摘要 A"PmoV?lAm 017(I:V?(: VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何
结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。
k NnI$(H"H B +w< 0No 
^XbN&'^,HL *H''.6 介质目录中的斜光栅介质 d#OE) ,` -NgL4?p= 
y"o@?bny '*XX|\. 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
`dpm{s n 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。
MPxe|Wws N %K%0o- 斜光栅介质的编辑对话框 tc2e)WZP }-8ZSWog6f 
Z8yt8O ^<"^}Jh.M 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
\as^z!< 首先，光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
%=t8 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过
折射率定义。
N Zh\{! 斜光栅介质的编辑对话框 7yDWc m_y
c&rS7%
lM N3;}K = "N?v- 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。
c|,6(4j>$ 以下参数可用：
OU /=w pt - 填充率（定义光栅的上部分和下部分）
@9X+ BdQ U - z扩展（沿着z方向测量光栅高度）
kbHf dA - 倾斜
角度左（脊左侧的倾斜角）
/O$7A7Tl - 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角）
^o@N.+`&< [$bK%W{f 如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。
|[ lmW% wm<` 0} 斜光栅介质的编辑对话框 ztRe\(9bL =8!FY"c* 
#3WKm* T/ X\y y\`o 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。
r`8>@2sW1 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。
G7yR&x ^ 3{j&J - 斜光栅介质的编辑对话框 "dN4EA&QJ wP: w8O 
{"x>ewAf rbEUq.Yk]~ /l)|B 首先，必须选择涂层材料。
|sIr}} 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。
6|O2i j-J 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。
w.2[Xx~ *;noZ9{"+ 斜光栅的编辑对话框 $0OWPC1
{@7{!I|eD
q#n0!5Lv2 K\ 2UwX .e,(}_[[< 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。
S.#IC
lV 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。
:qQpBr$ NPFrn[M$ 堆栈使用的评论 6hvmp
1;Dug
\~O }V ~wE ,8vq zI -x)zyq 6 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。
;<9 dND 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。
= %\y E0# 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。
>>nt3q 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
sr*3uI-)L '0juZ~>} 斜光栅介质的采样配置 Z|h&Zd1z 1$]hyC/f 斜光栅介质采样
s?JNc4q
@o g&l; 6u '+#nm 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
<1L?Xhoc6 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。
EC]b]'._ 在右边，显示了介质的预览。
tsLi5;KA] 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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b/I_iJ8t 6]/LrM, 23 采样斜光栅#1 9AxeA2/X '|9fDzW"] 
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S"/M+m+ ] i s2OJ, 采样斜光栅#3 ,Qd;t "i}?jf
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