摘要 &&96kg3 r6 pz(rCs} VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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8 }Maj `n e9&+ 介质目录中的斜光栅介质 Y#U0g|UDn 7V~
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h>|IA@;|f ?V)M! 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
>+ Im:fD 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
x$bCbg !T]bz+ 斜光栅介质的编辑对话框 M>jk"*hA| 7 /DDQ
oi^pU ;@[ax{ J 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
N#X(gEV 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
%#lJn.o 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
\e?w8R.6w^ 斜光栅介质的编辑对话框 S%Z2J)H"
KKw J=za
F4&`0y: gBXbB9 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
"Za 'K+4 以下参数可用:
/JP%gD"8 - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
)TkXdA?. - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
0
|Rmb - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
+[=%W - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
Jn1(- E&b!Y' 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
-[5yp 2F-{ &8Oy *' 斜光栅介质的编辑对话框 >xm:?W R
=>)4>WT8A
<cR]-Yr~ zCpXF<_C 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
?Ns aZ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
CDRz3Hu U /m*+N9) 斜光栅介质的编辑对话框 .RWKZB IdL~0;W7
P%kJq^& 7|pF(sb0 7E)*]7B% 首先,必须选择涂层材料。
os`#:Ao5 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
c_.4~>qw 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
>^+c s^jCM +Zi@+|"BCN 斜光栅的编辑对话框 eTY""EWU
L[p[m~HjG^
UhF+},gU 'wP\VCL2> ^)[jBUT 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
P{h$> 6c 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
$_0~Jzt, JnZlz?}^ 堆栈使用的评论 ugMfpT)
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hG%J:} M}b[;/~ 5oR/Q|^ 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
#~>ykuq 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
4"y1M=he 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
N13wVx 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
dQH9NsV7g b'5L|1d 斜光栅介质的采样配置 wT+b|K I^yInrRh5 斜光栅介质采样
IA?v[xu _^"0"<, S2EeC&-AR 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
x5)YZ~5 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
r1QLSD]i6 在右边,显示了介质的预览。
2<' 1m{ 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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