 导出加工数据 Q})&c.L 0IyT(1hS 1) 在LPD中双击生成的元件,可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component,简称DIC)的形式保存的,而高度轮廓以取样光学界面(Sampled interface)的形式保存,点击编辑(Edit) r0s(MyI DfX~}km }b^x#HC 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口,在结构(Structure)标签上,选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值,并进行3D预览 1L%$\0B4hm #xw3a<z ?u gI00@p:m 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中,点击鼠标右键,选择精度(Accuracy),将界面取样精度设置为5,提高取样光学界面的显示精度 q;.LK8M ,V[|c$ S59^$ \|C*b< U~w8yMxX 4) 进入界面高度离散化(Height Discontinuities)标签,将离散高度阶数(Discrete Height Levels)设置为8,通过工具(Tools)中的导出(Export)生成可用于光学界面加工的数据 O~|Y#T a H\A NH4T*R)Vz MS\?+8|SV( 5) 进入光学界面数据导出窗口 @M6F?; j>G|Xv 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 xy4P_ v oO7W" 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 N%9?8X[5 K%UjPzPWw 在GDSII/CIF标签上选择默认设置,并点击Export导出加工数据 nF]zd%h EFv^uve #u3E{NB 导出加工数据列表 Bm 4$ Sa@T#%oU N]-skz<v OHt^e7\ 导入加工数据 LTuT"}dT[ m#<Jr:- 1) 点击 ,新建一个LPD,在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件,以下简称SOI _k#GjAPM sl:1P^b @sUec 2) 双击SOI,进入其编辑窗口,点击加载(Load) ^].U?t.n) TW}].A_- @}pcj2K# 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) hV& |