该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 ~{Iw[,MJ
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1. 建模任务 o7!A(Eu
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 XZ
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对于该仿真,采用傅里叶模态法。 PK:Lv15"r
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2. 建模任务:正弦光栅 ]jhi"BM
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x-z方向(截面视图) &}p\&4
D",L.
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光栅参数: @GKDSS4jv
周期:0.908um pWRdI_
高度:1.15um 7#E/Q~]'6
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) 4@0aN6Os
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3. 建模任务 *LB-V%{|'
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 LLTr+@lj
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 'bl9fO4v
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4. 光滑结构的分析 :5~Dca_iU4
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 pqO3(2F9
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% 5>9Q<*
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5. 增加一个粗糙表面 Hj
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 7%"|6dw
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 ]&]G
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J0IKI,X.
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 [6VM4l"
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 -4QZ/ *
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 co\?SgE35
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6. 对衍射级次效率的影响 7{U[cG+a#
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粗糙度参数: jW#dUKS(
最小特征尺寸:20nm 65 zwi-
总的调制高度:200nm <T7@,_T
高度轮廓 h:Gs9]Lvtv
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效率 LF.i0^#J
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 yzfiH4
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm 'dwsm7Xd
总调制高度:400nm 高度轮廓 _~Od G
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效率 jR1^e$
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 _RcEfT
kN 2mPD/
粗糙度参数: dh]Hf,OLF
最小特征尺寸:40nm EM<W+YU
总调制高度:200nm k7:ISjJ
高度轮廓 bL<H$DB6
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效率 u@Gum|_=N
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 si%V63 ^lN
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粗糙度参数: =WCE "X
最小特征尺寸:40nm LU*mR{B
全高度调制:400nm $hJ 4=F
高度轮廓 X%!?\3S
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效率 BB,-HhYT0
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 ]Gm&Kn>
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7. 总结 ZWFOC,)b
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 %LdBO1D0
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 JKYtBXOl
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 fm%4ab30T
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 `T2DGv
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