摘要 n#l~B@ WaPuJ5;e VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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7;I;(iY 介质目录中的斜光栅介质 >"q?P^f/ <Fi*wV
| |u }Ug O$1 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
43}uW,P 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
,/YTW@N 0iAQ;<*xi 斜光栅介质的编辑对话框 j0b>n#e7 N!//m?}
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0 {UFs1 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
y]okOEV0 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
vn+~P9SHQ 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
[ KDNKK 斜光栅介质的编辑对话框 cCuK?3V4K
n%ypxY0
|})v,
oB UL.YDU) 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
JA$RY 以下参数可用:
G+1i~&uV - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
K]'t>:G@ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
zEKVyZd*{ - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
U+Vb#U7; - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
}0C v J4 KJ 7-Vl> 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
8
KRo< O9*l6^Scw 斜光栅介质的编辑对话框 )*L=$0R Ov#G 7a"
oO^=%Mc( O|nLIfT 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
3Ct:AJeg 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
2@!B;6*8q [7\x(W-:@> 斜光栅介质的编辑对话框 \iA.{,VX d
f
j;e%H
=PjxMC._ 1'%n?\OK66 HPXJRQBE 首先,必须选择涂层材料。
L%<DLe^P`l 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
t2,?+ q$x 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
LvCX(yjZ* MJA;P7g 斜光栅的编辑对话框 RB9ZaL\
!E6QED"
&W}6Xg( 2v<O} %us#p|Ya 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
0 _N.s5~N 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
i}O.,iH as(Zb*PdH 堆栈使用的评论 +`ug?`_
tHEZuoi
l(HxZlHr r&_e3#]* nE56A#,Q, 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
hOYP~OR 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
GHO6$iM)[ 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
x@@bC=iY$ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
3pe1"maP 7b7WQ 7u 斜光栅介质的采样配置 'A9Z (( |_hIl(6F5N 斜光栅介质采样
?aguAqG$ pM~-o? V ONC<wC 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
}/4),W@< 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
* ).YU[i 在右边,显示了介质的预览。
DUwms"I,% 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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F<^f6z8 /CUBs! 采样斜光栅#1 n7|,b-
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