如下要求,基片为晶体, H/i<_L P
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% n85r^W
' Js?N
GAU!_M5 N
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% huAyjo
g37q/nEv
|QYZRz
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 O<`R~
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 g3rRhS
配置的设备才能做出来,谢谢