成像光学设计培训课程更改(上海子在川上光学)根据学员建议,对课程做出以下修改: 一、增添内容 1、ZEMAX基本操作的详细步骤讲解,包括透镜组结构建立、变量与操作数设置、优化、公差分析等等; 2、离轴反射光学系统优化详细步骤; 3、近红外(SWIR)光学系统复消色差设计; 4、VR/AR眼镜设计; 5、HUD光学系统设计; 6、低畸变检测镜头设计; 7、光学设计书籍及网上流传的光学设计资料纠错; 二、次序调整 为了使课程内容安排更合理,方便学员循序渐进学习,调整了培训内容的次序;调整之后为: 1、光学设计者的任务 2、光学设计培训内容 3、ZEMAX简介及基本操作 4、近轴光学 5、像差理论 5.1、像差定义与产生原因 单色像差:球差、彗差、象散、场区、畸变 色差:垂轴色差、轴向色差 5.2、垂轴像差及垂轴像差曲线的应用 5.3、像差分布公式 6、高级像差简述 7、像差分析与评价 重点介绍zemax像差曲线应用及不同光学系统像质评价的区别 8、光学设计要求 |