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内容简介：
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C2 ~t 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； *1Q~/<W
sz5&P )X 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 ~ jR:oN
R4?OFhN9 结构设计 n+ C,v.X 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 ~"oxytJ
M.h)]S> xz @/^Cj 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 |_=o0l f
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xc7Hr~ -Qt>yzD3 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 q~3dbj
**zh>Y}6 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 8veYs` Z+ mesj?. 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 ^'UJ&UfX
,]OL[m fgb%SIi? 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 i[gq8% '
9K4A'2[  *?k~n 9n5U
?A[q/n :K S 1%/ee3 r A/jNX@S 导出加工数据 :r<uH6x|
[OH9/ " 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) 7?@s.Sz|fV
ews4qP IX!Q X 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 EF7Y 4lp
(6xrs_ea k W v)+ 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 H.8f-c-4we g3p*OYf  ~*Fbs! ;,
{x3"/sF 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 L*2YAIG ] ~;x$Z) 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 %U q uF TFX*kk &R 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 !N6/l5 kn 99'e)[\ B(x$
Ln"y[
导出加工数据列表 GqFDN],Wp
F,Ls1 67/&AiS? b%w?YR 导入加工数据 [m>kOv6>^
gZ!vRO <% 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI 95.m^~5
G(LGa2;Zg U5uO|\+) 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) 7$ vs X
o% ZtE (Rqn)<<2 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) ar-N4+!@ S#IlWU 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 $^ \8-k "
KrcL *j&^ ,KXS6:1%5Y  z1LN |+\} < cQ)*~hN  0n5{Wr$ 6) 导入完成，观察3D视图 `|Aj3a3sND
jf_xm=n  -;/;d z; >w, o|
QQ：2987619807
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