摘要 @4P_Yfn %=i/MFGX VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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8FgF6ip M#xol/)h 介质目录中的斜光栅介质 5)p! }hWs x=V3_HI/}
7E R!>l+ %m "9 =C
内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
.Iv`B:4 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
qmq#(%Z <W VaTA|=[; 斜光栅介质的编辑对话框 xhncQhf\ 'o1lJ?~kH
kDc/]Zb% cEEnR1 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
X'usd$[. 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
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这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
{/!Yavx 斜光栅介质的编辑对话框 z#+Sf.
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HUx-8<ws p
I@!2c:} 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
?nD]p! 以下参数可用:
dSbz$Fc t - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
^aY,Wq - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
p}q]GJ - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
a-9sc6@ - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
K#]FUUnj= %wIb@km 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
hu:x,;`9H oC(.u ? 斜光栅介质的编辑对话框 C40W@*6S2 m<|fdS'@
{$v>3FG q(}#{OO 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
3s_$. 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
H@`lM~T[ 7'R7J"sY`| 斜光栅介质的编辑对话框 gOk um_ =_`cY^ib+
@0iXqM#jH 6R!AIOD> 8%^W<.Y 首先,必须选择涂层材料。
Lg+cHaA 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
(sEZNo5 n 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
5hp)Z7 +$B#] , 斜光栅的编辑对话框 9HD 5A$
d&%}u1 .
tdnd~ WSR =[`gfw -<^3!C > 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
|JTDwmR 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
BzI( L7s
_3\ 堆栈使用的评论 _&PF (/w
5} 1qo7;
9D51@b6k xd]7?L@h.I 0mI4hy 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
GD#W=O 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
N~9zQ 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
hr/|Fn+kA 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
C<N7zM wT tMr$N[@r 斜光栅介质的采样配置 NucLf6 6('xIE(R 斜光栅介质采样
IdciGS6t >TS=tK
ex)U'.^ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
$TavvO%# 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
TXfG@4~kC 在右边,显示了介质的预览。
wy?Hp* E 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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I9kBe}g3 BHZSc(-o 采样斜光栅#1 seNH/pRb A]m_&A#
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