[转载]斜光栅的高级配置 [复制链接]

摘要 [)|+F wJ  
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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。 dgc&[  
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介质目录中的斜光栅介质 i21QJ6jPcI  

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 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 '
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 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。 (%DRt4u<H  
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斜光栅介质的编辑对话框 aN'0}<s  
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 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 :ICr\FY$  
 首先，光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 v" FO  
 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过折射率定义。 JtmQzr0>  
斜光栅介质的编辑对话框 D_ ug-<QT  
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 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。 _IKQ36=  
 以下参数可用： me$$he  
- 填充率（定义光栅的上部分和下部分） R
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- z扩展（沿着z方向测量光栅高度） P:a*t[+  
- 倾斜角度左（脊左侧的倾斜角） n|Ma&qs  
- 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角） YiNo#M91  
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如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。 p1?J  
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斜光栅介质的编辑对话框 %\

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 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。 I')x]edU  
 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。 E =  ^-Z  
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斜光栅介质的编辑对话框 *IVD/9/  
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 首先，必须选择涂层材料。 _i#@t7  
 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。
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 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。 s2wwmtUCN  
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斜光栅的编辑对话框 E)RI!0Ra  
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 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。 5IwX\  
 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。 +D6-m  
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堆栈使用的评论 %kaTQ"PB  
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 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。 #J'Z5)i|  
 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。 eYnLZ&H5O  
 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。 ksxO<Y  
 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 (UbR%A|v;  
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斜光栅介质的采样配置 *q\HFI  
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斜光栅介质采样 PprQq_j  
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 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 =6L:I
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 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。 {H~8'K-  
 在右边，显示了介质的预览。 +c~O0U1  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 kV]%Q3t  
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采样斜光栅#1 g&5pfrC [  
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采样斜光栅#2 @$N*lrM2  
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采样斜光栅#3 @EH4N%fH  
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采样斜光栅#4 4
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文档信息 AyI}LQm]u  
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