如下要求,基片为晶体, V S2p"0$3D
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% H7G*Vg
aAO[Y"-:,Y
Cca(
oV
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% T
:CsYj1
oTo'? E#
(rFY8oHD
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 lT$Vv=M
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 C]*9:lK
配置的设备才能做出来,谢谢