中国工程院院士：一个国家做不出光刻机

5月25日，在贵阳举行的2021数博会上，中国工程院院士吴汉明在会议上说，光刻机是一个全球化的结晶，如果让一个国家或者一个地区做一个光刻机是不现实的。 SZ*Nr=X  
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吴汉明院士关于光刻机的立场，引来不少人的质疑，一个国家做光刻机不现实，这不是助长别人的威风，打消自己的信心吗？的确，先进的EUV光刻机，多达十几万个零部件，ASML也是依靠全球5000多个供应商，才能完成生产。在质疑吴汉明院士的观点之前，不妨仔细研读一下院士的其他观点。在吴院士看来，研发光刻机不能成为唯一目标，打造半导体的完整产业链才是核心。依赖西方技术，建立一条7nm芯片生产线，倒不如完全国产化，打造成熟的55nm工艺。这才是吴院士的核心，光刻机很难，但不要紧盯光刻机的自研进度，应该放眼整个半导体产业。 Kj+=?R~}S  
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原以为，拥有光刻机就等于拥有芯片，其实，脚踏实地，掌握完整的半导体供应链，才是立足之本。原以为，快马加鞭的造出光刻机，就能让国产芯片解套，但别忘了，光刻机十多万个零部件，自研难度不小，不能顾此失彼。与其将精力聚焦到EUV光刻机，不如分头行动，同步完善国内的半导体产业链。芯片制造需要光刻机，但光刻机不是缝纫机，拿着现成的零部件，就能组装好吗？光刻机面临着材料、光学、精密工艺、复杂图形等诸多挑战，是多学科的尖端技术融合。说白了，天天喊口号，要做光刻机，并不现实，毕竟光刻机的难度摆在这。要想逐步替换美国技术，实现芯片制造工艺的进步，就应该从产业链的底层出发，扎根到每一个关联行业，行业技术的进步、产业链供应的丰富，才能给光刻机的快速到来，带来更多可能。
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所以，吴汉明院士说的很有道理，他是站在真正的技术和科研角度，没有回避光刻机自研的难度，同时，吴院士认为新材料、新工艺和良率，才是终极挑战。正如吴院士的立场，如果连基础的产业链都没有完善，又何谈自研光刻机呢？自己造芯片的想法很好，但难度也很大，不能眼高手低、操之过急。国内很多人太关注光刻机，甚至谈光刻机色变，其实没有必要，也偏离了重心。光刻机不是哪家企业能单独做出来的，如果真的关心半导体发展，就应该站在全产业链的角度考量，显然，大多数人并不具备这种能力。因此，不要过分解读院士的表述，不要内讧，心往一处想，劲往一处使，各司其职，做好本领域的技术创新，谁都有可能成为国产光刻机的贡献者。 7/:C[J4GTN  
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