如下要求,基片为晶体, tTF<DD}8
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% ,RM8D)m\
^#Mp@HK
G+Bk!o
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% g{i= $xc
>*opE I+
;]b4O4C\
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 O!^ >YvOh
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 9_nbMs
配置的设备才能做出来,谢谢