大家好，最近在镀时用
TFCalc模拟的结果如下，Stack: (HL)^10 L (HL)^10，H: Si3N4，L: SiO2，其中高、低
折射率材料是用的实际
镀膜后实际测试的折射率
参数，应该比较真实吧。
-,GEv%6c 
]^@0+!
3* WS"bt 但测试结果如下，除了透射峰的位置不准确外，透射峰基本上没有了，为什么结果很差。我一直认为是吸收太大所致，但
模拟时采用的是真实测量的n、k值，多层膜吸收已经考虑之后进行的模拟，请大家帮忙分析一下，非常感谢！
2Xgx*'t\ 
Jz$ >k$!UD RWik J |s| /]aD}o K-4t dC3 v@_in(dk Mi 74Xl i ,qy&|4Jz uaxB -PZ [ 此帖被zlygsl在2017-05-08 19:41重新编辑 ]
