摘要 3sc+3-TF 5Y?L>QU" VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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xE1 eT, ai}mOyJs 介质目录中的斜光栅介质 1h(0IjG8 ?=>+LqP
}{M#EP8q+ fz;iOjr>
内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
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H!28h 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
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rTD5a H/,gro 斜光栅介质的编辑对话框 R{RwTN< <m:m &I
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:WQ^j!9' ~a%Z;Aj 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
7ByTnYe~S 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
J5*tJoCYS 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
YZP(tn 斜光栅介质的编辑对话框 Xsa2(-
aGK?x1_
MRQ.`IoS z
MLK7+ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
,_|]Ufr!a 以下参数可用:
lT4Hn;tnN - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
`/_o!(Z` - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
Gn&-X]Rrl - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
_,q) hOI - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
t
c[n&X r`%+M7 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
cbeLu'DWB. wNq;;AJ$ 斜光栅介质的编辑对话框 Hip&8NW t'9*R7=
]e>RK' 6cpw~ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
`IOs-%s 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
ur*T%b9& Fd?"- 斜光栅介质的编辑对话框 [FK<96.nt ~jK{ ,$:=
J~%K_~Li u4m,'XR }YjX3|8zL= 首先,必须选择涂层材料。
y[>;]R7' 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
9k9_mjLZ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
n$U#:aQE )Y]{HQd 斜光栅的编辑对话框 Ib|Rf;J~-
GQ*wc?f3
df*5,NV'-* uqM yoIc 7uT:b!^f[ 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
GFfq+=se 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
V<D.sd< cHcmgW\4 堆栈使用的评论 1mfs4
o8zy^zN$6
'D6T8B4 9m|kgY# 4 T(AVlI6 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
.w> 4 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
H_EB1"C;\ 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
?s\
OUr 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
fq5_G~c= \
W?R 斜光栅介质的采样配置 N-jTc?mT~& $"dR
SysB 斜光栅介质采样
!l|5z G
O$D'.t |l&vkRrN 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
H~GQ;PhRx 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
ZIPl7tTw 在右边,显示了介质的预览。
.~Fp)O:! 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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SfJA(v@E @Ukr 采样斜光栅#1 #Y0-BYa^ rEHk w
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!FA# K8 (Fynok 采样斜光栅#2 fGw^:,B &LF`
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s7g(3<( 6el;Erp 采样斜光栅#3 [cTe54n ymegr(9&K
Dq36p${\W "jTKSgv+q5 采样斜光栅#4 /&CmO>^e Dfps
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