该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 *Tt*\ O
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1. 建模任务 Q< q&a8~
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 M9/c8zZ
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 %EooGHGF?
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2. 建模任务:正弦光栅 NZyGC
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x-z方向(截面视图) fb 8t9sAI
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光栅参数: 9p#Laei].
周期:0.908um s2{d<0x?v
高度:1.15um s=+,F<;x.U
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) exqFwmhh
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3. 建模任务 65ctxxWv1
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 [`~E)B1Y
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 pb(YA/
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4. 光滑结构的分析 k|$08EK $
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 +P?!yH,n
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% (3DjFT3
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5. 增加一个粗糙表面 |D %m>M6
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 j9@7\N<
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 k !S0-/h
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 h01 HX
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 *OOi
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 hjVct
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6. 对衍射级次效率的影响 B?
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粗糙度参数: *9#6N2J$M
最小特征尺寸:20nm Lo^0VD!O
总的调制高度:200nm "|?zQ?E
高度轮廓 vUEG0{8l
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效率 KMO(f!?
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 !^{0vFWE
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm = GN1l[X
总调制高度:400nm 高度轮廓 BI\ )vr$
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效率 OF [y$<jM
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 ch|4"&g
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粗糙度参数: N03)G2
最小特征尺寸:40nm bXSsN\:Y@[
总调制高度:200nm dQX<X}
高度轮廓 ZY_aE
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效率 J7Z`wjX1
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 F#0y0|
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粗糙度参数: K90wX1&
最小特征尺寸:40nm %2H0JXKa,
全高度调制:400nm >K|<hzZ
高度轮廓 I-?PTr
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效率 OZDd
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 JQi+y;
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7. 总结 $w,O[PIi
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 ss{y=O%9"
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 ivgV5)".
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 v'0WE
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 j ^Tb=
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