[转载]斜光栅的高级配置 [复制链接]

摘要 u @?n3l  
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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。 -1DQO|q
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介质目录中的斜光栅介质 |B./5 ,nSS  
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 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 rB}Iwp8  
 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。 >\+c@o[  
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斜光栅介质的编辑对话框 I'Ui` :A  
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 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 S|CN)8Jsi  
 首先，光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 f!|7j}3  
 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过折射率定义。 Z@4BTA  
斜光栅介质的编辑对话框 \vjIw{   
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 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。 _lcx?IV  
 以下参数可用： 8E`A`z  
- 填充率（定义光栅的上部分和下部分） dUegHBw_`R  
- z扩展（沿着z方向测量光栅高度） qb'4x){  
- 倾斜角度左（脊左侧的倾斜角） e%Rg,dX  
- 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角） nd_+g2x'  
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如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。 !VBl/ aU@  
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斜光栅介质的编辑对话框 5 Sm9m*/  
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 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。 %#kml{I   
 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。 xF.n=z  
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斜光栅介质的编辑对话框 YflM*F`  
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 首先，必须选择涂层材料。 wl2P^Pj  
 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。 !:"$1kh1("  
 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。 G(joamfM  
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斜光栅的编辑对话框 <~s{&cL!%#  
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 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。 G)5R iRcs  
 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。 'y_<O|-  
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堆栈使用的评论 W5a7HkM  
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 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。 b&]_5 GGc  
 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。 :]]#X ~J  
 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。 `hpX97v  
 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 uUmkk  
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斜光栅介质的采样配置 KNvvYwFH]  

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斜光栅介质采样 q)N]*~  
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 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 ou V%*<Ki  
 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。
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 在右边，显示了介质的预览。 =o_Ua^mr  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 YL[n85l>1  
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采样斜光栅#1 v^A4%e<8^r  
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采样斜光栅#2 |J:|56kVZq  
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采样斜光栅#3 h&|PHI  
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采样斜光栅#4 Nv[MU@Tv  
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文档信息 Py72:;wn  
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