我国科学家成功研制超平整石墨烯薄膜
近日,由南京大学物理学院高力波教授团队领衔,协同学院四个青年学者团队,以“质子辅助生长超平整石墨烯薄膜”为题,在《自然》杂志上发表了将质子辅助生长用于高质量石墨烯制备的研究成果。这项工作,不仅探索出了一种可控生长超平整石墨烯薄膜的方法,更为重要的是,该团队还发现了这种生长方法的内在机制,即质子辅助,这种方法有望推广到柔性电子学、高频晶体管等更多重要的研究领域。 据悉,该成果所涉及的化学气相沉积方法(CVD)生长石墨烯,是目前制备大面积、高品质单晶晶粒或者薄膜的最主要方法。然而,由于石墨烯与基质材料能够产生强耦合作用,使得石墨烯在生长过程中会形成褶皱。这一现象严重限制了大尺度均一薄膜的制备,阻碍着二维材料的进一步发展应用。 “CVD石墨烯中的褶皱是影响其物性的重要瓶颈。”高力波告诉记者,CVD石墨烯中的褶皱,来源于石墨烯与生长基体的热胀率差异,石墨烯生长于铜或者铂等生长基体,生长温度多在600度以上,生长完成后降至室温便引起石墨烯的褶皱。褶皱的存在,会影响石墨烯的优良特性,然而,究竟在多大程度上能够影响其性能,并没有完整的对比数据。“如何彻底地消除褶皱,并制备出超平整的石墨烯薄膜,逐渐成为其品质跨越式提升的重点和难点。”高力波说道。 |