中国工程院院士:一个国家做不出光刻机
5月25日,在贵阳举行的2021数博会上,中国工程院院士吴汉明在会议上说,光刻机是一个全球化的结晶,如果让一个国家或者一个地区做一个光刻机是不现实的。 吴汉明院士关于光刻机的立场,引来不少人的质疑,一个国家做光刻机不现实,这不是助长别人的威风,打消自己的信心吗?的确,先进的EUV光刻机,多达十几万个零部件,ASML也是依靠全球5000多个供应商,才能完成生产。在质疑吴汉明院士的观点之前,不妨仔细研读一下院士的其他观点。在吴院士看来,研发光刻机不能成为唯一目标,打造半导体的完整产业链才是核心。依赖西方技术,建立一条7nm芯片生产线,倒不如完全国产化,打造成熟的55nm工艺。这才是吴院士的核心,光刻机很难,但不要紧盯光刻机的自研进度,应该放眼整个半导体产业。 原以为,拥有光刻机就等于拥有芯片,其实,脚踏实地,掌握完整的半导体供应链,才是立足之本。原以为,快马加鞭的造出光刻机,就能让国产芯片解套,但别忘了,光刻机十多万个零部件,自研难度不小,不能顾此失彼。与其将精力聚焦到EUV光刻机,不如分头行动,同步完善国内的半导体产业链。芯片制造需要光刻机,但光刻机不是缝纫机,拿着现成的零部件,就能组装好吗?光刻机面临着材料、光学、精密工艺、复杂图形等诸多挑战,是多学科的尖端技术融合。说白了,天天喊口号,要做光刻机,并不现实,毕竟光刻机的难度摆在这。要想逐步替换美国技术,实现芯片制造工艺的进步,就应该从产业链的底层出发,扎根到每一个关联行业,行业技术的进步、产业链供应的丰富,才能给光刻机的快速到来,带来更多可能。 |