如下要求,基片为晶体, r J&1[=s
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% +_+_`q>]
q,2
@X~T
Cnc77EUD
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% /(Y\ <
~j UK-E
*rWE.4=&
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 g?`w)O7v
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么
^s%Qt
配置的设备才能做出来,谢谢