如下要求,基片为晶体, ^/H9`z;
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% I1Jo 8s
+li<y`aw0
:7&-<ae2
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% xlW`4\ Pa
=[7[F)I~O
VXM5
B
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 6~t;&)6J
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 XlPi)3m4/S
配置的设备才能做出来,谢谢