该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 goMv8d
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1. 建模任务 C>MEgGP
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 XCo3pB
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对于该仿真,采用傅里叶模态法。 oe4r_EkYwW
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2. 建模任务:正弦光栅 ?q*,,+'0
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x-z方向(截面视图) h1_9Xp~N
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光栅参数: e`7dRnx&0
周期:0.908um C"gH>G
高度:1.15um f"Z2,!Z;
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) ,UveH` n-
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3. 建模任务 :TZ</3Sw
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 W,D$=Bg
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 eoGGWW@[
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4. 光滑结构的分析 (Qp53g
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 -*nd5(lY&
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% 9*ek5vPB
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5. 增加一个粗糙表面 &2Q0ii#Aa
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 GEGg
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因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 .~C[D
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 ln*_mM/Q%
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 &f"kWOe$X
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 h4,S/n
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6. 对衍射级次效率的影响 =K`]$Og}8
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粗糙度参数: T/YvCbo
最小特征尺寸:20nm (q+EP(Q
总的调制高度:200nm UPr8Q^wm
高度轮廓 PpWn+''M
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效率 :WM[[LOaC
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 x4e8;A(y
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm OLh QS_D
总调制高度:400nm 高度轮廓 #
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效率 Y?b4* me
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 fo$Ac
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粗糙度参数: mq!_/3
最小特征尺寸:40nm xZ.c@u6:
总调制高度:200nm f !D~aJ
高度轮廓 ]$xN`O4W{
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效率 Vt;!FZ
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 /GDGE }
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粗糙度参数: 0oU;Cmw.
最小特征尺寸:40nm #fTPo:*t
全高度调制:400nm :f|X$>
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高度轮廓 ,^d!K(xb
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效率 TexSUtx@$
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 )?qH#>mD6
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7. 总结 IP
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VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 0A.PfqYi
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 @*}?4wU^k
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 RLtIn!2OU
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 rh%-va9
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