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    [资讯]ASML已完成设计制造1nm芯片的EUV光刻机 [复制链接]

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    离线cyqdesign
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-11-30
    关键词: 芯片EUV光刻机
    本月中旬,在日本东京举办了ITF论坛。论坛上,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。至少就目前而言,ASML对于3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路线规划,且1nm时代的光刻机体积将增大不少。 "tB"j9Jb  
    "!Oh#Vf  
    jfPJ5]Z  
    据称在当前台积电、三星的7nm、5nm制造中已经引入了NA=0.33的EUV曝光设备,2nm之后需要更高分辨率的曝光设备,也就是NA=0.55。好在ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计(即NXE:5000系列),预计在2022年实现商业化。 WFB|lNf&  
    Cn;H@!8<s  
    至于上文提到的尺寸为何大幅增加就是光学器件增大所致,洁净室指标也达到天花板。 NE2sD  
    sq(Ar(L<  
    阿斯麦目前在售的两款极紫外光刻机分别是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,3600D计划明年年中出货,生产效率将提升18%。 %[\x%m)  
    PnIvk]"Ab  
     
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    只看该作者 1楼 发表于: 2020-11-30
    厉害呀,1nm
    离线bairuizheng
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    只看该作者 2楼 发表于: 2020-12-01
    这么小厉害了
    离线tassy
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    只看该作者 3楼 发表于: 2020-12-01
    光刻机体积将增大。
    离线gchen0331
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    只看该作者 4楼 发表于: 2020-12-01
    中国追赶需要更多努力!
    离线tomryo
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    只看该作者 5楼 发表于: 2020-12-01
    ASML已完成设计制造1nm芯片的EUV光刻机
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    只看该作者 6楼 发表于: 2020-12-01
    啊,远远落后了
    离线likaihit
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    只看该作者 7楼 发表于: 2020-12-01
    学习前进科技
    离线redplum
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    只看该作者 8楼 发表于: 2020-12-01
    真牛逼啊
    离线copland
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    只看该作者 9楼 发表于: 2020-12-01
    设计制造1nm芯片的EUV光刻机
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