该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 `hh9"Ws%
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1. 建模任务 ^~ =9
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 _v5t<_^N
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 Aw^yH+ae
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2. 建模任务:正弦光栅 -mNQ;zI1
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x-z方向(截面视图) IFNWS,:
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光栅参数: I?Y d
周期:0.908um 3*S[eqMJc
高度:1.15um 0`hwmDiB"
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) x2wg^$F*oO
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3. 建模任务 ,cHU) j
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 nnCug
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 =v-2@=NJ`K
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4. 光滑结构的分析 83;IyvbL
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 a8uYs DS
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% Bku'H
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5. 增加一个粗糙表面 (!zM\sF
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 oh\,OW
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 womq^h6
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 4#rAm"H
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 !Yh}H<w0
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 'U)8rR
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6. 对衍射级次效率的影响 olty4kGD$V
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粗糙度参数: a-PGW2G
最小特征尺寸:20nm YFx=b!/s
总的调制高度:200nm njMLyT($
高度轮廓 5u,sx664
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效率 X<xqT
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 `Cj,HI_/*
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm WEC-<fN|Y\
总调制高度:400nm 高度轮廓 s/S+ ec3
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效率 :&$Xe1)i]
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 9p<:LZd~
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粗糙度参数: 6D^%'[4t
最小特征尺寸:40nm -A@U0=o
总调制高度:200nm LW?2}`+
高度轮廓 Mcb<[~m
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效率 YHh u^}|jQ
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 WFdem/\kX
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粗糙度参数: }q x(z^
最小特征尺寸:40nm UJs?9]x>
全高度调制:400nm *<3iEeO/R
高度轮廓 g{&PrE'e9
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效率 2 ^ kn5
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 lc-*8eS
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7. 总结 U#l.E1Z
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 A'(k
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对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 X)FQ%(H<
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 $pJ3xp&
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 m"1
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