如下要求,基片为晶体, !aa^kcEjnL
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% ~W5fJd0
jA=uK6m
]!YzbvoR
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2%
[+{ ot
RK'3b/T
;TmwIZ
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 Zx}=c4I(y
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 wIxLr{
配置的设备才能做出来,谢谢