[求助]镀AR出现的问题，大神们求指点。 [复制链接]

图一：同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里？ Is<XMR|{  
   谢谢各位！！ OgC,oj,!/  
  图二：是与图二同一台机镀的另外一个工艺（除膜厚外，其他条件是一样的）的反射数据。 8-k`"QI=  
1ywdcg  

图片:A5254BD4984F47E3B7FB814F3297C810.jpg

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        图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2      =H;'.!77Hx  
.|hsn6i/-  

图片:9CAEB8CFAB0D98EAB544F93840406934.jpg

  G8%VL^;O*5  
      图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2   }79jyS-e  
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:3 Hz!iZM  

均匀性问题，建议使用修正板 U\qbr.<  

ysc212:均匀性问题，建议使用修正板 f]?&R c2C  
 (2017-06-20 09:34)  0~WXA=XG  

4%_c9nat  
恩   但是第二张图只是膜厚层数不同，差异就没有第一个大。是不是第一个膜系里面有些敏感层。谢谢回复。

个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象

yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20)  )E^4U9v),  

dB0 UZirb  
我用的晶控，同样的修正版 膜料 镀出来的差异太大了，SIO2  H4是同一个修正板。

N3@[95  
我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量； L/] (pXEp  
1<_/Qu>V  
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下； %%>nM'4<  
#(i pF  
另外，SIO2的分布比一般的氧化物要差一点，可以选好一点的SIO2 /@
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RwOOe7mv  

這很清楚的。 Y|Gp\  
&r4|WM/ec  
若與圖一使用之MASK為同支， DF
4CB#  
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`B;_m  
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 {ilz[LM8(  
+qC[X~\  
至於圖一為什麼會這樣? 我認為是敏感層問題(薄層) 0F/[GZ<k  
f(~N+2}  
若想重複確認，可以鍍單一材料來看看他的5Q，答案即可得知。

均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多

fly6947:我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量；
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话  高低折射率的mask单独修一下；
....... (2017-06-29 08:46)  o{,IO!q  

9AVj/?kmU  
好的   ，谢谢指导。我回头试试。

johnyu:這很清楚的。
若與圖一使用之MASK為同支，
圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。  Q(f0S  
....... (2017-07-03 17:36)  =7+%31  

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好的   ，谢谢指导。我也觉得单层有薄层敏感度高的。很均匀的差别。