[求助]镀AR出现的问题，大神们求指点。 [复制链接]

图一：同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里？ 9W]OtSG  
   谢谢各位！！ ~_"V7  
  图二：是与图二同一台机镀的另外一个工艺（除膜厚外，其他条件是一样的）的反射数据。 oqysfLJ  
lF.kAEC  
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        图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2      ?PTXgIC  

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  xP9h$!  
      图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2   ,ayJgAD  
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均匀性问题，建议使用修正板 ::#[lw  

ysc212:均匀性问题，建议使用修正板 F$ G)vskd  
 (2017-06-20 09:34)  e<9 ^h)G  

yUo8-OaL7  
恩   但是第二张图只是膜厚层数不同，差异就没有第一个大。是不是第一个膜系里面有些敏感层。谢谢回复。

个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象

yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20)  9"S iHp\)  

f!YlYk5  
我用的晶控，同样的修正版 膜料 镀出来的差异太大了，SIO2  H4是同一个修正板。

L|#0CRiN  
我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量； fNx!'{o"  
.7Yox1,  
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下； 1I'Q{X&B  
@?]>4+Oa0  
另外，SIO2的分布比一般的氧化物要差一点，可以选好一点的SIO2 .6rbn8h  
*mj=kJ7(  

這很清楚的。 l SKq  
=#Jx~d[C  
若與圖一使用之MASK為同支， M/[
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圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 P$y'``  
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至於圖一為什麼會這樣? 我認為是敏感層問題(薄層) [+A]E,pv]1  
E%8uQ2p(  
若想重複確認，可以鍍單一材料來看看他的5Q，答案即可得知。

均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多

fly6947:我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量；
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下；
....... (2017-06-29 08:46)  Lq.2vfA>  

D ZZRu8~  
好的   ，谢谢指导。我回头试试。

johnyu:這很清楚的。
若與圖一使用之MASK為同支，
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 ;qWSfCt/^  
....... (2017-07-03 17:36)  k w   

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好的   ，谢谢指导。我也觉得单层有薄层敏感度高的。很均匀的差别。