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内容简介： c_.4~>q w
7D)i ]68E 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； Zd[6-/-:
/m+\oZ
]d 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 oxg h;v*
;,jms~ik 结构设计 H83/X,"!w 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 <S` N9a
8>~\R=SC kX:d?*{KB 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 [n9X5qG~
6 2#dSd}HG @m(ja@YC 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 N'e3<
@G>Q(a*, 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 -PH!U H g i slg5 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 j= Ebk;6p
!S}4b q8e34Ly7 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 n*GsM6Y& ;chz};zY  M?zwXmTVW0
f<aJiVP 2 K&5Kt/ L]| [AyNu 导出加工数据 3Zeh$ DZ
y72=d?]W 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) 6 P6 Pl&
%N
}0,a0 v08Xe*gNU 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 )=c/{
f)/ 5%W7n} 5 U{}A\q 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 1'>wrGr b )mU 9  r @
IyK%
%qf ?_2v 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 0 X"D!G): "TboIABp:H 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 LmQS;/: _9Zwg+oO[ 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 pa@@S $( a*gzVE7W#n Z} Ld!Byz
导出加工数据列表 y6*9, CF
vUU)zZB ~ } JeP Emj !.nyIA( 导入加工数据 sF`ELrR \
p# ea i 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI Anu`F%OzB
q fQg?Mr %kRQ9I". 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) /) Pf ]
>w~ Hq9 hkhk,bhI 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) o g rh" oju}0h'1 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 l&f"qF?
7;T6hKWV[ L(bYG0ZI5C  C;C= g1I} a2MF Ze  Hmi ]qK[F 6) 导入完成，观察3D视图 >*A"tk#oR
K~ 6[zJ4  uFzvb0O`O
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QQ：2987619807
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