如下要求,基片为晶体, 0=* 8
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% P@$/P99
p?7v$ev_
H:t$'kb`
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% yp KUkH/
w+#C-&z
544X1Ww2
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 \>:CvTzF
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 4)h]MOZ
配置的设备才能做出来,谢谢