如下要求,基片为晶体, A]_5O8<buW
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% HV}*}Ty
A/A;'9
XKQ\Ts2<k
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% 4u}jkd$]*
WLkfo6Nw
PC55A1(T
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 Y-fDYMm
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 vZJu=t
配置的设备才能做出来,谢谢