[求助]镀AR出现的问题，大神们求指点。 [复制链接]

图一：同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里？ ^*R(!P^  
   谢谢各位！！ +*&cz  
  图二：是与图二同一台机镀的另外一个工艺（除膜厚外，其他条件是一样的）的反射数据。 Lc<eRVNd,  
E?PGu!&u  
JO@Bf  
        图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2      nzX@:7g  
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  #$\fh;!W  
      图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2   r^HAaGpC  
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\'19BAm'  
=He.fEy  

均匀性问题，建议使用修正板 ~@I@}n  

ysc212:均匀性问题，建议使用修正板 ]A:(L9  
 (2017-06-20 09:34)  rFd@mO  

3o8\/-*<  
恩   但是第二张图只是膜厚层数不同，差异就没有第一个大。是不是第一个膜系里面有些敏感层。谢谢回复。

个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象

yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20)  H5p5S\g-)  

vzy!3Hiw  
我用的晶控，同样的修正版 膜料 镀出来的差异太大了，SIO2  H4是同一个修正板。

ITQ9(W Un  
我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量； 5%'S  
gPp(e j7  
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下； xH@'H?  
pj@Yqg/  
另外，SIO2的分布比一般的氧化物要差一点，可以选好一点的SIO2 ' 3VqkQ4  
z.j4tc9F/5  

這很清楚的。 c+wuC,  
]p\u$VY9  
若與圖一使用之MASK為同支， )5'rw<:="  
A{M+vsL  
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 gu!](yEgl  
XUf7yD  
至於圖一為什麼會這樣? 我認為是敏感層問題(薄層) S_j1=6#^  
+#9xA6,AE  
若想重複確認，可以鍍單一材料來看看他的5Q，答案即可得知。

均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多

fly6947:我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量；
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下；
....... (2017-06-29 08:46)  +[>yO _}  

A1mYkG)l  
好的   ，谢谢指导。我回头试试。

johnyu:這很清楚的。
若與圖一使用之MASK為同支，
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 .F{}~K]  
....... (2017-07-03 17:36)  FE$M[^1_  

k@'?"CP\Xq  
好的   ，谢谢指导。我也觉得单层有薄层敏感度高的。很均匀的差别。