大家好，最近在镀时用
TFCalc模拟的结果如下，Stack: (HL)^10 L (HL)^10，H: Si3N4，L: SiO2，其中高、低
折射率材料是用的实际
镀膜后实际测试的折射率
参数，应该比较真实吧。
F$N"&<[ c ^Bf@ I
)#N)w5DU 但测试结果如下，除了透射峰的位置不准确外，透射峰基本上没有了，为什么结果很差。我一直认为是吸收太大所致，但
模拟时采用的是真实测量的n、k值，多层膜吸收已经考虑之后进行的模拟，请大家帮忙分析一下，非常感谢！
CfNHv-jDL d;daYjOm HY4X;^hF OEnJ".&V
.;8T* uhz:G~x! |X,T>{V?y S~.:B2=5K J*vy-[w [ 此帖被zlygsl在2017-05-08 19:41重新编辑 ]
