ASML已完成设计制造1nm芯片的EUV光刻机

发布:cyqdesign 2020-11-30 22:43 阅读:4540
本月中旬,在日本东京举办了ITF论坛。论坛上,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。至少就目前而言,ASML对于3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路线规划,且1nm时代的光刻机体积将增大不少。 F]&J%i F[  
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据称在当前台积电、三星的7nm、5nm制造中已经引入了NA=0.33的EUV曝光设备,2nm之后需要更高分辨率的曝光设备,也就是NA=0.55。好在ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计(即NXE:5000系列),预计在2022年实现商业化。 zvs 2j"lb  
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至于上文提到的尺寸为何大幅增加就是光学器件增大所致,洁净室指标也达到天花板。 YrcC"  
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阿斯麦目前在售的两款极紫外光刻机分别是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,3600D计划明年年中出货,生产效率将提升18%。 *[5#g3  
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关键词: 芯片EUV光刻机
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最新评论

木晗楠 2020-12-01 16:28
上次看都还只是几nm这么快1nm了
fiberlaser 2020-12-01 18:20
这太厉害了,洁净室,激光技术等都快要到天花板了吧 DppvUiQB!a  
wangjin001x 2020-12-01 19:25
ASML已完成设计制造1nm芯片的EUV光刻机
不懂想问 2020-12-01 20:11
ASML已完成设计制造1nm芯片的EUV光刻机
te67f42 2020-12-01 20:50
2020年11月中旬,在日本东京举办了ITF论坛。论坛上,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。 R63d `W  
mirrors 2020-12-01 20:56
🐂🍺
星空38 2020-12-01 20:57
据称在当前台积电、三星的7nm、5nm制造中已经引入了NA=0.33的EUV曝光设备,2nm之后需要更高分辨率的曝光设备,也就是NA=0.55。好在ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计(即NXE:5000系列),预计在2022年实现商业化。
luyk 2020-12-01 21:44
时代在进步,未来可期
谭健 2020-12-01 21:53
科技在不断进步
neikoshabo 2020-12-01 23:15
厉害了!
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