如下要求,基片为晶体, "(>P=
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% AbC/
V \,Z (
'!I^Lfz-Z
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% !g-|@W
@YHB>rNf(7
c~K^ooS-
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 m(L]R(t
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 TXWi5f[
配置的设备才能做出来,谢谢