如下要求,基片为晶体, c,BAa*]K
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% HWbBChDF
)kA2vX^=Z
u[[/w&UV.,
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% h#R&=t1,^
9S"N4c>
sA2o2~AmM
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 }9}w8R~E
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 /,t|
!)\]
配置的设备才能做出来,谢谢