摘要 WxbsD S; i`)!X:j VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
IMQ]1uq0$ [oc~iDx%W `\<37E\N} Je4Z(kj 0 介质目录中的斜光栅介质 xx*2?i BO.dz06(Rw _SZ5P>GIU Ni*Wz*o 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
(1pEEq84 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
jnuY{0(& 5/m$)wE 斜光栅介质的编辑对话框 6Ggs JU ?p[O%_Xf Swtbl`, 3Dm8[o$Z 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
}8'&r(cN4 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
pz_e =xr 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
1xnLB>jP# 斜光栅介质的编辑对话框 v|
z08\a[
SC#sax4N!=
7s'- +~ 2aNT#J"_ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
tUE'K.- 以下参数可用:
daZQz"PP - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
z&nZ<ih
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
eIPG#A - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
m4ApHM2 - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
"oc$ h.
hjz? 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
]Ql 0v"` F #y"=Cz=1u7 斜光栅介质的编辑对话框 Az*KsY{/r %4>x!{jwV ;5|1M8]=0 H*e'Cs/ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
8zQfY^/{M 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
+1{fzb>9_ (!K+P[g 斜光栅介质的编辑对话框 va{#RnU j033%p+Xc Ef7:y|? ]j.k?P$U} &m{'nRU}c 首先,必须选择涂层材料。
z
YDK $ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
rjojG59U> 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
V+B71\x< b^V'BC3 斜光栅的编辑对话框 "-i#BjZl/
%l9$a`&
A[/I#Im7 A| x:UQlu 18!VO4u\I 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
mVH,HqsXa 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
D$Kea
o$_93<zc 堆栈使用的评论 Sgj/s~j~1
Q .RO
`ti8- DvT+`X?R ,-#GX{! 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
M'jXve(=yF 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
K} x/ BhE+ 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
BnEdv8\,&s 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
9Vh_[^bR .gD km^ 斜光栅介质的采样配置 6M><(1fT Rl@$xP 斜光栅介质采样
[e4![G&y` }C~]=Z "n- pl 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
Q-('5a19J 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
79ZxqvB\ 在右边,显示了介质的预览。
ju{%'D!d9 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
pC^[ [5A jXcNAl !Cb=B #EwK"S~ 采样斜光栅#1 #8?^C]*{0 \graMu}- ,/o(|sks :('I)C 采样斜光栅#2 @l>Xnqx) WN0c%kz= 1_3?R}$Wl .Ty,_3+{#p 采样斜光栅#3 euZ(}+N& YX;nMyD?~ j.&
;c'V$. SfDQ;1? 采样斜光栅#4 xwLy|& |cu`f{E2] dQ6GhS~ <IH*\q:7 文档信息 8A/>JD3^ oFyeH )!